CN202272949U - 用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统 - Google Patents

用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统 Download PDF

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杨海燕
杨浩
李凡
朱丽
高丽颖
李补忠
郑建宇
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Abstract

本实用新型涉及工控机控制技术，公开了一种用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统，包括上位机和多个下位工控机，上位机和下位工控机之间通过交换机连接；上位机与送料装置相连，控制送料装置是否出料及出料量；下位工控机与推拉舟和气相沉积装置内的环境控制仪器相连，控制推拉舟的运动和气相沉积装置内的环境参数。本实用新型采用一台带显示器的工控机作为上位机，通过交换机与多个不带显示器的下位工控机相连接，由上位机向下位工控机传送控制数据，实现对被控制设备的控制操作，下位工控机将被控制设备的工作状况实时反馈给上位机，由此实现数据交互和控制。该控制系统结构简单，自动化能力强，操作方便，使用和维护成本低。

Description

用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统
技术领域
本实用新型涉及工控机控制技术，特别是涉及一种用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统。
背景技术
在扩散炉、等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition，PECVD)等设备的使用中，需要监控设备中不同位置的工作状况，传统的监控装置，利用多套监控系统，将其探测传感器及摄像模块设置在需要监测的位置，而在设备外部设置带显示器的工控机，监控装置一对一地控制带显示器的工控机，利用板卡对设备实施控制。该监控装置结构复杂，所利用的硬件设备较多，并且工控机的显示器使用寿命通常较短，在使用过程中会出现故障或报废的情况，相应增加监控装置的维护费用。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是如何简化监控设备的结构，降低监控设备的使用和维护成本。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统，其包括上位机和多个下位工控机，所述上位机和下位工控机之间通过交换机连接；所述上位机与送料装置相连，控制送料装置是否出料及出料量；所述下位工控机分别与推拉舟和气相沉积装置内的环境控制仪器相连，控制推拉舟的运动和气相沉积装置内的环境参数。
其中，所述上位机上设置有显示器。
其中，所述下位工控机通过网线与交换机连接。
其中，所述环境控制仪器包括温控器和压控仪。
其中，所述上位机为TPC1570。
其中，所述下位工控机为UNO2170。
(三)有益效果
上述技术方案所提供的控制系统，采用一台带显示器的工控机作为上位机，通过交换机与多个不带显示器的下位工控机相连接，由上位机向下位工控机传送控制数据，实现对被控制设备的控制操作，下位工控机将被控制设备的工作状况实时反馈给上位机，由此实现数据交互和控制。该控制系统结构简单，自动化能力强，监控界面直观友好，操作方便，信息汇总详尽，使用和维护成本低。
附图说明
图1是本实用新型实施例的控制系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
为了满足扩散炉、PECVD等设备的控制需要，本实用新型利用网络技术采用上下位机网络通讯的方式实现对设备的控制，通过减少工控机所附带显示器的数量，来降低使用和维护成本。
具体地，图1示出了本实施例的控制系统的结构示意图，其包括带显示器的上位机和多个下位工控机，上位机和下位工控机之间通过交换机连接，上位机还与送料装置连接，下位工控机与推拉舟和气相沉积装置内的环境控制仪器连接，下位工控机通过网线与交换机连接。上位机主要用以实现对下位机数据的处理、管理以及对送料装置的控制及数据管理，并对下位机和送料装置发送各种命令，譬如执行工艺命令、开关阀门命令、上料和下料命令等，接收到上位机命令的下位机根据命令控制相应的硬件，包括推拉舟、温控器、压控仪等进行相应动作，譬如推拉舟的上下左右移动、给设备加热、向反应室内通入气体等。显示器用以显示所有与下位机连接的硬件设备的状态信息，以及相应炉管的历史数据、工艺文件、数据曲线以及人机交互界面。
本实施例中，上位机优选TPC1570，TPC1570嵌入式平板电脑带有高质量的TFT LCD显示屏，使用的处理器为Intel Celeron M600MHz/1GHz，核心处理器是Intel Celeron M 600MHz/1GHz，IntelCeleron M 600MHz/1GHz是一款低功耗处理器，工作频率为600MHZ/1GHZ。，该系统在提供强大功能的同时采用了无风扇设计，使系统运行更加可靠。此外，TPC1570采用了无运动部件的存储方案，是一套持久耐用的可靠平台。对于不需要使用无运动部件的存储应用，则可以使用一块硬盘，此硬盘的安装非常方便。它还提供了I/O端口用于特殊要求下的扩展。下位工控机优选UNO2170，UNO2170是一款高性能Celeron M控制器，支持PC/104扩展、串行通讯端口和其它网络功能。UNO，2170支持Windows XP Embedded OS和Windows CE.NET，能够提供定制的映像文件，带有优化后的板载设备驱动程序。嵌入式Windows XP Embedded能够以组件方式提供Windows操作系统的功能，用户可以方便的将自己的应用无缝整合到Windows XP Embedded中，通过使用带有丰富网络功能的应用随用平台加快用户的系统开发周期，以满足不同的应用需求。
运行在TPC1570上的应用程序SSMI与同样运行在TPC1570上的NetCommand程序进行数据交互，其中，SSMI是上位机程序，控制本实施例控制系统的人机交互界面，以显示被控制设备的状态信息等；NetCommand程序是上位机和下位工控机之间的数据交互程序，用于实现上位机和下位工控机之间的数据交互传递及相应的处理，NetCommand程序通过插在交换机上的网线与运行在UNO2170上的下位机程序进行数据的交互，用于实现对被控制设备的自动化控制，由此实现了在上位机程序进行的操作及时的发送到下位机程序上并由其实现对设备的操作，同时也将下位机程序控制获取的设备信息及时的反馈到上位机程序的界面上。
本实施例通过简单的硬件结构实现了设备通用数据的自动汇总，为设备走向自动化迈出了第一步，并开创了国内设备软件利用网络通讯技术的先河，监控界面直观友好，操作方便，信息详尽，整个网络结构紧凑，外形美观。
由以上实施例可以看出，本实用新型采用一台带显示器的工控机作为上位机，通过交换机与多个不带显示器的下位工控机相连接，由上位机向下位工控机传送控制数据，实现对被控制设备的控制操作，下位工控机将被控制设备的工作状况实时反馈给上位机，由此实现数据交互和控制。该控制系统结构简单，自动化能力强，监控界面直观友好，操作方便，信息汇总详尽，使用和维护成本低。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统，其特征在于，包括上位机和多个下位工控机，所述上位机和下位工控机之间通过交换机连接；所述上位机与送料装置相连，控制送料装置是否出料及出料量；所述下位工控机分别与推拉舟和气相沉积装置内的环境控制仪器相连，控制推拉舟的运动和气相沉积装置内的环境参数。
2.如权利要求1所述的控制系统，其特征在于，所述上位机上设置有显示器。
3.如权利要求1所述的控制系统，其特征在于，所述下位工控机通过网线与交换机连接。
4.如权利要求1所述的控制系统，其特征在于，所述环境控制仪器包括温控器和压控仪。
5.如权利要求1所述的控制系统，其特征在于，所述上位机为TPC1570。
6.如权利要求1所述的控制系统，其特征在于，所述下位工控机为UNO2170。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103834934A (zh) * 2013-12-11 2014-06-04 南方科技大学 一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统

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