CN201821564U - 一种新型等离子体产生装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种等离子体产生装置，包括，激光器，随机相位板，凸透镜，所述的这三者位于同一光轴上，并且随机相位板位于激光器和凸透镜之间，该装置可以快速产生稳定的光丝。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型等离子体产生装置，属于光电子技术领域。它具有结构简单，产生快速，成丝稳定等优点。
背景技术
现有技术中的等离子产生装置一般都是使用凸透镜对激光束直接进行汇聚以产生高能量的汇聚激光束，或者是将激光束先经过凹透镜发散之后再经过凸透镜的汇聚来产生高能量的激光束，然后使用高能量的激光束去激发介质或者分析物质以产生等离子体，但是这种方式形成的等离子体所形成的光丝不稳定，经常会发生抖动或间断的情形，本发明正是针对此问题而提出来的。
发明内容
根据本实用新型的一实施例，提供了一种等离子体产生装置，包括，激光器，随机相位板，凸透镜，所述的这三者位于同一光轴上，并且随机相位板位于激光器和凸透镜之间。
根据本实用新型的另外一实施例，在激光器与随机相位板之间还包括一个或多个凹透镜。
根据本实用新型的另外一实施例，所述的一个或多个凹透镜与激光器，随机相位板，以及凸透镜均位于同一光轴上。
本实用新型提供了一种高效的等离子体产生装置，使用该装置可快速产生稳定的光丝，该装置包括：激光器，随机相位板，凸透镜，其中所述的随机相位板位于激光器之后，凸透镜之前，并且激光器，随机相位板以及凸透镜三者位于同一光轴上。本实用新型还可以包括一个或多个凹透镜，所述的凹透镜位于激光器与随机相位板之间，并且所述的凹透镜与激光器，随机相位板以及凸透镜位于同一光轴上。
本实用新型由于使用了随机相位板，使得激光束光强在截面上分布更加均匀，并且对于激光束的相干性有一定的抑制作用，从而使得原来的光强分布不均以及相干作用导致的不稳定性得到改善，从而能够较好的形成稳定的光丝。
附图说明
图1是本实用新型等离子产生装置的一实施例的组成示意图；
图2是本实用新型等离子产生装置的另外一实施例的组成示意图；
具体实施方式
下面在结合附图的基础上详细说明本实用新型的实施方式，以更详细的方式来阐述本实用新型的原理及结构，但是这并不能理解为对于本实用新型的等离子体产生装置的限定，只是为了便于说明而以两种特定的方式来进行描述。
实施例1
在结合附图1的基础上来描述本实用新型的等离子体产生装置的第一实施例。
在图1中，1表示激光器，2表示随机相位板，3表示凸透镜，4表示光轴，激光器，随机相位板，凸透镜三者位于同一光轴上，随机相位板位于激光器和凸透镜之间，激光器产生的激光沿着光轴传播，首先穿过随机相位板，激光束在随机相位板的作用下光强分布变得更加均匀，由原来的基本上高斯型的分布变为均匀分布，并且由于随机相位板的作用，对于激光束的高相干性有一定的降低作用，这样的激光束经过随机相位板之后射入到凸透镜上，经过凸透镜的汇聚之后即可快速产生稳定的光丝。
实施例2
在结合附图2的基础上来描述本实用新型的等离子体产生装置的第二实施例。
在图2中，1表示激光器，2表示随机相位板，3表示凸透镜，4表示光轴，这与第一实施例是一致的，在该实施例中，还包括了一个凹透镜5，凹透镜5与激光器，随机相位板等也是位于同一光轴4上，并且凹透镜5位于激光器与随机相位板之间，这样设置之后，相对于第一实施例来说可具有如下的优点，首先，由于激光束在到达凸透镜之前经过了凹透镜的扩散，这样就使得到达凸透镜的激光束的单位面积能量降低，从而使得凸透镜可以承受更高能量的激光器，再者，由于激光束在达到随机相位板之前已经经过了凹透镜的扩束，所以使得到达随机相位板的激光束的截面积更大，这对于激光束的能量均匀以及降低相干性上都是有利的，可想而知，这样的设置对于系统的稳定运行是更有利的。
Claims (3)
1.一种等离子体产生装置，包括，激光器，随机相位板，凸透镜，所述的这三者位于同一光轴上，并且随机相位板位于激光器和凸透镜之间。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：在激光器与随机相位板之间还包括一个或多个凹透镜。
3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述的一个或多个凹透镜与激光器，随机相位板，以及凸透镜均位于同一光轴上。
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| CN2010205532187U CN201821564U (zh) | 2010-10-09 | 2010-10-09 | 一种新型等离子体产生装置 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104509218A (zh) * | 2012-04-02 | 2015-04-08 | 艾柯西柯法国公司 | 用于使等离子体稳定的方法和经改善的电离室 |
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2010
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Cited By (2)
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| CN104509218A (zh) * | 2012-04-02 | 2015-04-08 | 艾柯西柯法国公司 | 用于使等离子体稳定的方法和经改善的电离室 |
| US9601320B2 (en) | 2012-04-02 | 2017-03-21 | Laser Systems & Solutions Of Europe | Method for stabilizing a plasma and an improved ionization chamber |
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