CN201250184Y - 一种可钢化低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、镍膜层(3)、银膜层(4)，镍膜层(5)，氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。该产品具有生产效率高，可以在玻璃上镀低辐射膜后再钢化，膜层不变色、辐射率不变化的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种可钢化低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银)，使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。
现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡的，也有用氧化锌的，第二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构，第三层都用镍铬层，第四层主要为保护膜，一般采用氧化锡或氧化锌作保护膜，这些产品在钢化过程中会出现变色、低辐射性能变差等问题。
发明内容
本实用新型目的是提供一种五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃，使其具有膜层可以经受钢化炉高温的考验，仍然保持低辐射性能不变。
本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现：其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层、镍膜层、银膜层、镍膜层、氮化硅膜层，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。
采用上述结构，第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。
附图说明
附图1为本实用新型的具体结构示意图。
图中：1、玻璃基片，2、氮化硅膜层，3、镍膜层，4、银膜层，5、镍膜层，6、氮化硅膜层。
具体实施方式
结合附图，说明本实用新型的具体实施例。
如附图1所示：其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层2、镍膜层3、银膜层4，镍膜层5，氮化硅膜层6，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。
本实用新型是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积五层膜的方法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，将氮化硅膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度10至40纳米，第二个镀膜室充入氩气，靶材为镍靶，在氮化硅上面沉积第二层镍膜，厚度1至10纳米；第三个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在镍膜上沉积第三层银膜，厚度1至10纳米；第四个镀膜室充入氩气，靶材为镍靶，在银膜上沉积第四层镍膜，厚度1至10纳米；第五个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，在镍膜上沉积第五层氮化硅膜，厚度15～50纳米。
第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。
Claims (1)
1、一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，其特征是：在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、镍膜层(3)、银膜层(4)，镍膜层(5)，氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。
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2008
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