CN202314249U - 一种具有捶打按摩功能的足浴盆 - Google Patents

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葛军
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Abstract

一种具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆体，盆体的底面上设有下凹的凹腔；还包括一定位罩，定位罩罩设于凹腔上；还包括一按摩锤，按摩捶包括头部的按摩部和按摩部下方的杆部，按摩锤的杆部穿过定位罩并轴向伸入伸入凹腔内；凹腔内有铁芯，按摩捶的杆部与铁芯连接；凹腔外设有电磁支架，电磁支架上绕设有电磁线圈。本实用新型在使用时，电磁线圈通交流电后由电磁支架构成磁路，铁芯在磁场的作用下上下轴向运动，从而形成捶打按摩效果，通过按摩捶的按摩部来实现按摩。本实用新型可实现捶打按摩功能，按摩作用更强。

Description

一种具有捶打按摩功能的足浴盆
技术领域
本实用新型涉及一种足浴盆。
背景技术
现有的足浴盆一般都具有按摩功能，但是现有足浴盆一般采用转动的按摩球来实现按摩功能，如专利号为201020504499.7的实用新型专利所公开的足浴盆。其还存在的缺点在于：转动的按摩球的按摩作用较弱。目前还没有一种可实现捶打按摩功能的足浴盆。
发明内容
为了克服现有足浴盆的上述不足，本实用新型提供一种具有捶打按摩功能、按摩作用更强的足浴盆。
本实用新型解决其技术问题的技术方案是：一种具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆体，所述的盆体的底面上设有下凹的凹腔；
还包括一定位罩，所述的定位罩罩设于所述的凹腔上；
还包括一按摩锤，所述的按摩捶包括头部的按摩部和按摩部下方的杆部，所述按摩锤的杆部穿过所述的定位罩并轴向伸入伸入所述的凹腔内；
所述的凹腔内有铁芯，所述按摩捶的杆部与所述的铁芯连接；
所述的凹腔外设有电磁支架，所述的电磁支架上绕设有电磁线圈。
进一步，所述按摩捶的按摩部和所述的定位罩之间设有压簧，所述的压簧套在所述按摩捶的杆部外。
进一步，所述盆体底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔，所述上凹腔的直径大于所述所述下凹腔的直径，所述的铁芯位于所述的下凹腔内；
所述的定位罩包括套于所述上凹腔内的下凹口，所述下凹口的上端设有一圈定位边，所述的定位边环绕在所述上凹腔外并固接在所述盆体的底面上；
所述按摩捶的按摩部及所述的压簧位于所述定位罩的下凹口内，所述压簧的一端顶在所述按摩捶的按摩部的底面上，所述压簧的另一端顶在所述下凹口的底面上。
进一步，所述定位罩的底面所述的铁芯之间设有密封垫。
进一步，所述的铁芯与所述按摩捶的杆部螺纹连接。
进一步，所述的定位边通过螺钉固定在所述盆体的底面上。
进一步，所述铁芯的外表面设有一层防腐层。
本实用新型在使用时，电磁线圈通交流电后由电磁支架构成磁路，铁芯在磁场的作用下上下轴向运动，从而形成捶打按摩效果，通过按摩捶的按摩部来实现按摩。
本实用新型的有益效果在于：可实现捶打按摩功能，按摩作用更强。
附图说明
图1是本实用新型的俯视图。
图2是本实用新型的剖视图。
图3是图2中A部的局部方法图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
参照图1、图2、图3，一种具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆体1，所述的盆体1的底面上设有下凹的凹腔。本实施例中，所述盆体底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔2，所述上凹腔的直径大于所述所述下凹腔2的直径。
还包括一定位罩，所述的定位罩罩设于所述的凹腔上。本实施例中，所述的定位罩包括套于所述上凹腔内的下凹口3，所述下凹口3的上端设有一圈定位边4，所述的定位边4环绕在所述上凹腔外并固接在所述盆体1的底面上，本实施例中所述的定位边4通过螺钉固定在所述盆体1的底面上。
还包括一按摩锤，所述的按摩捶包括头部的按摩部5和按摩部下方的杆部6，所述按摩锤的杆部6穿过所述的定位罩并轴向伸入伸入所述的下凹腔2内。本实施例中所述按摩捶的按摩部5位于所述定位罩的下凹口3内。
所述的凹腔内有铁芯7，本实施例中铁芯7位于下凹腔2内，所述按摩捶的杆部6与所述的铁芯7连接，本实施例中所述的铁芯7与所述按摩捶的杆部6螺纹连接，所述铁芯7的外表面设有一层防腐层。本实施例中所述定位罩的底面所述的铁芯7之间设有密封垫8，可达到密封作用，尽量阻止水进入到盆体底部的凹腔内。
所述的凹腔外设有电磁支架9，所述的电磁支架9上绕设有电磁线圈。
本实施例中，所述按摩捶的按摩部5和所述的定位罩之间设有压簧10，所述的压簧10套在所述按摩捶的杆部6外。具体的，压簧10位于所述定位罩的下凹口3内，所述压簧10的一端顶在所述按摩捶的按摩部5的底面上，所述压簧10的另一端顶在所述下凹口3的底面上。压簧10使按摩捶的运行更具有弹性且对按摩捶具有支撑作用。
在使用时，电磁线圈通交流电后由电磁支架9构成磁路，铁芯7在磁场的作用下上下轴向运动，从而形成捶打按摩效果，通过按摩捶的按摩部5来实现按摩。
上述只是本实用新型的一个具体实施例，以其他结构形式来实现本实用新型之原理的其他结构形式均属于本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆体，其特征在于：所述的盆体的底面上设有下凹的凹腔；
还包括一定位罩，所述的定位罩罩设于所述的凹腔上；
还包括一按摩锤，所述的按摩捶包括头部的按摩部和按摩部下方的杆部，所述按摩锤的杆部穿过所述的定位罩并轴向伸入所述的凹腔内；
所述的凹腔内有铁芯，所述按摩捶的杆部与所述的铁芯连接；
所述的凹腔外设有电磁支架，所述的电磁支架上绕设有电磁线圈。
2.如权利要求1所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述按摩捶的按摩部和所述的定位罩之间设有压簧，所述的压簧套在所述按摩捶的杆部外。
3.如权利要求2所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述盆体底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔，所述上凹腔的直径大于所述下凹腔的直径，所述的铁芯位于所述的下凹腔内；
所述的定位罩包括套于所述上凹腔内的下凹口，所述下凹口的上端设有一圈定位边，所述的定位边环绕在所述上凹腔外并固接在所述盆体的底面上；
所述按摩捶的按摩部及所述的压簧位于所述定位罩的下凹口内，所述压簧的一端顶在所述按摩捶的按摩部的底面上，所述压簧的另一端顶在所述下凹口的底面上。
4.如权利要求1~3之一所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述定位罩的底面所述的铁芯之间设有密封垫。
5.如权利要求1~3之一所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述的铁芯与所述按摩捶的杆部螺纹连接。
6.如权利要求3所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述的定位边通过螺钉固定在所述盆体的底面上。
7.如权利要求1~3之一所述的捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于：所述铁芯的外表面设有一层防腐层。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104523421A (zh) * 2014-11-25 2015-04-22 顾洪滔 一种机械式脚部清洗按摩装置
CN105496767A (zh) * 2016-01-26 2016-04-20 上海泰昌健康科技股份有限公司 一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构
CN105962524A (zh) * 2016-06-27 2016-09-28 苏州市景荣科技有限公司 一种按摩智能防护鞋

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