CN202796443U - 高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜两侧蒸镀金属膜形成双面金属化膜结构,金属膜中间形成留边,两侧金属镀层膜方阻范围为3-100Ω/□,在两端设有金属镀层部分。本实用新型提供一种高方阻多内串双面金属化膜脉冲电容器通过改进,能够提高电容器电容量的稳定性、提高工作电流和提高工作电压;整体结构简单,应用广泛,便于实施。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种电容器,具体来讲是一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器。
背景技术
随着科技水平的不断提高,极大地加速了各行各业的发展。脉冲电容器体积小,重量轻。 适用于冲击电流发生器,激光设备,避雷针测试设备等线路中。脉冲电容器在核聚变、电磁加速器、脉冲激光电源、冲击电流和冲击电压发生器等地方被广泛应用,主要用于军用整机,能库能源系统,作为主要储能元件。随着客户对整机小形化的需求越来越高,对脉冲电容器的整体稳定性要求也越来越高,传统脉冲电容器采用单镀层结构,稳定性较差,因此利用现有的产品结构已远远无法满足客户的需求,故需要加以改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足在此提供一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,提高电容器电容量稳定性。
本实用新型是这样实现的,构造一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜两侧蒸镀金属膜形成双面金属化膜结构,金属膜中间形成留边,两侧金属镀层膜方阻范围为3-100Ω/□,在两端设有金属镀层,通过改进,能够提高电容器容量稳定性,增强电流强度。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:端面两侧金属镀层方阻范围为0.1-20Ω/□,端面两侧金属镀层宽度为0.5-5㎜。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜为聚丙烯(PP)或聚酯。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:金属膜为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜宽:10-160㎜。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜厚:1-20μm。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:金属镀层部分为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。
根据本实用新型所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:留边宽度为1-6mm,如1mm、1.5 mm、2mm、2.5 mm、3mm、3.5 mm、4mm、4.5 mm、5mm、5.5 mm、6mm。
本实用新型所述双面金属化膜生产脉冲电容器可形成多内串双面金属化膜结构,比如内串数量:2-50串或者更多。
本实用新型的优点在于:本实用新型提供一种高方阻多内串双面金属化膜脉冲电容器通过改进,能够提高电容器电容量的稳定性、提高工作电流和提高工作电压;整体结构简单,应用广泛,便于实施。
附图说明
图1是本实用新型实施例1(2内串双面金属化膜)结构示意图
图2是本实用新型实施例2(3内串双面金属化膜)结构示意图
图3是本实用新型实施例3(4内串双面金属化膜)结构示意图
图4是本实用新型实施例4(5内串双面金属化膜)结构示意图
图5是本实用新型实施例5(7内串双面金属化膜)结构示意图
图6是本实用新型6内串双面金属化膜结构示意图
图7是6内串波浪分切示意图
图8是6内串普通分切示意图
图中:101、塑料介质膜,102、金属膜,103、留边,104、金属镀层。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做出详细说明:
本实用新型通过改进在此提供一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,按照如下方式实施:
实施例1:高方阻2内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属膜102形成双面金属化膜结构,金属膜102中间留边103,两侧金属膜102方阻范围为3-100Ω/□,在下层两端设有金属镀层104。所述的塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽:10-160㎜,塑料介质膜101厚:1-20μm。
实施例2:高方阻3内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属膜102中间留边103,两侧金属膜102方阻范围为3-100Ω/□,在下端设有金属镀层104。所述的塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽:10-160㎜,塑料介质膜101厚:1-20μm。
实施例3:高方阻4内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3-100Ω/□,在下两端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽:10-160㎜,塑料介质膜101厚:1-20μm。
实施例4:高方阻5内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3-100Ω/□,在上端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽:10-160㎜,塑料介质膜101厚:1-20μm。
实施例5:高方阻7内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3-100Ω/□,在下端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽:10-160㎜,塑料介质膜101厚:1-20μm。
同理本实用新型所述双面金属化膜生产脉冲电容器可形成多内串双面金属化膜结构,比如内串数量:2-50串或者更多。本实用新型各内串可按照波浪分切或普通分切方式进行实施。
Claims (8)
1.一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜(101)两侧蒸镀金属膜(102)形成双面金属化膜结构,在两端设有金属镀层(104),所述金属膜(102)中间形成留边(103),两侧金属镀层膜(102)方阻范围为3-100Ω/□。
2.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:端面两侧金属镀层(104)方阻范围为0.1-20Ω/□,端面两侧金属镀层(104)宽度为0.5-5㎜。
3.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜(101)为聚丙烯或聚酯。
4.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:金属膜(102)为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。
5.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜(101)宽:10-160㎜。
6.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜(101)厚:1-20μm。
7.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:金属镀层(104)为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。
8.根据权利要求1所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:所述留边(103)宽度为1-6mm。
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