CN201722249U - 一种工业污水电化学处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种工业污水电化学处理装置，该装置由电化学反应池、斜管沉淀池、多介质过滤池、电化学极板、碱箱、加碱计量泵、高频脉冲电源、排污阀、进水增压泵连接组成。其利用高频脉冲电源对电化学极板加电，使金属电极板电解析出Fe3+，吸附水中的悬浮物、有机物、胶体颗粒等形成大的絮体，同时，通过调节水质pH值使水中钙镁离子析出，再经过斜管沉淀池使絮体充分沉降，剩余少量颗粒杂质被多介质过滤器截留。经过本装置处理出水，可以有效的降低水质的浊度、悬浮物、总硬度、油、COD等指标，装置自动化程度高，占地面积小，操作简便，可作为工业污水处理装置以及膜脱盐设备的预处理装置。
Description
技术领域：
本实用新型涉及工业污水处理技术领域以及工业污水再利用技术领域。
背景技术：
由于工业企业在生产过程中会产生大量的污水，污水经过企业内部的污水处理厂统一处理后达到国家规定的污染物排放标准排放；随着国家节能减排政策的深化实施，对于工业污水的排放水质提出了更高的指标要求，同时，对工业企业的用水量及排污水量也提出了新的要求，所以原有的达标排放的污水均需要进一步处理达到新的排放标准要求或回用到企业的各用水单元，实现污水的循环使用。
实用新型内容：
本实用新型的目的在于解决上述问题，提供一种工业污水处理装置，该装置处理后的水质可达到新的工业污水排放标准要求；同时该装置处理后的水质可达到膜脱盐设备的进水水质要求，与膜脱盐设备形成组合工艺，实现污水的回收再利用。
为达到上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种工业污水电化学处理装置，该装置采用一体化的结构形式，包括电化学反应池、斜管沉淀池、多介质过滤池；还包括电化学极板、高频脉冲电源、斜管填料、石英砂滤料、碱箱、加碱计量泵、进水增压泵、排污阀门。污水由进水增压泵进入电化学反应池的进口，电化学反应池的出口连接斜管沉淀池的进口，斜管沉淀池的出口连接多介质过滤池的进口，多介质过滤池的出口即为装置的处理出水。
工业污水处理装置电化学反应池、斜管沉淀池、多介质过滤池三个处理单元为一体化的结构形式，之间无管路阀门连接。
污水通过增压泵连接电化学反应池；
电化学极板为纯铁材料板式电极；
碱箱通过加碱计量泵连接电化学反应池。
电化学反应池与斜管沉淀池底部均设置排泥斗和排污阀门。
上述泵、阀门与各设备之间采用管道法兰连接。
本实用新型提供的工业污水电化学处理装置的工作原理：
污水由进水增压泵进入电化学反应池中；电化学反应池中的铁电极板在高频脉冲直流电源的作用下，在水中电解消耗溶解到水里，以[Fe3+]形态存在，与电解过程中生成的[OH-]结合形成具有高效絮凝作用的絮凝剂Fe(OH)3；同时通过投加液碱调节水质的pH值，使水中的钙镁离子以沉淀的形式析出。在水中的反应式为：
H2O→H++OH-
Ca2++OH-+HCO3 -→CaCO3+H2O
Mg2++2OH-→Mg(OH)2
阳极：Fe-3e→Fe3+
Fe3++3OH-→Fe(OH)3↓
阴极：2H++2e→H2
形成Fe(OH)3作为一种具有絮凝作用的絮凝剂可以吸附水中的胶体、悬浮物、高分子有机物、钙镁离子不溶物等杂质颗粒。
电化学反应池出水进入斜管沉淀池中，在斜管沉淀池内放置斜管填料，提高沉淀池的处理效率，电化学反应池中生成的大部分絮体及不溶物在斜管沉淀池内充分沉降，剩余的少量颗粒杂质进入多介质滤池过滤，截留去除残余的杂质颗粒和絮体，从而降低水中的浊度、悬浮物等指标。过滤后出水可达标排放，或进入膜脱盐设备处理后回收再利用。在电化学反应池、斜管沉淀池底部设置泥斗，反应生成的污泥絮体在泥斗内存积，定期通过排污阀门排放。
本实用新型提供的工业污水处理装置，具有明显的处理效果：经过该装置处理后，污水中的浊度、悬浮物、总硬度、油、有机物等指标得到降低，水质条件变好，处理出水可达标排放或进入膜脱盐设备进一步处理后回收利用。
附图说明：
图1：工业污水电化学处理装置结构示意图。
具体实施方式：
如图1：实施工业污水电化学处理装置：
该工业污水电化学处理装置采用一体化的结构形式，包括电化学反应池(1)、斜管沉淀池(2)、多介质过滤池(3)，其特征在于：该装置还包括电化学极板(4)、高频脉冲电源(5)、斜管填料(6)、石英砂和无烟煤滤料(7)、碱箱(8)、加碱计量泵(9)、进水增压泵(10)、排污阀门(11)；电化学极板(4)为纯铁材料板式电极，位于电化学反应池(1)内，连接高频脉冲电源(5)；电化学反应池(1)、斜管沉淀池(2)、多介质过滤池(3)三个处理单元为一体化的结构形式，之间无管路阀门连接。碱箱(8)通过加碱计量泵(9)连接电化学反应池(1)
该实用新型提供的工业污水电化学处理装置，其电化学反应池(1)内放置电化学极板(4)，电化学极板为纯铁材料板式电极，在水中腐蚀消耗溶解到水里，以[Fe3+]形态存在，形成具有絮凝作用的絮凝剂Fe(OH)3；同时碱箱(8)通过加碱计量泵(9)连接电化学反应池(1)，通过调节水质pH值使水中的钙镁离子形成不溶物质析出，被电化学极板电解产生的具有絮凝作用的絮凝剂Fe(OH)3吸附，与水中的悬浮物、杂质颗粒等共同形成较大的絮体团，在斜管沉淀池(2)中充分沉降分离，经过沉淀处理后的水进入多介质过滤池(3)，利用石英砂和无烟煤滤料(7)过滤截留水中残余的少量杂质，使处理出水的浊度、悬浮物等指标得到充分的降低。电化学反应池(1)、斜管沉淀池(2)底部沉积的污泥絮体定期由排污阀门(11)排放。
该实用新型提供的工业污水电化学处理装置，具有明显的处理效果：工业污水经过该装置处理后，水质的浊度、悬浮物、总硬度、COD、油等指标均得到降低，处理出水可达到新的污染物排放标准达标排放，或进入膜脱盐处理系统进一步处理后回收利用。具有广泛的应用领域和明显的环境效益、经济效益。
Claims (6)
1.一种工业污水电化学处理装置，该装置采用一体化的结构形式，包括电化学反应池(1)、斜管沉淀池(2)、多介质过滤池(3)，其特征在于：该装置还包括电化学极板(4)、高频脉冲电源(5)、斜管填料(6)、石英砂和无烟煤滤料(7)、碱箱(8)、加碱计量泵(9)、进水增压泵(10)、排污阀门(11)；所述电化学极板(4)连接高频脉冲电源(5)，位于电化学反应池(1)内；所述斜管填料(6)位于斜管沉淀池(2)内；所述石英砂和无烟煤滤料(7)位于多介质过滤池(3)内；所述工业污水由进水增压泵(10)的出口连接电化学反应池(1)的进口；所述反应池(1)的出口连接斜管沉淀池(2)的进口；所述斜管沉淀池(2)的出口连接多介质过滤池(3)的进口；多介质过滤池(3)的出口即为装置处理出水。
2.根据权利要求1所述的工业污水电化学处理装置，其特征在于：所述工业污水处理装置电化学反应池(1)、斜管沉淀池(2)、多介质过滤池(3)三个处理单元为一体化的结构形式，之间无管路阀门连接。
3.根据权利要求1所述的工业污水电化学处理装置，其特征在于：所述电化学极板(4)为纯铁材料板式电极。
4.根据权利要求1所述的工业污水电化学处理装置，其特征在于：所述碱箱(8)通过加碱计量泵(9)连接电化学反应池(1)。
5.根据权利要求1所述的工业污水电化学处理装置，其特征在于：所述电化学反应池(1)与斜管沉淀池(2)底部均设置排泥斗和排污阀门(11)。
6.根据权利要求1所述的工业污水电化学处理装置，其特征在于：所述泵、阀门与各设备之间采用管道法兰连接。
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: BEIJING JINGRUN NEW TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LT Free format text: FORMER OWNER: XIAO DONG Effective date: 20110713 |
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| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 100085 812, TOWER D, JIAHUA BUILDING, NO. 9, SHANGDI STREET 3, HAIDIAN DISTRICT, BEIJING TO: 100085 D812, JIAHUA BUILDING, NO. 3, SHANGDI EAST ROAD, HAIDIAN DISTRICT, BEIJING |
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| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20110713 Address after: 100085, Ka Wah building, 3 East Road, Beijing, Haidian District, D812 Patentee after: Beijing Jingrun New Technology Development Co., Ltd. Address before: 100085, D, building 9, Ka Wah building, 812 3rd Street, Beijing, Haidian District Patentee before: Xiao Dong |
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| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20110126 |
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| CX01 | Expiry of patent term |