CN201388623Y - 一种印记戒指 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种首饰,尤其是一种戒指。它包括一个戒指本体,所述戒指本体为一环状结构,在该环状结构的内表面上设有一在手指表面留下印记的印记结构。本实用新型的印记戒指通过在戒指的内表面上设置一印记结构,使得在佩戴时与人们的手指表面相互作用,在人们取下戒指后,会在人们的手指表面形成一个印记,该印记将在短时间内保留在人们的手指表面,形成一种纪念或者是提醒,增加了戒指佩戴的情感意义和纪念意义,使戒指具有专属情感的含义。

Description

一种印记戒指
技术领域
本实用新型涉及一种首饰,尤其是一种戒指。
背景技术
戒指由于其佩戴时的一些特殊的涵义,已经成为了最普遍的一种首饰,深为人们的喜爱,由于戒指的结构简单,现在市面上的戒指多在样式及镶嵌上进行设计,其样式非常的繁多,但是现有的样式及镶嵌设计全部都是设于戒指的外表面,在人们取下戒指后不能在手指表面留下印记。
发明内容
本实用新型的目的之一是提供能在取下戒指后在手指表面留下印记的一种印记戒指。
为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
它包括一个戒指本体,所述戒指本体为一环状结构,其改进在于:在该环状结构的内表面上设有一在手指表面留下印记的印记结构。
优选地,所述印记结构为一凹陷的阴刻结构。
优选地,所述印记结构为一凸起的阳刻结构。
优选地,所述的阳刻结构的边角出设有倒圆角结构。
优选地,所述的阴刻结构或阳刻结构为文字、符号和/或图案。
本实用新型的印记戒指通过在戒指的内表面上设置一印记结构,使得在佩戴时与人们的手指表面相互作用,在人们取下戒指后,会在人们的手指表面形成一个印记,该印记将在短时间内保留在人们的手指表面,形成一种纪念或者是提醒,增加了戒指佩戴的情感意义和纪念意义,使戒指具有专属情感的含义。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图。
本实用新型目的、功能及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型的第一实施例包括一个戒指本体,所述戒指本体1为一环状结构,在该环状结构的内表面2上设有一在手指表面留下印记的印记结构3。
在本第一实施例中,所述印记结构3为一凹陷的阴刻结构。所述的阴刻结构为文字、符号和/或图案。在人们佩戴本第一实施例的印记戒指后取下时,在人们的手指表面的皮肤上会留下凸起的文字、符号和/或图案的印记。
本实用新型还提供了第二实施例,参见图1所示,在第二实施例中,所述印记结构3为一凸起的阳刻结构。所述的阳刻结构为文字和/或图案。在人们佩戴本第二实施例的印记戒指后取下时,在人们的手指表面的皮肤上会留下凹陷的文字、符号和/或图案的印记。
本实施例中,为了保护人们的手指表面的皮肤不被阳刻的文字和/或图案所刮伤,在所述的阳刻结构的边角处设有倒圆角结构。在人们佩戴本实施例的戒指时,阳刻的文字和/或图案结构与人们手指表面的皮肤平滑的接触,保证了人们佩戴和取下时的使用安全。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (5)

1、一种印记戒指,它包括一个戒指本体,所述戒指本体为一环状结构,其特征在于:在该环状结构的内表面上设有一在手指表面留下印记的印记结构。
2、如权利要求1所述的印记戒指,其特征在于:所述印记结构为一凹陷的阴刻结构。
3、如权利要求1所述的印记戒指,其特征在于:所述印记结构为一凸起的阳刻结构。
4、如权利要求3所述的印记戒指,其特征在于:所述的阳刻结构的边角出设有倒圆角结构。
5、如权利要求2-4中任一项所述的印记戒指,其特征在于:所述的阴刻结构或阳刻结构为文字、符号和/或图案。
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Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Assignee: SHENZHEN DOIDO JEWELRY CO., LTD.

Assignor: Pan Haiquan

Contract record no.: 2010440020218

Denomination of utility model: Stamp ring

Granted publication date: 20100127

License type: Exclusive License

Record date: 20101124

C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100127

Termination date: 20130416