CN201978677U - 一种可减少涌盐量的饱和盐卤器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可减少涌盐量的饱和盐卤器,包括盐卤器本体,盐卤器本体内设有轴流泵,与轴流泵管道连接设有卤水填充管和盐浆填充管,盐卤器本体内设有稳流罩,稳流罩的底部低于轴流泵的进液口。此饱和盐卤器在盐卤器本体内设置稳流罩,通过稳流罩罩住轴流泵的进液口,同时将进液口与稳流罩外的卤水清液隔开,轴流泵运转过程中能有效减少对外界清液面的影响,同时有效减少饱和盐卤器工作工程中的涌盐量,此实用新型用于化工机械设备领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种化工机械设备,特别是涉及一种可减少涌盐量的饱和盐卤器。
背景技术
饱和盐卤器在化工工业中用于低盐卤水溶盐的配置,普通的饱和盐卤器通过在盐卤器本体内设置轴流泵,将轴流泵与卤水填充管和盐浆填充管直接连接,通过轴流泵的运转对卤水与盐浆混合输送,并利用卤水大量的循环,在器内中部形成悬浮盐层,卤水穿越盐层进行溶盐,从而生出符合条件的粗盐水溢流至贮罐。
而普通的饱和盐卤器其成品粗盐水与进入轴流泵的混合流体没能进行有效隔开,使得在盐卤器的运行过程中成品盐水反复经过轴流泵循环,造成对成品粗盐水的出水液面影响较大,使得盐卤器的工作效率极大降低的同时,也造成成品粗盐水的涌盐量过大。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供一种可减少涌盐量的饱和盐卤器。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种可减少涌盐量的饱和盐卤器,包括盐卤器本体,盐卤器本体内设有轴流泵,与轴流泵管道连接设有卤水填充管和盐浆填充管,盐卤器本体内设有稳流罩,稳流罩的底部低于轴流泵的进液口。
进一步作为本实用新型技术方案的改进,盐卤器本体顶端的内壁上设有若干溢流口。
进一步作为本实用新型技术方案的改进,溢流口的数量为4个,在盐卤器本体顶端的内壁上对称分布。
本实用新型的有益效果:此饱和盐卤器在盐卤器本体内设置稳流罩,通过稳流罩罩住轴流泵的进液口,同时将进液口与稳流罩外的卤水清液隔开,轴流泵运转过程中能有效减少对外界清液面的影响,同时有效减少饱和盐卤器工作工程中的涌盐量。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
图1是本实用新型实施例内部结构示意图;
图2是本实用新型实施例平面主视图。
具体实施方式
参照图1、图2,本实用新型为一种可减少涌盐量的饱和盐卤器,包括盐卤器本体1,盐卤器本体1内设有轴流泵2,与轴流泵2管道连接设有卤水填充管3和盐浆填充管4,盐卤器本体1内设有稳流罩5,稳流罩5的底部低于轴流泵2的进液口。
此饱和盐卤器在盐卤器本体1内设置稳流罩5,通过稳流罩5罩住轴流泵2的进液口,同时轴流泵2的将进液口与稳流罩5外的卤水清液隔开,轴流泵2运转过程中能有效减少对外界清液面的影响,同时有效减少饱和盐卤器工作工程中的涌盐量。
作为本实用新型优选的实施方式,盐卤器本体1顶端的内壁上设有若干溢流口6。
作为本实用新型优选的实施方式,溢流口6的数量为4个,在盐卤器本体1顶端的内壁上对称分布。
4个溢流口6对称分布于盐卤器本体1顶端的内壁上,能方便配置完成的粗盐水更加均匀稳定的溢出。
当然,本发明创造并不局限于上述实施方式,熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可作出等同变形或替换,这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (3)
1.一种可减少涌盐量的饱和盐卤器,包括盐卤器本体(1),所述盐卤器本体(1)内设有轴流泵(2),与所述轴流泵(2)管道连接设有卤水填充管(3)和盐浆填充管(4),其特征在于:所述盐卤器本体(1)内设有稳流罩(5),所述稳流罩(5)的底部低于轴流泵(2)的进液口。
2.根据权利要求1所述的可减少涌盐量的饱和盐卤器,其特征在于:所述盐卤器本体(1)顶端的内壁上设有若干溢流口(6)。
3.根据权利要求2所述的可减少涌盐量的饱和盐卤器,其特征在于:所述溢流口(6)的数量为4个,在所述盐卤器本体(1)顶端的内壁上对称分布。
Priority Applications (1)
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CN201120020191XU CN201978677U (zh) | 2011-01-21 | 2011-01-21 | 一种可减少涌盐量的饱和盐卤器 |
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Publications (1)
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- 2011-01-21 CN CN201120020191XU patent/CN201978677U/zh not_active Expired - Lifetime
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