CN202346875U - 电镀废水处理装置自动控制系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种电镀废水处理装置自动控制系统，所述的系统包括PLC处理器，与PLC处理器相接的人机界面、信号检测系统以及受PLC处理器控制的泵；所述的信号检测系统包括位于调节池内的液位开关、位于反应池内的pH电极、ORP电极以及位于中和池内的pH电极；所述的PLC处理器控制调节池内的液位开关；所述的泵包括位于调节池和反应池之间的提升泵、位于反应池和储酸槽之间的加酸泵、位于反应池和储碱槽之间的加碱泵，位于反应池和氧化还原剂储药槽时间的氧化还原剂加药泵。本实用新型所述的电镀废水处理装置自动控制系统，将反应条件控制在最佳值附近最小的波动范围内，确保系统能够长期稳定安全的运行。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种电镀废水处理装置的控制系统，具体地说，涉及一种安装在电镀废水膜处理装置上的自动控制系统。
背景技术
电镀行业在现今的工业社会中有着举足轻重的地位，相应的电镀废水处理装置也随之发展，在各种电镀废水处理技术此起彼伏的今天，如何提高在污水处理过程中的自动化水平成为了迫切的问题。
现有的电镀污水处理装置很多由于建厂时间较早或经费投入不足，大多数厂内没有配备自动控制系统，或者采用的自控系统自控程度比较低。因此，污水处理厂的生产运行、生产管理都会受到不同程度的影响，严重时甚至会影响出水水质。因此急需要对这部分老的电镀污水处理装置自动控制系统进行改造以满足生产运行的需要。采用计算机信息、通信、自动化控制等高科技技术相结合成为电镀污水处理自动控制系统发展的趋势，基于此的PLC(可编程逻辑控制器)技术具有众多技术无可比拟的优势，它以微处理器为核心，集数据的采集、监控、控制命令下发、信号反馈为一体，是一种新型的自动控制系统。它解决了现有自控系统自控程度低、多数靠人工、维护成本高、难以正常运行的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提高电镀废水膜处理装置的自控程度，使操作更加直观、方便，节省人工成本，提高仪表控制的准确度，从而提高电镀废水的处理效率和整个系统的运行管理水平。
本实用新型的技术方案为：一种电镀废水处理装置自动控制系统，所述的系统包括PLC处理器，与PLC处理器相接的人机界面、信号检测系统以及受PLC处理器控制的泵；所述的信号检测系统包括位于调节池内的液位开关、位于反应池内的pH电极、ORP电极以及位于中和池内的pH电极；所述的PLC处理器控制调节池内的液位开关；所述的泵包括位于调节池和反应池之间的提升泵、位于反应池和储酸槽之间的加酸泵、位于反应池和储碱槽之间的加碱泵，位于反应池和氧化还原剂储药槽时间的氧化还原剂加药泵。
优选的是：所述的PLC处理器和反应池内的pH电极之间设置有pH仪表。
优选的是：所述的PLC处理器和中和池内的pH电极之间设置有pH仪表。
优选的是：所述的PLC处理器和OPR电极之间设置有ORP仪表。
优选的是：所述的人机界面为触摸屏，触摸屏内部含有存储器。
优选的是：所述的PLC处理器装于电控柜内。
优选的是：所述的电控柜上设置有手动、自动切换按钮。
本实用新型的有益效果为：本实用新型所述的电镀废水处理装置自动控制系统，将反应条件控制在最佳值附近最小的波动范围内，确保系统能够长期稳定安全的运行。
本实用新型优势在于：
1、系统由人机界面、PLC和现场仪表设备组成，集计算技术、控制技术、显示技术于一体，实现集中监测管理和分散控制，当中控微机出现故障，PLC及现场各点都能独立、稳定的工作，从根本上提高了系统可靠性。
2、PLC处理器直接控制现场设备并采集现场全部的模拟信号和开关信号，人机界面通过通信电缆并按照相应的标准协议与PLC建立通信，PLC与人机界面响应事件时间短，反应速度快，不仅提高了生产效率，而且降低生产成本和人工劳动强度，是一种非常理想的控制组合。
3、由于PLC有很强的可扩展性，以后增加控制任务时，无需再增加整个PLC系统，只需通过扩展电缆连接相应的扩展模块就可以实现，增强了系统的性价比。
附图说明
图1为本实用新型的示意图
具体实施方式
下面结合附图说明本实用新型的具体实施方式：
一种电镀废水处理装置自动控制系统，所述的系统包括PLC处理器18，与PLC处理器相接的人机界面、信号检测系统以及受PLC处理器18控制的泵；所述的信号检测系统包括位于调节池1内的液位开关2、位于反应池4内的pH电极5、ORP电极6以及位于中和池20内的pH电极21；所述的PLC处理器控制调节池1内的液位开关2；所述的泵包括位于调节池1和反应池4之间的提升泵3、位于反应池4和储酸槽12之间的加酸泵9、位于反应池4和储碱槽13之间的加碱泵10，位于反应池4和氧化还原剂储药槽14时间的氧化还原剂加药泵11。所述的PLC处理器18和反应池4内的pH电极5之间设置有pH仪表7。所述的PLC处理器18和中和池20内的pH电极21之间设置有pH仪表19。所述的PLC处理器18和OPR电极6之间设置有ORP仪表8。所述的人机界面为触摸屏16，触摸屏16内部含有存储器。所述的PLC处理器装于电控柜15内。所述的电控柜15上设置有手动、自动切换按钮17。
PLC处理器18置于电控柜15中，通过电线分别连接调节池1中的液位开关2、pH仪表7、ORP仪表8、pH仪表19以及手动/自动按钮17；
手动/自动按钮17处于自动档时，调节池1中液位上升到一定高度，液位开关2开启，同时PLC处理器18检测到信号后，将指令发给提升泵3，最终实现进水。
调节反应池4的pH和ORP过程中，首先在触摸屏16上设置所需pH值，PLC处理器18检测到该信号，与由pH电极5测得的pH实际值的反馈信号相比较，如两个值存在差距，则经过相应的程序运算，将控制信号传输至相应的加酸泵9或加碱泵10并控制其开停，以调节pH值为设定值，保证电镀废水中的重金属离子达到沉淀所需的pH值。同时，在上述pH条件下，ORP电极6测得实际ORP值后，将信号输送至控制系统并在计算机上显示，经PLC处理器18运算后，将控制信号传输至氧化还原剂加药泵11并控制其开停，以调节ORP，使电镀废水中的Cr6+等高价高毒离子还原为Cr3+低价低毒离子，使剧毒的CN-等离子氧化为无毒的CO2和N2。
调节出水中和池中20的pH值时，在PLC处理器18上设定要达到的pH值，与pH仪表19监测到的出水pH比较，若存在差距，则按照反应池4中的pH调节方法运行指令，最终达到排放标准。
PLC处理器18在接收到触摸屏16的信号后，与pH电极5检测到的信号进行比较计算，根据计算值确定在一个固定设定周期内(如20秒)所需的加药时间，并在此加药时间内控制加药泵开启，设定周期内其余时间加药泵停止。本周期结束后，继续进行下一周期的检测计算，并控制加药泵的启停。因此，当检测到的信号与设定值差值较大时则在一个设定周期内加药泵开启时间长，停止时间短；差值变小时则加药泵开启时间短，停止时间长，从而在连续运行时在搅拌机的搅拌下使检测值与设定值之间的差别由大到小，呈阻尼曲线状态不断接近，系统误差可以控制在±0.2，以保证调节的准确性。
电控柜上设有手动/自动按钮17，可以进行人工切换，以备自动控制系统出现故障。
人机交互界面上设有相应操作指令，可以实现对废水处理过程的操作、监控、控制参数在线设置和修改、记录、报表生成、故障报警及打印等功能，切换触摸屏就可以直观地了解废水处理各现场控制点的各顶废水处理工艺参数、实时工况、各工艺参数的趋势等。
以上所举实施例仅用为方便举例说明本实用新型，在本实用新型所述技术方案范畴，所属技术领域的技术人员所作各种简单变形与修饰，均应包含在以上申请专利范围中。
Claims (7)
1.一种电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的系统包括PLC处理器(18)，与PLC处理器相接的人机界面、信号检测系统以及受PLC处理器(18)控制的泵；所述的信号检测系统包括位于调节池(1)内的液位开关(2)、位于反应池(4)内的pH电极(5)、ORP电极(6)以及位于中和池(20)内的pH电极(21)；所述的PLC处理器控制调节池(1)内的液位开关(2)；所述的泵包括位于调节池(1)和反应池(4)之间的提升泵(3)、位于反应池(4)和储酸槽(12)之间的加酸泵(9)、位于反应池(4)和储碱槽(13)之间的加碱泵(10)，位于反应池(4)和氧化还原剂储药槽(14)时间的氧化还原剂加药泵(11)。
2.如权利要求1所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的PLC处理器(18)和反应池(4)内的pH电极(5)之间设置有pH仪表(7)。
3.如权利要求1所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的PLC处理器(18)和中和池(20)内的pH电极(21)之间设置有pH仪表(19)。
4.如权利要求1所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的PLC处理器(18)和OPR电极(6)之间设置有ORP仪表(8)。
5.如权利要求1所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的人机界面为触摸屏(16)，触摸屏(16)内部含有存储器。
6.如权利要求1所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的PLC处理器装于电控柜(15)内。
7.如权利要求6所述的电镀废水处理装置自动控制系统，其特征在于：所述的电控柜(15)上设置有手动、自动切换按钮(17)。
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| CN2011205264671U CN202346875U (zh) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 电镀废水处理装置自动控制系统 |
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| CN2011205264671U CN202346875U (zh) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 电镀废水处理装置自动控制系统 |
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| CN (1) | CN202346875U (zh) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN104460731A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-03-25 | 苏州莱测检测科技有限公司 | 一种ph测控装置 |
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2011
- 2011-12-16 CN CN2011205264671U patent/CN202346875U/zh not_active Expired - Fee Related
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