CN201029813Y - 按摩足浴盆 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种按摩足浴盆,在内表面形成按摩凸粒。具体可以在侧壁内表面或底部内表面或侧壁和底部内表面都形成按摩凸粒。使足浴同时,可由按摩凸粒对足部进行按摩,进一步改善血液循环,增强肌体免疫力,改善内分泌,消除疲劳,舒缓精神紧张,改善睡眠,增进健康,从而提升足浴效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种按摩足浴盆。
背景技术
传统的中医学认为:足浴能够改善血液循环,加速血液流动,从而使身体的疲乏、酸痛等不适得到缓解或消除。普通的足浴盆(或桶)仅用于盛装热水,其内表面光滑,用此盆(或桶)进行足浴时,将双脚浸泡于热水,让双脚充分享受热水,达到足浴效果,但是,由于盆(或桶)中没有按摩装置,所以,无法对足部进行按摩,足浴效果不佳。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种按摩足浴盆,其可在足浴的同时按摩足部,提升足浴效果。
为了达成上述目的,本实用新型的解决方案是:
按摩足浴盆,在内表面形成按摩凸粒。
所述足浴盆的侧壁内表面形成按摩凸粒。
所述侧壁内表面的按摩凸粒呈由下至上的梯形状。
所述足浴盆的底部内表面形成各种按摩凸粒。
所述足浴盆的侧壁和底部内表面都形成各种按摩凸粒。
采用上述结构后,本实用新型用于足浴时,可同时将足部与其内表面的按摩凸粒接触,由按摩凸粒对足部进行按摩,进一步改善血液循环,增强肌体免疫力,改善内分泌,消除疲劳,舒缓精神紧张,改善睡眠,增进健康,从而提升足浴效果。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的剖视图。
具体实施方式
如图1、2所示,本实用新型揭示的按摩足浴盆,在内表面形成按摩凸粒1,此按摩凸粒1具体可以形成在足浴盆的侧壁内表面,也可以形成在足浴盆的底部,或者在足浴盆的侧壁和底部内表面都形成按摩凸粒1,如本文所示实施例。本实施例进一步将侧壁内表面的按摩凸粒1分布设计呈由下至上的梯形状。
本实用新型用于足浴时,不仅可将双脚浸泡于热水,让双脚充分享受热水,还可以同时将足部与其内表面的按摩凸粒1接触,由底部按摩凸粒1对脚指侧面和足底的穴位进行按摩,或由侧壁按摩凸粒1对足踝的穴位进行按摩,而且,由下至上的梯形状按摩凸粒1更适合人体足踝至腿部形状和穴位的分布,可进一步按摩脚部侧面部分穴位、腿部穴位和肌肉,从而更好地改善血液循环,增强肌体免疫力,改善内分泌,消除疲劳,舒缓精神紧张,改善睡眠,增进健康,提升足浴效果。
另外,本实用新型可以选用塑胶制成,便于提或端,除了作足浴用途之外,还可以用来做日常用途,例如,洗脸、洗日常东西、装东西等等。
Claims (5)
1.按摩足浴盆,其特征在于:在内表面形成按摩凸粒。
2.如权利要求1所述的按摩足浴盆,其特征在于:足浴盆的侧壁内表面形成按摩凸粒。
3.如权利要求2所述的按摩足浴盆,其特征在于:侧壁内表面的按摩凸粒呈由下至上的梯形状。
4.如权利要求1所述的按摩足浴盆,其特征在于:足浴盆的底部内表面形成按摩凸粒。
5.如权利要求1所述的按摩足浴盆,其特征在于:足浴盆的侧壁和底部内表面都形成按摩凸粒。
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CNU200720006568XU CN201029813Y (zh) | 2007-03-19 | 2007-03-19 | 按摩足浴盆 |
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Publication Number | Publication Date |
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CN201029813Y true CN201029813Y (zh) | 2008-03-05 |
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CNU200720006568XU Expired - Fee Related CN201029813Y (zh) | 2007-03-19 | 2007-03-19 | 按摩足浴盆 |
Country Status (1)
Country | Link |
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2007
- 2007-03-19 CN CNU200720006568XU patent/CN201029813Y/zh not_active Expired - Fee Related
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