CN1944044A - 一种高耐磨瓦楞辊制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高耐磨瓦楞辊制造方法,包括下列步骤:(1)以60CrMnMoA或60CrNiMoA为材料,且材料经锻造和调质处理,调质硬度要求为HRC25~40;(2)对瓦楞辊齿部进行预处理;(3)通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描。本发明采用具有热疲劳性能好,淬透性好,强韧性能高等优点的材料,采用激光淬火工艺,激光淬火件更加耐磨、强韧;工艺流程短,加工成本低;利用光斑的聚焦特性,使瓦楞齿顶和齿根的功率密度与磨损机制相吻合;变形量小,轴向变形(径向跳动)小于0.03mm,硬度高于HRC60,使用寿命(轧纸量)高于1200万跑米。
Description
技术领域
本发明属于激光强化、冶金和金属材料热处理领域,特别是一种高耐磨瓦楞辊制造方法。
背景技术
对于任何档次的瓦楞纸板生产线,瓦楞辊总是最昂贵的易损部件之一。它的经济性能和使用寿命一直是瓦楞纸箱行业关注的重要课题。提高瓦楞辊的耐磨性能,延长瓦楞辊的使用寿命,是降低瓦楞纸板生产成本的有效方法。
目前常用的中频淬火后镀铬工艺,由于中频淬火属于裸露加热,难免氧化、脱碳,同时难免产生裂纹和软点,而且由于中频加热的特点,需要重点强化的楞顶的强化程度不如不需太强的楞底,发生性能颠倒现象。虽然中频淬火有强化层较厚的优点,但因此而产生较大的变形,中频淬火瓦楞辊的变形量(径向跳动)为0.1~0.15mm,对后续工序造成很大困难。中频淬火瓦楞辊只适用于中、低速生产线。中频淬火后镀铬瓦楞辊使用寿命为800~900万跑米。
另一类碳化钨瓦楞辊,其耐磨性能上乘无可否认,但是碳化钨瓦楞辊的应用存在诸多难点:碳化钨瓦楞辊需要5~6次喷涂才能达到0.1mm左右的厚度,然后研磨抛光,实际工作厚度为0.05~0.06mm,喷涂碳化钨的回收率仅为35%左右;由于碳化钨喷涂后需要再修磨、抛光,而碳化钨十分坚硬,只能用金刚石磨具研磨,因此磨削成本较高;另外,目前的喷涂碳化钨只能在HRC45以下的基体上进行,涂层虽然耐磨,但基体较软,因而经不起砂砾碾压,在纸质较差的条件下使用很容易出现麻坑和凹陷,所以碳化钨瓦楞辊只能在拥有高档设备和使用高档原纸条件下使用,适应范围主要在高速生产线和使用含砂量少的高档原纸,而我国的市场环境特点是80%以上是中、低速设备,因此其在中国瓦楞辊市场的空间也相对较小,即使在国外,也不是普遍应用。
发明内容
为解决上述问题,本发明的目的是提供一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其制得瓦楞辊耐磨,使用寿命长,适用范围广。
本发明的目的是这样实现的:一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
(1)以60CrMnMoA或60CrNiMoA为制造瓦楞辊的材料,且材料经锻造和调质处理,调质硬度要求为HRC25~40。
(2)采用碳素吸光涂料对瓦楞辊齿部进行喷涂预处理,或者采用磷化液对瓦楞辊齿部进行磷化处理。
(3)通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描。
所述步骤(1)中60CrMnMoA材料按质量分数百分比计算,含有以下化学成分:C 0.55~0.70%、Mn 0.70~1.00%、Cr 0.80~1.00%、Mo 0.25~0.35、Si 0.17~0.37%、Cu≯0.25%、P≯0.025%、S≯0.025。
所述步骤(1)中60CrNiMoA材料按质量分数百分比计算,含有以下化学成分:C 0.55~0.70%、Mn 0.60~0.80%、Cr 0.80~1.00%、Ni 1.50~2.00%、Mo 0.25~0.35%、Si 0.20~0.40%、Cu≯0.25%、P≯0.025%、S≯0.025%
所述步骤(1)中的调质处理工艺为:淬火850±20℃,回火500~600℃。
所述步骤(1)中60CrMnMoA或60CrNiMoA材料的低倍质量符合GB1222《弹簧钢》的要求。
所述步骤(3)中,激光光斑轴向扫描,扫描完第一个齿后,翻转180°对称扫描第二个齿,通过手动定位或自动分度定位,光斑对准齿尖。
所述步骤(3)中,激光器的输出功率N为1500~5000W。
所述步骤(3)中,对A型和C型瓦楞辊进行激光淬火处理时,镜头采用宽带积分镜头,扫描速度为500~4000m/min。
所述步骤(3)中,对B型和E型瓦楞辊进行激光淬火处理时,镜头采用聚焦镜头,扫描速度为600~4000m/min。
本发明采用材料具有热疲劳性能好,淬透性好,强韧性能高的优点,且材料成本与目前瓦楞辊主流材料42~48CrMo相当;采用激光淬火工艺,快速加热和快速冷却的工艺环境下形成弥散强化效果,在硬度相同的条件下,激光淬火件更加耐磨,且更加强韧;由于使用的吸光涂料可在光斑周围形成气体保护气氛,使处理面免遭氧化,具有保护工件表面的性能,使瓦楞辊更加耐疲劳;瓦楞辊激光淬火工艺流程短,加工成本低;利用光斑的聚焦特性,使瓦楞齿顶的功率密度最高,齿根的功率密度最低,与瓦楞辊的磨损机制相吻合;瓦楞辊激光淬火,由于基体牵制变形量小,且采用对称扫描工艺,变形量更小,其径向跳动下辊(带槽)为0~0.01mm,上辊(不带槽)0.01~0.03mm,硬度高于HRC60,使用寿命(轧纸量)高于1200万跑米。
具体实施方式
本发明是一种高耐磨瓦楞辊制造方法,用于楞型符合QB/T1447.1-2000《单面瓦楞纸板机瓦楞辊》要求的瓦楞辊选材和激光强化工艺方法。
首先,选用具有高耐磨性能和热疲劳性能的60CrMnMoA或60CrNiMoA为制造材料。材料的化学成分需严格控制,见表1和表2。材料的低倍质量符合GB1222《弹簧钢》的要求。材料经锻造加工成瓦楞辊坯料尺寸要求,然后进行调质处理,处理工艺为:淬火850±20℃,回火500~600℃。调质硬度要求为HRC25~40。
表1.60CrMnMoA的化学成分(质量分数)(%)
% | Mn% | Cr% | Mo% | Si% | Ni | Cu≯ | P≯ | S≯ |
55~0 | 0.70~1.00 | 0.80~1.00 | 0.25~0.35 | 0.17~0.37 | - | 0.25 | 0.025 | 0.025 |
表2.60CrNiMoA的化学成分(质量分数)(%)
Mn% | Cr% | Ni% | Mo% | Si | Cu≯ | P≯ | S≯ |
0.55~0.70 | 0.60~0.80 | 0.80~1.00 | 1.50~2.00 | 0.25~0.35 | 0.20~0.40 | 0.25 | 0.025 | 0.025 |
然后采用碳素吸光涂料对齿部进行喷涂预处理,或者采用磷化液对齿部进行磷化处理。
最后对楞齿进行激光淬火处理:光斑轴向扫描,扫描完第一个齿后,翻转180°对称扫描第二个齿;手动定位或自动分度定位,光斑对准齿尖;功率和扫描速度根据实际需要而设定。一般的,激光器的输出功率N=1500~5000W。扫描速度按表3执行。
表3.激光淬火处理扫描速度
镜头 | 宽带积分镜头 | 聚焦镜头 | ||
齿型 | A | C | B | E |
速度m/min | 500~4000 | 550~4000 | 600~4000 | 600~4000 |
用本发明技术制造的瓦楞辊,轴向变形(径向跳动)小于0.03mm,硬度高于HRC60,使用寿命(轧纸量)高于1200万跑米。
实施例1
首先以60CrMnMoA为材料,经锻造加工成A型瓦楞辊坯料,再进行调质处理,调质硬度要求为HRC25;然后采用碳素吸光涂料对瓦楞辊齿部进行喷涂预处理;通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描,激光器的输出功率N为5000W,镜头采用宽带积分镜头,扫描速度为500m/min。
实施例2
以60CrNiMoA为瓦楞辊的材料,经锻造加工成C型瓦楞辊坯料,再进行调质处理,调质硬度要求为HRC40;然后采用碳素吸光涂料对瓦楞辊齿部进行喷涂预处理;通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描,激光器的输出功率N为1500W,镜头采用宽带积分镜头,扫描速度为4000m/min。
实施例3
首先以60CrMnMoA为材料,经锻造加工成B型瓦楞辊坯料,再进行调质处理,调质硬度要求为HRC30;然后采用磷化液对齿部进行磷化处理;通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描,激光器的输出功率N为2500W,镜头采用聚焦镜头,扫描速度为空600m/min。
实施例4
以60CrNiMoA为瓦楞辊的材料,经锻造加工成E型瓦楞辊坯料,再进行调质处理,调质硬度要求为HRC35;然后采用磷化液对齿部进行磷化处理;通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描,激光器的输出功率N为3500W,镜头采用聚焦镜头,扫描速度为3000m/min。
Claims (9)
1.一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
(1)以60CrMnMoA或60CrNiMoA为制造瓦楞辊的材料,且材料经锻造和调质处理,调质硬度要求为HRC25~40。
(2)采用碳素吸光涂料对瓦楞辊齿部进行喷涂预处理,或者采用磷化液对瓦楞辊齿部进行磷化处理。
(3)通过激光器对瓦楞辊的楞齿进行激光淬火处理,光斑轴向扫描。
2.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(1)中60CrMnMoA材料按质量分数百分比计算,含有以下化学成分:C 0.55~0.70%、Mn 0.70~1.00%、Cr 0.80~1.00%、Mo 0.25~0.35、Si 0.17~0.37%、Cu≯0.25%、P≯0.025%、S≯0.025。
3.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(1)中60CrNiMoA材料按质量分数百分比计算,含有以下化学成分:C 0.55~0.70%、Mn 0.60~0.80%、Cr 0.80~1.00%、Ni 1.50~2.00%、Mo 0.25~0.35%、Si 0.20~0.40%、Cu≯0.25%、P≯0.025%、S≯0.025%。
4.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(1)中的调质处理工艺为:淬火850±20℃,回火500~600℃。
5.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(1)中60CrMnMoA或60CrNiMoA材料的低倍质量符合GB1222《弹簧钢》的要求。
6.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(3)中,激光光斑轴向扫描,扫描完第一个齿后,翻转180°对称扫描第二个齿,通过手动定位或自动分度定位,光斑对准齿尖。
7.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(3)中,激光器的输出功率N为1500~5000W。
8.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(3)中,对A型和C型瓦楞辊进行激光淬火处理时,镜头采用宽带积分镜头,扫描速度为500~4000m/min。
9.根据权利要求1所述的一种高耐磨瓦楞辊制造方法,其特征在于:所述步骤(3)中,对B型和E型瓦楞辊进行激光淬火处理时,镜头采用聚焦镜头,扫描速度为600~4000m/min。
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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