CN202734566U - 座便器烧成支架 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及陶瓷的生产技术领域，具体地说是涉及座便器烧成支架，它包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构，所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3～5毫米，这样的座便器烧成支架具有有利于产品质量提高、使用方便的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷的生产技术领域，具体地说是涉及座便器烧成支架。
背景技术
现有技术中，座便器烧成支架是一个圈体，烧成过程中放置在座便器的下方，由于座便器具有较大的重量，在烧制的过程中，座便器坯体会变软，特别是水箱部分，往往会下沉，影响产品质量。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种有利于产品质量提高、使用方便的座便器烧成支架。
本实用新型所采取的技术方案是：座便器烧成支架，包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是：在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构。
进一步的讲，所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3～5毫米。
本使用新型的有益效果是：由于本实用新型采取了以上结构，使得这样的座便器烧成支架具有有利于产品质量提高、使用方便的优点。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
其中：1、支架本体 2、立式支撑部。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。
如图1所示，座便器烧成支架，包括支架本体1，支架本体1下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是：在所述的支架本体1在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部2，所述的立式支撑部2吻合座便器水箱下面的结构。
进一步的讲，所述的立式支撑部2的高度小于座便器水箱底部向下的距离3～5毫米。
这样，在烧制的过程中，立式支撑部2会支撑着座便器水箱下面，放置座便器变形，能够进一步提高产品质量。
Claims (2)
1.座便器烧成支架，包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是：在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构。
2.根据权利要求1所述的座便器烧成支架，其特征是：所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3～5毫米。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107266127A (zh) * | 2017-08-01 | 2017-10-20 | 汝州市荣华汝瓷开发有限公司 | 壶型满釉瓷器一次成型的满釉支烧方法 |
| CN108331126A (zh) * | 2018-01-31 | 2018-07-27 | 广东恒洁卫浴有限公司 | 一种按接本坯垫小便器 |
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| CN107266127B (zh) * | 2017-08-01 | 2021-07-09 | 汝州市荣华汝瓷开发有限公司 | 壶型满釉瓷器一次成型的满釉支烧方法 |
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