CN201985077U - 一种用于半导体晶片加工的化蜡装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,所述装置包括加热盘、液蜡储存锅和化蜡筒,将所述液蜡储存锅放置在加热盘上,在所述液蜡储存锅的上端设有锅盖,在所述液蜡储存锅的下部设有带阀门的蜡液出口,将所述化蜡筒安装在所述锅盖的中心孔内,在所述化蜡筒的下端设有装有挡板,在所述挡板的下端装有滤纸架和滤纸,在所述化蜡筒的外壁上及蜡液储存锅的底部设置有空心套筒和/或电热丝,其中所述空心套筒通过管路与热水源或热蒸汽源连接。本实用新型可采用电加热化蜡,使固态蜡在封闭的环境中熔化,并使熔化的液态蜡经过过滤后使用,集化蜡与滤蜡于一体,提高了液态蜡的纯净度,提高了化蜡效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种化蜡装置,特别是一种用于半导体晶片加工的化蜡装置。
背景技术
半导体晶片的减薄工序主要采用精密研磨机对晶片进行减薄,一般是将晶片黏贴在涂有蜡的重块平面上,然后进行压片、测量、减磨。化蜡就是一个重要步骤,目前化蜡时是将蜡锅放到电炉上进行,需要专人员看管,化蜡时间长,效率低,蜡是在敞开的环境中融化,污染环境,化出的蜡纯净度差。
公开号为CN2122836的中国专利提供了一种《化蜡装置》,由电加热器和蜡槽组成,电加热器的明电阻丝横穿过支架上固定的绝缘板上的瓷管,并置于蜡槽内,明电阻丝首尾端分别与两个连接板连接,两连接板通过接点总成螺丝与电源正、负极连接,电源电压为安全电压27--32伏特,电流为130--140安培。该化蜡装置只是通过电加热化蜡,蜡仍然是在敞开的环境中融化,不能保证蜡的纯净度。
实用新型内容
本实用新型针对现有半导体晶片减薄工序中化蜡技术存在的不足,提供一种集化蜡与虑蜡于一体、液态蜡纯净度高的用于半导体晶片加工的化蜡装置
为实现上述发明目的,本实用新型的技术方案是一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,所述装置包括加热盘、液蜡储存锅和化蜡筒,其特征在于,将所述液蜡储存锅放置在加热盘上,在所述液蜡储存锅的上端设有锅盖,在所述液蜡储存锅的下部设有带阀门的蜡液出口,将所述化蜡筒安装在所述锅盖的中心孔内,在所述化蜡筒的下端设有装有挡板,在所述挡板的下端装有滤纸架和滤纸,在所述化蜡筒的外壁上及储存锅的底部设置有空心套筒和/或电热丝,其中所述套筒通过管路与热水源或热蒸汽源连接。
为了有效地控制加入液蜡储存锅的蜡液容量,优选的技术方案是,在所述液蜡储存锅内设有液位计,所述的液位计按装在所述挡板的下端。
为了避免对液蜡储存锅内的蜡液进行反复加热,优选的技术方案还包括,在所述液蜡储存锅的外壁上设有保温层。
优选的技术方案还包括,所述化蜡筒为陶瓷筒。
本实用新型的优点和有益效果在于:由于该装置可以灵活地选用采用热水、或热蒸汽、或电加热的加热方式将固体蜡熔化,并配以封闭的容器,同时熔化的液态蜡还经过了过滤处理,集化蜡与虑蜡于一体,即提高了液态蜡的纯净度,也提高了化蜡效率,再由于保温层的使用还可以节约一定的热能。
附图说明
附图是本实用新型的结构示意图。
其中:1、加热盘;2、液蜡储存锅;3、液位计;4、锅盖;5、把手;6、化蜡筒;7、电热;8、挡板;9、阀门;10、蜡液出口;11、滤纸架滤纸;12、滤网;13、空心套筒;14、保温层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
如附图所示,本实用新型是一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,所述装置包括加热盘1、液蜡储存锅2和化蜡筒6,将所述液蜡储存锅2放置在加热盘1上,在所述液蜡储存锅1的上端安装有锅盖4,在所述液蜡储存锅2的下部设有带阀门9的蜡液出口10,将所述化蜡筒6安装在所述锅盖4的中心孔内,在所述化蜡筒6的下端设有装有挡板8,在所述挡板8的下端装有滤纸架和滤纸11,在所述化蜡筒6的下端还装有滤网12,在所述化蜡6的外壁上及蜡液储存锅2的底部设置有空心套筒13和/或电热丝7,其中所述空心套筒13通过管路与热水源或热蒸汽源连接。
为了有效地控制加入液蜡储存锅的蜡液容量,本实用新型优选的实施例是,在所述液蜡储存锅2内设有液位计3,可将所述的液位计3安装在所述挡板8的下端。
为了避免对液蜡储存锅内的蜡液进行反复加热,本实用新型优选的实施例还包括,在所述液蜡储存锅2的外壁上设有保温层14。
本实用新型优选的实施例还包括,所述化蜡筒6为陶瓷筒。
本实用新型的工作过程是:
首先将液蜡储存锅2用水刷干净并用气枪吹干,盖严锅盖4,防止空气灰尘落进液蜡储存锅2内,关闭液蜡储存锅2的蜡液出口10上的阀门9,接好电热丝7的电源,或将热水源、热蒸汽源的管路接在空心套筒13侧壁上的连管上,然后在陶瓷化蜡筒6内放入蜡块。熔化后的液态蜡通过滤网12往下流,依次通过三层滤纸11过滤后流入液蜡储存锅2内暂时存放起来,这时蜡经过过滤己经达到使用要求。随着熔化液态蜡的增多,液蜡储存锅2内的液态蜡高度会不断增加,液态蜡升到一定高度时,液位计3发出信号报警,停止在化蜡筒6内加蜡。打开液蜡储存锅2上的阀门9,将液态蜡灌注于塑料或橡胶成型模内直接固化成型。装置使用完毕后,将陶瓷化蜡筒6底部的滤纸11取下,用甲苯棉球擦净滤纸承托网和陶瓷化蜡筒6,用甲苯刷洗液蜡储存锅2的内部和阀门9,以备下次使用。
当剩下的液蜡在液蜡储存锅2内凝固后,可通过底部的加热盘1加热使之再次熔化利用。保温层14用于使熔化的蜡液保持一段较长的时间,以避免反复加热熔化蜡液。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,所述装置包括加热盘、液蜡储存锅和化蜡筒,其特征在于,将所述液蜡储存锅放置在加热盘上,在所述液蜡储存锅的上端设有锅盖,在所述液蜡储存锅的下部设有带阀门的蜡液出口,将所述化蜡筒安装在所述锅盖的中心孔内,在所述化蜡筒的下端设有装有挡板,在所述挡板的下端装有滤纸架和滤纸,在所述化蜡筒的外壁上及蜡液储存锅的底部设置有空心套筒和/或电热丝,其中所述空心套筒通过管路与热水源或热蒸汽源连接。
2.根据权利要求1所述的用于半导体晶片加工的化蜡装置,其特征在于,在所述液蜡储存锅内设有液位计,所述的液位计按装在所述挡板的下端。
3.根据权利要求2所述的用于半导体晶片加工的化蜡装置,其特征在于,在所述液蜡储存锅的外壁上设有保温层。
4.根据权利要求2所述的用于半导体晶片加工的化蜡装置,其特征在于,所述化蜡筒为陶瓷筒。
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CN2011200127451U CN201985077U (zh) | 2011-01-17 | 2011-01-17 | 一种用于半导体晶片加工的化蜡装置 |
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CN110900858A (zh) * | 2019-10-25 | 2020-03-24 | 浙江鸿达石英电子科技有限公司 | 一种石英槽棒开槽设备 |
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