CN201017049Y - 一种自洁抗光反射结构物 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种自洁抗光反射结构物,其表面或物体具有凹凸结构,该凹凸的深度或高度为0.04~220微米,该凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.04~120微米,该凹凸的侧面和/或顶底面的粗糙度小于5微米。
Description
技术领域
本实用新型属于非金属材料制品制造领域,涉及一种生态环保型新型产品,特别涉及一种自洁抗光反射结构物。
背景技术
自洁或抗光反射结构物属生态环保型新型产物,可被广泛应用于光伏产业、光学仪器、汽车、高楼幕墙、医院门窗、器具的玻璃盖板、高档建筑物室内浴镜及卫生间整容镜等场所,日益受到人们重视。
中国专利公开说明书CN01125173.5公开了一种新型表面自洁玻璃,该发明是通过在玻璃表面进行化学涂层,形成一种透明的表面保护膜。该表面保护膜改变了玻璃微观的粗糙的表面,而形成了一光滑的微观表面。由此灰尘、杂质在玻璃表面的粘附大大降低,玻璃表面可在雨水的冲刷下清洗去极少数的污染物,从而达到自洁的效果。
中国专利公开说明书CN02107866.1公开了一种具有透明导电表面层的抗反射涂布层,该发明涉及一种具有四层结构,由离基板最远的层开始算起为第一层、第二层、第三层及第四层,其中该第一层为透明导电表面层,该透明导电表面层具有良好的导电性及抗刮伤性,并此透明导电表面层的抗反射涂布层具有低反射率,故可作为显示器或触控屏幕的面板。
中国专利公开说明书CN200410004589.9涉及一种抗反射薄板及其制造方法,该抗反射薄板包含一光学薄板以及表面具有复数个纳米粒子的树脂层,且这些纳米粒子所形成的间距小于400纳米(nanometers)。首先,将纳米粒子添加于树脂材料中,并以湿式涂布的方式涂布此树脂材料于光学薄板之上,然后再加以烘烤,使树脂材料中的溶剂挥发,此时一部分的纳米粒子会分布于树脂层的表面,且彼此间的间距小于400纳米。但其制造方法复杂,生产成本较高。
中国专利公开说明书CN 200610035099.4公开了一种具有可见光响应的永久自清洁玻璃及其制备方法,既先在玻璃表面溅射二氧化硅薄膜,然后在纳米二氧化硅薄膜表面上溅射一层阴、阳离子共掺的改性二氧化钛薄膜,镀了双层薄膜的玻璃在500~600℃下退火,烧结炉中自然冷却即得。但其制造工艺较复杂。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种简单、低成本的自洁抗光反射结构物,以克服现有自洁或抗光反射结构物存在的缺陷。
本实用新型的显著特点是:本实用新型涉及的自洁抗光反射结构物同时具有自我清洁和抗光反射的功能。
本实用新型的另一个显著特点是:本实用新型涉及的自洁抗光反射结构物具有结构简单,无污染,制造工艺简便等优点。
本实用新型所涉及的自洁抗光反射结构物的表面或物体具有凹凸结构,所涉及的凹凸结构包括棱锥形状、棱柱形状、钻石形状、金字塔形状、菱形状。凹凸部分的深度或高度为0.04~220微米;凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.03~180微米,较好为0.04~120微米;凹凸部分的侧面、顶面和/或底面的粗糙度小于10微米,较好小于5微米。
本实用新型所涉及的自洁抗光反射结构物的基材包括透明高分子材料,玻璃,疏水性高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物,表面经疏水性处理的高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物、玻璃中的一种或多种。
本实用新型所涉及的自洁抗光反射结构物或其表面可进而包含至少一种蜡性材料。
本实用新型所涉及的自洁抗光反射结构物可被广泛应用于光伏产业、光学仪器、汽车、高楼幕墙、医院门窗、器具的玻璃盖板、高档建筑物室内浴镜及卫生间整容镜等场所
附图说明
图1是本实用新型所涉及的具有凹凸结构表面的自洁抗光反射结构物示意图。
图2是本实用新型所涉及的具有凹凸结构底面和表面的自洁抗光反射结构物示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
如图1和图2所示,本实用新型实施例包括:具有凹凸结构表面的自洁抗光反射结构物(1),具有凹凸结构底面和表面的自洁抗光反射结构物(2),凹凸部分的深度或高度(h),凹凹、凸凸或凹凸之间的间距(A),凹凸部分的侧面(B),凹凸部分的顶面(C),凹凸部分的底面(D)。
实施例1
本实用新型实施例1(参照图1):如图1所示的实施例的具有凹凸结构表面的自洁抗光反射结构物(1),它由透明高分子材料制成,经挤出压制而成,凹凸部分的深度或高度为(h),凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为(A),凹凸部分的侧面为(B),凹凸部分的顶面为(C),凹凸部分的底面为(D)。
实施例2
本实用新型实施例2(参照图2):如图2所示的实施例的具有凹凸结构底面和表面的自洁抗光反射结构物(2),它由疏水性高分子材料经热成型制造而成,凹凸部分的深度或高度为(h),凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为(A),凹凸部分的侧面为(B),凹凸部分的顶面为(C),凹凸部分的底面为(D)。
Claims (4)
1.一种自洁抗光反射结构物,其表面或物体具有凹凸结构;其特征在于:该凹凸的深度或高度为0.04~220微米,该凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.04~120微米,该凹凸的侧面和/或顶底面的粗糙度小于5微米。
2.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的凹凸结构包括棱锥形状、棱柱形状、钻石形状、金字塔形状、菱形状。
3.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的自洁抗光反射结构物的基材包括透明高分子材料,玻璃,疏水性高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物,表面经疏水性处理的高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物、玻璃中的一种或多种。
4.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的自洁抗光反射结构物或其表面进而包含至少一种蜡性材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CNU2007200953563U CN201017049Y (zh) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 一种自洁抗光反射结构物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNU2007200953563U CN201017049Y (zh) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 一种自洁抗光反射结构物 |
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CNU2007200953563U Expired - Fee Related CN201017049Y (zh) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 一种自洁抗光反射结构物 |
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CN (1) | CN201017049Y (zh) |
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2007
- 2007-02-27 CN CNU2007200953563U patent/CN201017049Y/zh not_active Expired - Fee Related
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