CN201832804U - 自动清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种自动清洗装置,包括清洗装置,输水管道,水泵和蓄水槽,所述的清洗装置与蓄水槽通过输水管道连通,所述的水泵设置在输水管道上;所述的清洗装置包括清洗凹槽和一对喷淋器,所述的喷淋器分别设置在清洗凹槽的两侧,所述的喷淋器包括喷淋管体和若干个喷淋孔,所述的喷淋孔成一定角度交错设置在喷淋管体上,本实用新型的有益效果在于,对单晶硅死角,缝隙的残留污染物清洗彻底,结构简单,成本低廉。
Description
技术领域
本实用新型涉及单晶硅领域,具体的是涉及一种用于清洗单晶硅的自动清洗装置。
背景技术
随着绿色能源的不断发展,太阳能被人们越来越多的应用起来,太阳能电池是太阳能主要部件之一,而硅是太阳能电池的主要原料,根据硅的结晶性,分为单晶硅太阳能电池、多晶硅太阳能电池、非晶硅太阳能电池。其中由以单晶硅太阳能电池为普遍,在生产单晶硅的过程中,清洗是个非常重要的步骤,因为清洗单晶硅的干净与否直接影响到下一工序,甚至影响到整体器件的成品率和可靠性,清洗的目的主要是清洗掉附着在硅片表面上的有机化合物、金属杂质或者胃里等污染物,这就需要清洗装置的清洗要兼顾到单晶硅的缝隙是否也能清洗到。但是现有技术中的清洗装置中由于采用的喷淋器中的喷淋孔均为直线设计,喷出的清洗液也是按照直线的路径喷淋到单晶硅上,这样单晶硅的缝隙仍残留有污染物,不能清洗彻底。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种能够清洗到单晶硅缝隙死角污染物全的自动清洗装置。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案实现:
自动清洗装置,包括清洗装置,输水管道,水泵和蓄水槽,所述的清洗装置与蓄水槽通过输水管道连通,所述的水泵设置在输水管道上;所述的清洗装置包括清洗凹槽和一对喷淋器,所述的喷淋器分别设置在清洗凹槽的两侧,所述的喷淋器包括喷淋管体和若干个喷淋孔,所述的喷淋孔成一定角度交错设置在喷淋管体上。
所述的清洗凹槽底部设置有防滑垫。
采用了上述方案,由于喷淋孔成一定角度设置,使得喷淋液经喷淋孔喷出时也是按照成一定角度的路径喷出,同时两个喷淋器分别设置在清洗凹槽的两侧,因此喷淋液相对且交错喷淋;清洗凹槽底部设置有防滑垫,可以防止单晶硅滑落或碰碎。
本实用新型的有益效果在于:对单晶硅死角,缝隙的残留污染物清洗彻底,结构简单,成本低廉。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图
图2为本实用新型喷淋管放大的截面示意图
1为输水管道,2为水泵,3为蓄水槽,4为清洗凹槽,5为喷淋器,6为防滑垫,7为喷淋管体,8为喷淋孔。
具体实时方式
下面结合附图对本实用新型做详细的描述。
参见图1,图2自动清洗装置,包括清洗装置,输水管道1,水泵2和蓄水槽3,所述的清洗装置与蓄水槽3通过输水管道1连通,所述的水泵2设置在输水管道1上;所述的清洗装置包括清洗凹槽4和一对喷淋器5,所述的喷淋器5分别设置在清洗凹槽4的两侧,所述的喷淋器5包括喷淋管体7和若干个喷淋孔8,所述的喷淋孔8成一定角度交错设置在喷淋管体7上;所述的清洗凹槽4底部设置有防滑垫6。
Claims (2)
1.自动清洗装置,包括清洗装置,输水管道,水泵和蓄水槽,所述的清洗装置与蓄水槽通过输水管道连通,所述的水泵设置在输水管道上;所述的清洗装置包括清洗凹槽和一对喷淋器,所述的喷淋器分别设置在清洗凹槽的两侧,其特征在于:所述的喷淋器包括喷淋管体和若干个喷淋孔,所述的喷淋孔成一定角度交错设置在喷淋管体上。
2.根据权利要求1所述的自动清洗装置,其特征在于:所述的清洗凹槽底部设置有防滑垫。
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Country Status (1)
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2010
- 2010-09-13 CN CN2010205256789U patent/CN201832804U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110518 Termination date: 20120913 |