CN201155965Y - 一种激光调整校正设备用集成测量光路结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公告了一种激光调整校正设备用集成测量光路结构，包括激光器、聚焦透镜以及测量模块，测量模块直接投射测量光束至被调整校正件表面，再接受直接返回的测量光束，其特征在于在聚焦透镜与被调整校正件的激光光路中间设有与光路纵向夹角为35°的反射镜；反射镜将激光波束以20°的倾斜角投射至被调整校正件的表面；激光波束投射的被调整校正件的表面是与测量光束直接投射的同一表面，而激光波束与测量光束在空间位置上相互分离。由于调校激光光束和测量光束在空间位置上相互分离，互不干涉，消除了对测量光束的影响，实现了调校模块和测量模块的集成，保证了测量精度，使测量和调校同时进行，进一步提高了激光测量和调校效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及光路结构，尤其是涉及一种电脑硬盘磁头静态姿态激光调整校正设备用集成测量光路结构。
背景技术
测量和调校磁头支架部件的静态姿态是硬盘生产过程中的关键工序，通过测量和调校使磁头支架部件在硬盘工作时飞行到相应高度时的纵向(Pitch)和横向(Roll)偏角保持正常。随着硬盘行业发展，对测量和调校精度和速度的要求也日趋增长，原有的机械调校方式已经不能满足行业的需求，而在激光调整校正设备中，尚未见有集静态姿态测量和调校于一体的光路结构，以进一步提高激光测量和调校效率。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是弥补上述现有技术的缺陷，提供一种进一步提高激光测量和调校效率的激光调校设备用集成测量光路结构。
本实用新型的技术问题采用以下技术方案予以解决。
这种激光调整校正设备用集成测量光路结构，包括发射激光波束的激光器、设置在激光器与被调整校正件中间将激光波束聚焦的聚焦透镜，以及测量模块，所述测量模块直接投射测量光束至被调整校正件表面，再接受直接返回的测量光束进行测量。
这种激光调整校正设备用集成测量光路结构的特点是：
在所述聚焦透镜与所述被调整校正件的激光光路中间设有与光路纵向夹角为35°的反射镜。
所述反射镜将激光波束以20°的倾斜角投射至被调整校正件的表面进行加工。
所述激光波束投射的被调整校正件的表面是与所述测量光束直接投射的同一表面，而所述激光波束与所述测量光束在空间位置上相互分离，互不干涉，消除了对测量光束的影响，保证了测量精度，使测量和调校同时进行，进一步提高了激光测量和调校效率。
本实用新型的技术问题采用以下进一步的技术方案予以解决。
所述反射镜是将光束折射90°的平面反射镜。用于将光束在空间转折后投射到被调整校正件表面，以满足设备的功能要求。
所述测量模块包括磁头静态姿态测量模块。
所述磁头静态姿态测量模块，包括美国维易科(Veeco)公司出品的型号为Wyko SAT2800的磁头静态姿态测量模块、AKI公司出品的型号为V9的磁头静态姿态测量模块。
本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果：
由于在所述聚焦透镜与所述被调整校正件的激光光路中间设有与光路呈特定纵向夹角的反射镜，将光路中的调校激光光束直接投射到被调整校正件表面，而调校激光光束和测量光束在空间位置上相互分离，互不干涉，消除了对测量光束的影响，实现了调校模块和测量模块的集成，保证了测量精度，使测量和调校同时进行，进一步提高了激光测量和调校效率。
附图说明
附图是本实用新型具体实施方式的光路组成示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的描述。
如附图所示的电脑硬盘磁头静态姿态激光调校设备用集成测量光路结构，包括发射激光波束1的激光器(附图中未画出)、设置在激光器与被调整校正件——磁头支架部件2中间将激光波束1聚焦的聚焦透镜4，以及测量模块5，测量模块5不经过任何光学器件直接投射测量光束6至被调整校正件——磁头支架部件2下表面，再接受不经过任何光学器件直接返回的测量光束进行测量。测量模块5是美国维易科(Veeco)公司出品的型号为Wyko SAT2800的磁头静态姿态测量模块。
在聚焦透镜4与被调整校正件——磁头支架部件2的激光光路中间设有与光路纵向夹角为35°的反射镜3，反射镜3将激光波束1以20°的倾斜角投射至被调整校正件——磁头支架部件2的下表面进行加工，激光波束1投射的被调整校正件——磁头支架部件2的下表面是与测量光束6直接投射的同一表面，而激光波束1与测量光束6都投射被调整校正件——磁头支架部件2的下表面，但在空间位置上相互分离，互不干涉，消除了对测量光束6的影响，保证了测量精度，使测量和调校同时进行，可以做到在调校激光工作时，对磁头支架部件2的弹性臂静态姿态进行测量，进一步提高了激光测量和调校效率。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.一种激光调整校正设备用集成测量光路结构，包括发射激光波束的激光器、设置在激光器与被调整校正件中间将激光波束聚焦的聚焦透镜，以及测量模块，所述测量模块直接投射测量光束至被调整校正件表面，再接受直接返回的测量光束，其特征在于：
在所述聚焦透镜与所述被调整校正件的激光光路中间设有与光路纵向夹角为35°的反射镜；
所述反射镜将激光波束以20°的倾斜角投射至被调整校正件的表面；
所述激光波束投射的被调整校正件的表面是与所述测量光束直接投射的同一表面，而所述激光波束与所述测量光束在空间位置上相互分离。
2.根据权利要求1所述的激光调整校正设备用集成测量光路结构，其特征在于：
所述反射镜是将光束折射90°的平面反射镜。
3.根据权利要求1或2所述的激光调整校正设备用集成测量光路结构，其特征在于：
所述测量模块包括磁头静态姿态测量模块。
4.根据权利要求3所述的激光调整校正设备用集成测量光路结构，其特征在于：
所述磁头静态姿态测量模块，包括美国维易科公司出品的型号为Wyko SAT2800的磁头静态姿态测量模块、AKI公司出品的型号为V9的磁头静态姿态测量模块。
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2008
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