CN201788422U - 一种真空度调节控制器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种真空度调节控制器，其特征是它包括T型三通、外筒、内管和支垫，外筒套在内管上，在外筒内的内管的一端设有一密封圈，在内管的另一端设有支撑片；在与支撑片对应的外筒一端上设有外撑片，T型三通连接在外筒的另一端；支垫设在支撑片和外撑片中间；在靠近T型三通连接处的外筒上设有2个以上小孔。本实用新型具有结构合理、操作方便、生产容易、能有效地调节和控制真空度的优点。
Description
一、技术领域
本实用新型涉及一种真空度调节控制器，尤其涉及一种在有机合成实验室中进行真空操作时对真空度进行调节和控制的真空度调节控制器。
二、背景技术
真空操作是实验室中最常用的一种操作之一，主要用于气体置换，固体抽滤，液体减压蒸馏(包括分馏和精馏)等。特别是对含有高沸点组分进行减压蒸馏操作时，因为要根据体系中不同组分蒸汽压之间的差异来选择温度和真空度实验参数，所以能对真空度进行有效的调节和控制是十分重要的。
现有实验室真空度调节和控制的方法是在与体系相连的T或Y型管的一端上连接一条乳胶管，通过调节螺旋夹来调节真空度。这不仅调节粗糙，经常会发生的是在体系真空度较高时乳胶管会吸合在一起，使螺旋夹失去调节功能。为了防止于此，有时在乳胶管中放一根细金属丝，但这会使真空度很难精细调节和控制。
三、发明内容
针对上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种结构合理、操作方便、生产容易、能有效地调节和控制真空度的真空度调节控制器。
本实用新型的技术内容为，一种真空度调节控制器，其特征是它包括T型三通、外筒、内管和支垫，外筒套在内管上，在外筒内的内管的一端设有一密封圈，在内管的另一端设有支撑片；在与支撑片对应的外筒一端上设有外撑片，T型三通连接在外筒的另一端，；支垫设在支撑片和外撑片中间；在靠近T型三通连接处的外筒上设有2个以上小孔；小孔的直径为
相邻两小孔的间距L＝3～7mm，支垫的高度H＝W+M+(N-1/2)L，其中M＝内管完全插入外筒后内管的支撑片与外筒的外撑片的间距，W为与离外筒连接T型三通端最近的小孔到外筒该端处的距离，N为用于与大气相通的小孔的个数。
本实用新型真空度调节控制器的材料可用金属，朔料，玻璃等；密封圈可用橡胶，TEFLON等；支垫可用金属，朔料，橡胶，木材等。
本实用新型与现有技术相比具有的优点是：
1、本实用新型结构合理，操作方便；
2、本实用新型可有效地调节真空度，并能定量地控制真空度；
四、附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型中内管完全插入外筒后的结构示意图。
五、具体实施方式
如图1和图2所示，一种真空度调节控制器，其特征是它包括T型三通1、外筒2、内管3和支垫4，外筒2套在内管3上，在外筒2内的内管3的一端设有一密封圈3.1，在内管3的另一端设有支撑片3.2；在与支撑片3.2对应的外筒2一端上设有外撑片2.1，T型三通1连接在外筒2的另一端，；支垫4设在支撑片3.2和外撑片2.1中间；在靠近T型三通1连接处的外筒2上设有5个小孔2.2；小孔2.2的直径为
相邻两小孔的间距L＝5mm，支垫的高度H＝W+M+(N-1/2)L，其中M＝内管完全插入外筒后内管的支撑片与外筒的外撑片的间距＝20mm，W为与离外筒连接T型三通端最近的小孔到外筒该端处的距离为5mm，N为用于与大气相通的小孔的个数。
本实用新型的工作原理为：当通过支撑片3.2向外拉内管3时，可依次使外筒2的小孔2.2与真空体系相连而破空，降低和定量控制真空度，T型三通1用于与体系相连；支垫4用于支撑内管3因真空拉力向内移动；连接好系统，启动真空泵，当真空度达到1mm Hg时，向外拉内管使第1个小孔与大气相通，N＝1，支垫的高度为H＝W+M+(N-1/2)L＝5+20+(1-1/2)×5＝27.5mm，垫好支垫，1分钟后真空度变为5mmHg左右；稳定后向外拉内管3至第2个孔，使第1和第2个小孔与大气相通，N＝2，支垫的高度为H＝W+M+(N-1/2)L＝5+20+(2-1/2)×5＝32.5mm，垫好支垫，1分钟后真空度变为10mm Hg左右；稳定后向外拉内管3至第3个孔，使第1、第2和第3个小孔与大气相通，N＝3，支垫的高度为H＝W+M+(N-1/2)L＝5+20+(3-1/2)×5＝37.5mm，垫好支垫，1分钟后真空度变为15mm Hg左右；稳定后向外拉内管3至第4个孔，使第1、第2、第3和第4个小孔与大气相通，N＝4，支垫的高度为H＝W+M+(N-1/2)L＝5+20+(4-1/2)×5＝42.5mm，垫好支垫，1分钟后真空度变为20mm Hg左右；稳定后向外拉内管3至第5个孔，使第1、第2、第3、第4和第5个小孔与大气相通，N＝5，支垫的高度为H＝W+M+(N-1/2)L＝5+20+(5-1/2)×5＝47.5mm，垫好支垫，1分钟后真空度变为25mm Hg左右。
Claims (1)
1.一种真空度调节控制器，其特征是它包括T型三通(1)、外筒(2)、内管(3)和支垫(4)，外筒(2)套在内管(3)上，在外筒(2)内的内管(3)的一端设有一密封圈(3.1)，在内管(3)的另一端设有支撑片(3.2)；在与支撑片(3.1)对应的外筒(2)一端上设有外撑片(2.1)，T型三通(1)连接在外筒(2)的另一端，；支垫(4)设在支撑片(3.2)和外撑片(2.1)中间；在靠近T型三(1)通连接处的外筒(2)上设有2个以上小孔(2.2)，小孔(2.2)的直径为
相邻两小孔(2.2)的间距L＝3～7mm；支垫(4)的高度H＝W+M+(N-1/2)L，其中M＝内管(3)完全插入外筒(2)后内管(3)的支撑片(3.2)与外筒(2)的外撑片(2.1)的间距，W为与离外筒(2)连接T型三通(1)端最近的小孔(2.2)到外筒(2)该端处的距离，N为用于与大气相通的小孔(2.2)的个数。
Priority Applications (1)
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| CN201020266720XU CN201788422U (zh) | 2010-07-22 | 2010-07-22 | 一种真空度调节控制器 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN201788422U true CN201788422U (zh) | 2011-04-06 |
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ID=43820379
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN201788422U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101907181A (zh) * | 2010-07-22 | 2010-12-08 | 无锡贝塔医药科技有限公司 | 一种真空度调节控制器 |
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2010
- 2010-07-22 CN CN201020266720XU patent/CN201788422U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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| CN101907181A (zh) * | 2010-07-22 | 2010-12-08 | 无锡贝塔医药科技有限公司 | 一种真空度调节控制器 |
| CN101907181B (zh) * | 2010-07-22 | 2012-05-30 | 无锡贝塔医药科技有限公司 | 一种真空度调节控制器 |
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Legal Events
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20110406 Effective date of abandoning: 20120530 |