CN201764664U - 一种足浴按摩洗脚盆 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种按摩洗脚盆，尤其是涉及一种足浴按摩洗脚盆，所述盆体(1)外部为椭圆形，盆体的“凹”形腔体(9)中部为搁脚台(11)，所述控制机构(2)设置在搁脚台的外端面上，在“凹”形腔体的底部两侧分别设有按摩组件、臭氧出口(5)，所述按摩柱(10)均匀分布在“凹”形腔体底部按摩组件、臭氧出口以外的面上；在“凹”形腔体的底部面后部设有吸水口(8)，喷水口(3)设置在“凹”形腔体的前壁上；本实用新型通过控制机构分别使加热器、电机、臭氧发生器工作，由加热器加热吸水口吸入的水由喷水口冲击按摩脚面，电机带动按摩组件对脚底按摩，臭氧发生器杀灭洗脚盆内的细菌；实现了一边泡脚，一边按摩的目的。

Description

一种足浴按摩洗脚盆

【技术领域】

本实用新型涉及一种按摩洗脚盆，尤其是涉及一种用于足部洗浴、按摩同步进行的足浴按摩洗脚盆。

【背景技术】

公知的，脚部是人体经络汇聚最多之处，尤其是脚底面，它汇集了人体内各器官的足部反射区，对足部按摩和刺激，能激发人体内潜在的机能，调整身体失衡状态，舒缓全身紧张，达到防病治病的效果；在电影红高粱里充分的反映出我国对于足部的按摩由来已久；目前市售足浴按摩盆主要功能是对足部进行按摩，由于设计的原因，很多时候不能同时满足洗脚、按摩脚底面、加热盆内的水、利用水流冲击按摩不到的脚面。

【发明内容】

为了实现所述发明目的，本实用新型公开了一种足浴按摩洗脚盆，所述足浴按摩洗脚盆通过控制机构分别使加热器、电机、臭氧发生器工作，由加热器加热吸水口吸入的水，达到所需温度后由喷水口冲击按摩脚面，电机带动按摩组件对脚底按摩，臭氧发生器杀灭洗脚盆内的细菌；实现了一边泡脚，一边按摩的发明目的。

为实现上述发明目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种足浴按摩洗脚盆，包含盆体、下盖、按摩组件、水循环组件，所述盆体外部为椭圆形，盆体内为“凹”形腔体，盆体的“凹”形腔体中部为搁脚台，所述控制机构设置在搁脚台的外端面上，在“凹”形腔体的底部两侧分别设有按摩组件、臭氧出口，所述按摩柱均匀分布在“凹”形腔体底部按摩组件、臭氧出口以外的面上；所述水循环组件：在“凹”形腔体的底部面后部设有吸水口，喷水口设置在“凹”形腔体的前壁上；所述盆体底部与下盖固接，在盆体与下盖之间的空间内设有加热器、臭氧发生器、电机和按摩组件联动机构，其中吸水口通过管路、加热器后联通喷水口，臭氧发生器通过管路联通臭氧出口；所述控制机构分别连接加热器、电机、臭氧发生器。

进一步，所述搁脚台由外至内呈外高内低，在搁脚台的内端面上设有水位显示线。

进一步，所述按摩组件为外围设置外缘按摩机构，在外缘按摩机构的中部为中部按摩机构。

进一步，所述电机连接盒体内的小齿轮、中齿轮和大齿轮构成的按摩组件联动机构，其中电机动力输出轴连接中部的两个小齿轮，所述两个小齿轮外侧分别设有中齿轮、大齿轮，其中中齿轮为过渡齿轮且与小齿轮、大齿轮齿合，大齿轮轴连接按摩组件。

由于采用了上述技术方案，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型所述足浴按摩洗脚盆，在“凹”形腔体的底部两侧分别设置的按摩组件、臭氧出口可使足部同时按摩和享受经过臭氧杀菌的洗脚水，由于经过吸水口的水随时加热，所以由喷水口喷向脚面的热水冲击按摩脚面，在“凹”形腔体底部按摩组件、臭氧出口以外面上设置的按摩柱使脚底达到无盲区按摩；实现了实现了一边泡脚，一边按摩的发明目的；本实用新型结构紧凑，成本较低。

【附图说明】

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的内部结构示意图；

图3是本实用新型的齿轮连动结构示意图；

图中：1、盆体；2、控制机构；3、喷水口；4、水位显示线；5、臭氧出口；6、中部按摩机构；7、外缘按摩机构；8、吸水口；9、“凹”形腔体；10、按摩柱；11、搁脚台；12、加热器；13、管路；14、盒体；15、电机；16、大齿轮；17、中齿轮；18、小齿轮。

【具体实施方式】

通过下面的实施例可以更详细的解释本实用新型，本实用新型并不局限于下面的实施例，公开本实用新型的目的旨在保护本实用新型范围内的一切变化和改进；

结合附图1～3中所述的足浴按摩洗脚盆，包含盆体1、下盖、按摩组件、水循环组件，所述盆体1外部为椭圆形，盆体1内为“凹”形腔体9，盆体1的“凹”形腔体9中部为搁脚台11，所述控制机构2设置在搁脚台11的外端面上，在“凹”形腔体9的底部两侧分别设有按摩组件、臭氧出口5，所述按摩柱10均匀分布在“凹”形腔体9底部按摩组件、臭氧出口5以外的面上；所述水循环组件：在“凹”形腔体9的底部面后部设有吸水口8，喷水口3设置在“凹”形腔体9的前壁上；所述盆体1底部与下盖固接，结合附图2中在盆体1与下盖之间的空间内设有加热器12、臭氧发生器(图中未显示)、电机15和按摩组件联动机构，其中吸水口8通过管路13、加热器12后联通喷水口3，臭氧发生器通过管路13联通臭氧出口5；所述控制机构2分别连接加热器12、电机15、臭氧发生器。

结合附图1中所述搁脚台11由外至内呈外高内低，在搁脚台11的内端面上设有水位显示线4；所述按摩组件为外围设置外缘按摩机构7，在外缘按摩机构7的中部为中部按摩机构6；结合附图3中所述电机15连接盒体14内的小齿轮18、中齿轮17和大齿轮16构成的按摩组件联动机构，其中电机15动力输出轴连接中部的两个小齿轮18，所述两个小齿轮18外侧分别设有中齿轮17、大齿轮16，其中中齿轮17为过渡齿轮且与小齿轮18、大齿轮16齿合，大齿轮16轴连接按摩组件。

实施本实用新型所述足浴按摩洗脚盆，在“凹”形腔体9的底部两侧分别设置的按摩组件、臭氧出口5可使足部同时按摩和享受经过臭氧杀菌的洗脚水，由于经过吸水口8的水通过加热器12随时加热，而后经由喷水口3喷向脚面的热水可实现冲击按摩脚面的效果，在“凹”形腔体9底部按摩组件、臭氧出口5以外面上设置的按摩柱10使脚底达到无盲区按摩。

本实用新型未详述部分为现有技术。

Claims (4)

1.一种足浴按摩洗脚盆，包含盆体(1)、下盖、按摩组件、水循环组件，其特征是：所述盆体(1)外部为椭圆形，盆体(1)内为“凹”形腔体(9)，盆体(1)的“凹”形腔体(9)中部为搁脚台(11)，所述控制机构(2)设置在搁脚台(11)的外端面上，在“凹”形腔体(9)的底部两侧分别设有按摩组件、臭氧出口(5)，所述按摩柱(10)均匀分布在“凹”形腔体(9)底部按摩组件、臭氧出口(5)以外的面上；所述水循环组件：在“凹”形腔体(9)的底部面后部设有吸水口(8)，喷水口(3)设置在“凹”形腔体(9)的前壁上；所述盆体(1)底部与下盖固接，在盆体(1)与下盖之间的空间内设有加热器(12)、臭氧发生器、电机(15)和按摩组件联动机构，其中吸水口(8)通过管路(13)、加热器(12)后联通喷水口(3)，臭氧发生器通过管路(13)联通臭氧出口(5)；所述控制机构(2)分别连接加热器(12)、电机(15)、臭氧发生器。

2.根据权利要求1所述的足浴按摩洗脚盆，其特征是：所述搁脚台(11)由外至内呈外高内低，在搁脚台(11)的内端面上设有水位显示线(4)。

3.根据权利要求1所述的足浴按摩洗脚盆，其特征是：所述按摩组件为外围设置外缘按摩机构(7)，在外缘按摩机构(7)的中部为中部按摩机构(6)。

4.根据权利要求1所述的足浴按摩洗脚盆，其特征是：所述电机(15)连接盒体(14)内的小齿轮(18)、中齿轮(17)和大齿轮(16)构成的按摩组件联动机构，其中电机(15)动力输出轴连接中部的两个小齿轮(18)，所述两个小齿轮(18)外侧分别设有中齿轮(17)、大齿轮(16)，其中中齿轮(17)为过渡齿轮且与小齿轮(18)、大齿轮(16)齿合，大齿轮(16)轴连接按摩组件。

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