CN1394582A - 洗发护发液的植物添加剂 - Google Patents
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Abstract
一种洗发护发液的植物添加剂,由川芎、百合、甘草、茯苓、五加皮、三七、芝麻、芦荟、葵花子和何首乌组成,各种天然植物占天然植物混合物总重量的比例分别为:川芎11~16%、百合15~20%、甘草11~16%、茯苓12~17%、五加皮13~18%、三七7~12%、芝麻9~14%、芦荟13~18%、葵花子11~16%和何首乌13~18%,采用高温高压方法灭菌,并经过浸泡,将固态物分离,添加到洗发护发液中,可以改善有机化合物对皮肤发质的影响,达到环保和保健的功效,有益人体健康。
Description
技术领域:本发明涉及一种医用配制品,尤其是一种用于洗发护发液的添加剂,特别是一种含有天然植物材料的洗发护发液的植物添加剂。
背景技术:已有技术中的各类洗发护发液,含有有机化合物。
发明内容:本发明所要解决的技术问题是:已有技术中含有有机化合物的洗发护发液,在使用过程中,会影响环境,同时对人体皮肤发质也有不利影响。本发明为解决上述技术问题的方法是提供一种含有川芎等多种天然植物材料的洗发护发液的植物添加剂,通过多种天然植物材料成份改善有机化合物对皮肤发质的影响。所述的这种含有天然植物川芎的洗发护发液的植物添加剂,由川芎、百合、甘草、茯苓、五加皮、三七、芝麻、芦荟、葵花子和何首乌组成,其配制过程为:首先制备天然植物浸泡物,所述的制备天然植物浸泡物的过程包括:1,将天然植物粉碎至粉末状,颗粒度在10~15目之间,2,将粉碎后的天然植物混合,其中各种天然植物占天然植物浸泡物总重量的比例分别为:川芎11~16%、百合15~20%、甘草11~16%、茯苓12~17%、五加皮13~18%、三七7~12%、芝麻9~14%、芦荟13~18%、葵花子11~16%和何首乌13~18%;其次,将所述的天然植物浸泡物置于密闭容器中,通以水蒸汽60~100分钟,控制蒸汽压力在500~1000千帕斯卡之间,温度在150~220摄氏度之间;冷却后,将浸泡物置于容器中,加入25%以下浓度的乙醇浸泡,浸泡物与乙醇的重量之比为1∶1~5,于15~25摄氏度的温度下静置72~24 0小时,然后加入蒸馏水稀释,浸泡物与蒸馏水的重量之比为1∶1~5,再取出混合溶液,以离心法或过滤法将固态物分离,将所得溶液进行分装或直接加入洗发护发液中。本发明对照已有技术,因为采用了粉碎后的川芎、百合、甘草、茯苓、五加皮、三七、芝麻、芦荟、葵花子和何首乌为浸泡物,完全是天然植物成份,所以,可以改善有机化合物对皮肤发质的影响,达到环保和保健的功效,又因为采用了离心法或过滤法将固态物分离,所以制成品中不含固态物,再因为采用了高温高压方法灭菌,所以制成品中不含微生物,有益人体健康。
具体实施方式:一种含有天然植物川芎的洗发护发液的植物添加剂,由川芎、百合、甘草、茯苓、五加皮、三七、芝麻、芦荟、葵花子和何首乌组成,其配制过程为:首先,取川芎21千克、百合30千克、甘草21千克、茯苓23千克、五加皮26千克、三七13千克、芝麻17千克、芦荟27千克、葵花子22千克和何首乌26千克,分别粉碎至粉末状后混合,颗粒度为10目;然后将前述的天然植物混合物置于密闭容器中,通以水蒸汽60分钟,控制蒸汽压力为500千帕斯卡,温度为215摄氏度;冷却之后将混合物置于容器中,加入25%以下浓度的乙醇450千克,于20摄氏度的温度下静置190小时,加入蒸馏水450千克,取出混合溶液,以过滤法将固态物分离,将所得溶液进行分装或直接加入洗发护发液中。
Claims (1)
1,一种洗发护发液的植物添加剂,其特征在于:所述的植物添加剂,由川芎、百合、甘草、茯苓、五加皮、三七、芝麻、芦荟、葵花子和何首乌组成,其配制过程为:1,将所述的天然植物粉碎至粉末状,颗粒度在10~15目之间,2,将粉碎后的天然植物混合,其中各种天然植物占天然植物混合物总重量的比例分别为:川芎11~16%、百合15~20%、甘草11~16%、茯苓12~17%、五加皮13~18%、三七7~12%、芝麻9~14%、芦荟13~18%、葵花子11~16%和何首乌13~18%,其次,将所述的天然植物混合物置于密闭容器中,通以水蒸汽60~100分钟,控制蒸汽压力在500~1000千帕斯卡之间,温度在150~220摄氏度之间,之后冷却,将浸泡物置于容器中,加入25%以下浓度的乙醇,浸泡物与乙醇的重量之比为1∶1~5,于15~25摄氏度的温度下静置72~240小时,然后加入蒸馏水,浸泡物与蒸馏水的重量之比为1∶1~5,取出混合溶液,将固态物分离。
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2001
- 2001-07-06 CN CN 01113291 patent/CN1394582A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |