CN202661304U - 一种x射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置 - Google Patents
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Abstract
一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，包括固定底座（101）和与固定底座（101）相配适的顶盖（102），顶盖（102）内镶嵌有缓冲软垫（103）；所述固定底座（101）内垂直设有圆柱型凹槽（104），圆柱型凹槽（104）的横截面直径与所用坩埚的最大直径相配适，圆柱型凹槽（104）的深度小于所用坩埚的高度；所述固定底座（101）、顶盖（102）和缓冲软垫（103）的硬度低于坩埚的硬度。本实用新型结构简单，造价低廉，易于实现。而且可有效解决X射线荧光光谱法熔融玻璃片法中部分试样从坩埚中脱模困难、坩埚易损坏变形等问题，具有较好的实用价值。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种坩埚辅助脱模装置，特别是一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置。
背景技术
X射线荧光光谱法能用于测定元素周期表中80多个元素所组成的各种形态和性质的导体或非导体固体材料，典型样品包括玻璃、塑料、金属、矿石、耐火材料、水泥和地质物料等。X射线荧光光谱法具有制样简单、分析速度快、灵敏度及精密度高、线性范围宽等优点，在冶金及矿石分析、石油化工、出入境检验检疫中具有十分广泛的用途。
X射线荧光光谱法要求进入仪器测量的标样和未知样都必须具有同一的形貌和重现性，因此试样的制备和处理在很大程度上决定了最终的准确度和精密度。而对于粉末样品的制备常采用压片法和熔融玻璃片法。其中熔融玻璃片法相对压片法而言操作复杂，技巧性较强，但熔融后物相统一，粒度影响消除，可通过熔剂的高倍稀释降低共存元素间复杂的基体影响，准确度和精密度较高，是目前应用最普遍的制样方法。
实际使用中，熔融玻璃片法常采用铂金坩埚、瓷坩埚或石墨坩埚作为熔样载体，加入物料及熔剂后，再滴入一定量的脱模剂，以确保玻璃片从铂金模具中按一定尺寸大小无损伤完整脱离。若脱模剂加入量过少，试样粘附于模具底部无法完整脱落；若脱模剂加入量过多，过量的脱模剂会导致试样无法按一定规格成型，无法用于X荧光光谱仪测定时所用的模具，因此其用量需要严格控制。在实际操作中，常因脱模剂用量较少，导致样片很难从模具坩埚中脱离出来，需要对模具坩埚及坩埚内的样片给予一定的震动以促进脱模。对于铂金坩埚这类材质较软的坩埚来说，震动过程中常会导致坩埚变形，影响后续分析，给制样工作带来不便。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种结构简单，易于实现的X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，该装置在方便辅助坩埚内样品脱模的同时，还起到了有效保护坩埚形变的作用。
本实用新型解决现有技术问题所采用的技术方案：一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，包括固定底座和与固定底座相配适的顶盖，顶盖内镶嵌有缓冲软垫；所述固定底座内垂直设有圆柱型凹槽，圆柱型凹槽的横截面直径与所用坩埚的最大直径相配适，圆柱型凹槽的深度小于所用坩埚的高度；所述固定底座、顶盖和缓冲软垫的硬度低于坩埚的硬度。
圆柱型凹槽的深度比所用坩埚的高度小1-5 mm。
固定底座和顶盖为PVC或者塑料或者聚醚醚酮的固定底座和顶盖，所述缓冲软垫为橡胶软垫。
本实用新型的有益效果在于：本实用新型结构简单，造价低廉，易于实现。通过将内含熔融玻璃片的坩埚固定在该装置中，并给予外力进行敲击震动实现辅助脱模的目的。本实用新型而且可有效解决X射线荧光光谱法熔融玻璃片法中部分试样从坩埚中脱模困难、坩埚易损坏变形等问题，具有较好的实用价值。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中，101-固定底座，102-顶盖，103-缓冲软垫，104-圆柱型凹槽。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行说明：
图1是本实用新型的结构示意图。一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，包括固定底座101、顶盖102及缓冲软垫103。固定底座101上设有圆柱型凹槽104，实际制作时可在固定底座101上刻出圆柱型凹槽104，圆柱型凹槽104的深度比所用坩埚的高度小1-5 mm。顶盖102内镶嵌有缓冲软垫103。缓冲软垫103的存在保证了在外力敲击震动作用下坩埚不会发生变形或者损坏。其中固定底座101、顶盖102和缓冲软垫103的硬度要低于坩埚的硬度，固定底座101和顶盖102的材质优选PVC或者塑料或者聚醚醚酮，缓冲软垫103材质优选为橡胶。
使用时将滴有脱模剂的坩埚安放在圆柱型凹槽104内，取下坩埚盖，盖上顶盖102，由于圆柱形凹槽104的深度比所用坩埚的高度小1-5 mm，此时坩埚的上端沿正好卡在固定底座101上且与缓冲软垫103紧密压接。将固定底座101和顶盖102用双手夹紧并倒置，使坩埚的开口端朝下，在硬质台面敲击震动，通过震动促进坩埚内的熔融玻璃片等样片脱模。缓冲软垫103的存在可保证在外力敲击震动下坩埚不会发生变形或者损坏。
以上内容是结合具体的优选技术方案对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，其特征在于：包括固定底座（101）和与固定底座（101）相配适的顶盖（102），顶盖（102）内镶嵌有缓冲软垫（103）；所述固定底座（101）内垂直设有圆柱型凹槽（104），圆柱型凹槽（104）的横截面直径与所用坩埚的最大直径相配适，圆柱型凹槽（104）的深度小于所用坩埚的高度；所述固定底座（101）、顶盖（102）和缓冲软垫（103）的硬度低于坩埚的硬度。
2.根据权利要求1所述的一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，其特征在于：圆柱型凹槽（104）的深度比所用坩埚的高度小1-5 mm。
3.根据权利要求1所述的一种X射线荧光光谱仪用坩埚辅助脱模装置，其特征在于：固定底座（101）和顶盖（102）为PVC或者塑料或者聚醚醚酮的固定底座和顶盖，所述缓冲软垫（103）为橡胶软垫。
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Publications (1)
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2012
- 2012-06-07 CN CN 201220266540 patent/CN202661304U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
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