CN117968318A - 用于风冷式设备的化霜控制方法及装置、风冷式设备 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及智能设备的技术领域,公开了一种用于风冷式设备的化霜控制方法及装置、风冷式设备,风冷式设备的蒸发器室中设有蒸发器和第一加热件,蒸发器室设置有排水管,排水管设置有第二加热件,蒸发器室的靠近排水管的位置设置有温湿度传感器,化霜控制方法包括:通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值;确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件;在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,控制第二加热件独立工作。上述方法可以及时地对风冷式设备的排水管进行化霜。
Description
技术领域
本申请涉及智能设备的技术领域,例如涉及一种用于风冷式设备的化霜控制方法及装置、风冷式设备。
背景技术
风冷式设备(如风冷式冷柜)会利用加热器周期性地对设备内部进行化霜,然而受限于风冷式设备的结构特点,设备内部有可能存在化霜死角,加热器无法及时地对这些死角进行化霜。
在相关技术中,风冷式设备的排水管通常为化霜死角,由于加热器无法及时地对排水管进行化霜,这容易使排水管因结霜而发生堵塞,排水管堵塞后会导致设备内部的负压增大,不利于用户打开风冷式设备的门体。
需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解,下面给出了简单的概括。所述概括不是泛泛评述,也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围,而是作为后面的详细说明的序言。
本公开实施例提供一种用于风冷式设备的化霜控制方法及装置、风冷式设备,可以及时地对风冷式设备的排水管进行化霜,有助于降低设备内部的负压,便于用户打开风冷式设备的门体。
根据本公开的第一方面,提供了一种用于风冷式设备的化霜控制方法,风冷式设备包括内胆以及与内胆连通的蒸发器室,蒸发器室中设有蒸发器和第一加热件,蒸发器室设置有排水管,排水管设置有第二加热件,蒸发器室的靠近排水管的位置设置有温湿度传感器,化霜控制方法包括:
通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值;
确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件;
在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作;
在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,控制第二加热件独立工作。
在一些实施例中,独立工作启动条件包括:温度值不超过温度阈值,并且湿度值不低于湿度阈值。
在一些实施例中,独立工作启动条件包括:在第一时长阈值内,各个采样时刻的温度值均不超过温度阈值,并且各个采样时刻的湿度值均不低于湿度阈值。
在一些实施例中,控制第二加热件独立工作,包括:控制第二加热件以第一功率独立工作,第一功率大于第二加热件在通用化霜逻辑下工作时的功率。
在一些实施例中,在控制第二加热件独立工作之后,还包括:确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件退出独立工作的模式。
在一些实施例中,独立工作退出条件包括:温度值超过温度阈值,并且湿度值低于湿度阈值。
在一些实施例中,独立工作退出条件包括:第二加热件进行独立工作的工作时长超过第二时长阈值、温度值超过温度阈值、以及湿度值低于湿度阈值。
在一些实施例中,化霜控制方法还包括:在第二加热件进行独立工作的工作时长达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,按照功率增大系数和第二加热件的当前功率确定出第二功率,其中,第二功率大于第二加热件的当前功率;控制第二加热件以第二功率独立工作。
在一些实施例中,功率增大系数是通过以下方式确定出的:计算温度阈值的绝对值与排水管附近的当前时刻的温度值的绝对值的第一比值、排水管附近的当前时刻的湿度值与湿度阈值的第二比值;基于第一比值和第二比值确定出功率增大系数,其中,功率增大系数与第一比值和第二比值均成反比。
在一些实施例中,基于温度差值和湿度差值确定出功率增大系数,包括:基于第一比值、第二比值、第一比值对应的第一权重系数以及第二比值对应的第二权重系数,计算出温度差值和湿度差值的加权平均值;基于加权平均值确定出功率增大系数。
在一些实施例中,化霜控制方法还包括:在第二加热件进行独立工作的工作时长未达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件继续以第一功率独立工作。
根据本公开的第二方面,提供了一种用于风冷式设备的化霜控制装置,化霜控制装置包括处理器和存储有程序指令的存储器,处理器被配置为在运行程序指令时,执行本公开第一方面提供的化霜控制方法。
根据本公开的第三方面,提供了一种风冷式设备,风冷式设备包括内胆以及与内胆连通的蒸发器室,蒸发器室中设置有蒸发器和第一加热件,蒸发器室设置有排水管,风冷式设备还包括:
第二加热件,第二加热件设置于排水管;
温湿度传感器,设置于靠近蒸发器室的靠近排水管的位置,用于获取排水管附近的温度值和湿度值;
本公开第二方面提供的化霜控制装置,分别与第一加热件、第二加热件和温湿度传感器电连接。
本公开实施例提供的用于风冷式设备的化霜控制方法及装置、风冷式设备,可以实现以下技术效果:
在本公开实施例提供的风冷式设备中,为蒸发器室的排水管专门设置了第二加热件,通过对排水管附近的温度值和湿度值进行分析,可以准确地确定排水管的结霜情况,在确定排水管结霜或存在结霜风险时,可以通过控制第二加热件独立工作来及时地对风冷式设备的排水管进行化霜,避免排水管发生堵塞,有助于降低设备内部的负压,便于用户打开风冷式设备的门体。
以上的总体描述和下文中的描述仅是示例性和解释性的,不用于限制本申请。
附图说明
一个或多个实施例通过与之对应的附图进行示例性说明,这些示例性说明和附图并不构成对实施例的限定,附图中具有相同参考数字标号的元件示为类似的元件,附图不构成比例限制,并且其中:
图1是本公开实施例提供的一种风冷式设备的部分结构示意图;
图2是本公开实施例提供的图1中A处的放大图;
图3是本公开实施例提供的一种风冷式设备中的部分模块的电路连接示意图;
图4是本公开实施例提供的一种用于风冷式设备的化霜控制方法的流程示意图;
图5是本公开实施例提供的另一种用于风冷式设备的化霜控制方法的流程示意图;
图6是本公开实施例提供的另一种用于风冷式设备的化霜控制方法的流程示意图;
图7是本公开实施例提供的一种化霜控制装置的结构示意图。
附图标记:
10-风冷式设备;
101-化霜控制装置;
1011-处理器、1012-存储器、1013-通信接口、1014-总线;
102-内胆、103-蒸发器室;
104-蒸发器、105-第一加热件、106-第二加热件;
107-温湿度传感器、108-排水管。
具体实施方式
为了能够更加详尽地了解本公开实施例的特点与技术内容,下面结合附图对本公开实施例的实现进行详细阐述,所附附图仅供参考说明之用,并非用来限定本公开实施例。在以下的技术描述中,为方便解释起见,通过多个细节以提供对所披露实施例的充分理解。然而,在没有这些细节的情况下,一个或多个实施例仍然可以实施。在其它情况下,为简化附图,熟知的结构和装置可以简化展示。
本公开实施例的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本公开实施例的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
本公开实施例中,术语“上”、“下”、“内”、“中”、“外”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本公开实施例及其实施例,并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位,或以特定方位进行构造和操作。并且,上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外,还可能用于表示其他含义,例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解这些术语在本公开实施例中的具体含义。
另外,术语“设置”、“连接”、“固定”应做广义理解。例如,“连接”可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本公开实施例中的具体含义。
除非另有说明,术语“多个”表示两个或两个以上。
本公开实施例中,字符“/”表示前后对象是一种“或”的关系。例如,A/B表示:A或B。
术语“和/或”是一种描述对象的关联关系,表示可以存在三种关系。例如,A和/或B,表示:A或B,或,A和B这三种关系。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开实施例中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
风冷式设备(如风冷式冷柜)会利用加热器周期性地对设备内部进行化霜,然而受限于风冷式设备的结构特点,设备内部有可能存在化霜死角,加热器无法及时地对这些死角进行化霜。
在相关技术中,风冷式设备的排水管通常为化霜死角,由于加热器无法及时地对排水管进行化霜,这容易使排水管因结霜而发生堵塞,排水管堵塞后会导致设备内部的负压增大,不利于用户打开风冷式设备的门体。
结合图1至图3所示,本公开实施例提供了一种风冷式设备10,风冷式设备10可以是风冷式冰箱、风冷式冰柜和风冷式酒柜等。风冷式设备10包括化霜控制装置101、内胆102、蒸发器室103、蒸发器104、第一加热件105、第二加热件106和温湿度传感器107。蒸发器室103与内胆102连通的蒸发器室103,蒸发器104和第一加热件105设置于蒸发器室103的内部。
蒸发器室103设置有排水管108,第二加热件106设置于排水管108,温湿度传感器107设置于靠近蒸发器室103的靠近排水管108的位置,温湿度传感器107用于获取排水管108附近的温度值和湿度值。
在本公开实施例中,第一加热件105靠近蒸发器104,主要用于对蒸发器104及蒸发器室103的内部进行化霜。第二加热件106设置于排水管108,专门用于对排水管108进行化霜。
在本公开实施例中,第二加热件106的具体形式可以根据实际的设计需要而定。例如,第二加热件106可以是加热丝,加热丝环绕于排水管108。第二加热件106可以是加热片,加热片贴近于排水管108。第二加热件106可以是筒状的加热管,加热管套设于排水管108。
在本公开实施例中,化霜控制装置101分别与第一加热件105、第二加热件106和温湿度传感器107电连接。化霜控制装置101可以通过温湿度传感器107获取排水管108附近的温度值和湿度值,根据排水管108附近的温度值和湿度值的情况,按照通用化霜逻辑控制第一加热件105和第二加热件106同步工作,或者控制第二加热件106独立工作。
结合本公开实施例提供的风冷式设备,本公开实施例提供了一种用于风冷式设备的化霜控制方法,该化霜控制方法由化霜控制装置执行,如图4所示,控制方法包括以下步骤:
S401:化霜控制装置通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值。
在本公开实施例,温湿度传感器可以按照预设的采样频率,持续地采集排水管附近的温度值和湿度值。温湿度传感器采集到排水管附近的温度值和湿度值之后,会将温度值和湿度值发送给化霜控制装置。
可选地,化霜控制装置通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值的过程是持续进行的。也就是说,化霜控制装置执行后续步骤的区间,化霜控制装置还同步地执行S401。
S402:化霜控制装置确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件。
在一些实施例中,独立工作启动条件包括:温度值不超过温度阈值,并且湿度值不低于湿度阈值。也就是说,在排水管附近的温度值不超过温度阈值,并且排水管附近的湿度值不低于湿度阈值的情况下,确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件。
在一些实施例中,独立工作启动条件包括:在第一时长阈值内,各个采样时刻的温度值均不超过温度阈值,并且各个采样时刻的湿度值均不低于湿度阈值。也就是说,在第一时长阈值内,在排水管附近的各个采样时刻的温度值均不超过温度阈值,并且排水管附近的各个采样时刻的湿度值均不低于湿度阈值的情况下,确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件。
在本公开实施中,在确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件时,表明排水管已经结霜或存在结霜风险。
在本公开实施中,温度阈值和湿度阈值是容易使排水管结霜的环境的温度值和湿度值,温度阈值和湿度阈值的具体值可以根据每个风冷式设备的实际情况而定,例如,温度阈值可以是零下0.5摄氏度,湿度阈值可以是60%。
在本公开实施中,第一时长阈值是在排水管附近的温度值不超过温度阈值,并且排水管附近的湿度值不低于湿度阈值的情况下,排水管结霜所需要的时间长度。第一时长阈值的具体值可以根据每个风冷式设备的实际情况而定,例如,第一时长阈值可以是5分钟。
在本公开实施中,在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,执行S403;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,执行S404。
S403:化霜控制装置按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作。
在本公开实施例中,通用化霜逻辑是风冷式设备原有的针对第一加热件的控制逻辑。通用化霜逻辑针对风冷式设备的状态参数设置了相应的化霜启动条件和化霜结束条件;在风冷式设备当前的状态参数满足通用化霜逻辑所设置的化霜启动条件时,控制第一加热件和第二加热件同步工作;在风冷式设备当前的状态参数满足通用化霜逻辑所设置的化霜结束条件时,控制第一加热件和第二加热件同步地停止工作。
在本公开实施例中,化霜启动条件和化霜结束条件的具体内容,可以根据风冷式设备的实际情况而定。例如,可以基于风冷式设备的运行时间设置相应的化霜启动条件和化霜结束条件,可以基于风冷式设备中间室的温度设置相应的化霜启动条件和化霜结束条件,可以根据风冷式设备是否接收到用户的化霜指令设置相应的化霜启动条件和化霜结束条件。当然,化霜启动条件和化霜结束条件设置方式不限于此。
S404:化霜控制装置控制第二加热件独立工作。
在本公开实施例中,控制第二加热件独立工作是指,无论风冷式设备当前的状态参数是否满足通用化霜逻辑所设置的化霜启动条件,第二加热件均需要开始进行工作。
在一些实施例中,控制第二加热件独立工作,包括:控制第二加热件以第一功率独立工作,第一功率大于第二加热件在通用化霜逻辑下工作时的功率。
在本公开实施例提供的风冷式设备中,为蒸发器室的排水管专门设置了第二加热件,通过对排水管附近的温度值和湿度值进行分析,可以准确地确定排水管的结霜情况,在确定排水管结霜或存在结霜风险时,可以通过控制第二加热件独立工作来及时地对风冷式设备的排水管进行化霜,避免排水管发生堵塞,有助于降低设备内部的负压,便于用户打开风冷式设备的门体。
在一些实施例中,在控制第二加热件独立工作之后,还包括:确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件退出独立工作的模式。
在一些实施例中,在控制第二加热件独立工作之后,还包括:确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件;在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件继续独立工作。
本公开实施例提供了另一种用于风冷式设备的化霜控制方法,该化霜控制方法由化霜控制装置执行,如图5所示,化霜控制方法包括以下步骤:
S501:化霜控制装置通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值。
S502:化霜控制装置确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件。
在本公开实施中,在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,执行S503;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,执行S504。
S503:化霜控制装置按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作。
S504:化霜控制装置控制第二加热件独立工作。
在S504之后,继续执行S505。
S505:化霜控制装置确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件。
在一些实施例中,独立工作退出条件包括:温度值超过温度阈值,并且湿度值低于湿度阈值。也就是说,在排水管附近的温度值超过温度阈值,并且排水管附近的湿度值低于湿度阈值的情况下,确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件。
在一些实施例中,独立工作退出条件包括:第二加热件进行独立工作的工作时长超过第二时长阈值、温度值超过温度阈值、以及湿度值低于湿度阈值。也就是说,在第二时长阈值内,在排水管附近的各个采样时刻的温度值均超过温度阈值,并且排水管附近的各个采样时刻的湿度值均低于湿度阈值的情况下,确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件。
在本公开实施中,在确定排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件时,表明完成对排水管的化霜,而且排水管的结霜风险较低。
在本公开实施中,温度阈值和湿度阈值是容易使排水管结霜的环境的温度值和湿度值,温度阈值和湿度阈值的具体值可以根据每个风冷式设备的实际情况而定,例如,温度阈值可以是零下0.5摄氏度,湿度阈值可以是60%。
在本公开实施中,第二时长阈值将排水管的结霜完全融化所需要的时间长度。第二时长阈值的具体值可以根据每个风冷式设备的实际情况而定,例如,第二时长阈值可以是4分钟。
在本公开实施中,在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件的情况下,执行S506;在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,执行S507。
S506:化霜控制装置控制第二加热件退出独立工作的模式。
S507:化霜控制装置控制第二加热件继续独立工作。
在一些实施例中,在排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件之后,化霜控制方法还包括:在第二加热件进行独立工作的工作时长达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,按照功率增大系数和第二加热件的当前功率确定出第二功率,其中,第二功率大于第二加热件的当前功率;控制第二加热件以第二功率独立工作。
在本公开实施例中,第三时长阈值小于第二时长阈值。在第二加热件进行独立工作的工作时长达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,表明第二加热件的当前功率较小,第二加热件的温度较低,这会导致排水管的化霜过程较长。因此,本公开实施例可以按照功率增大系数和第二加热件的当前功率确定出大于第二加热件的当前功率的第二功率,控制第二加热件以第二功率独立工作,使得第二加热件能够发出更高的温度,缩短排水管的化霜过程。
在一些实施例中,在排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件之后,化霜控制方法还包括:在第二加热件进行独立工作的工作时长未达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件继续以第一功率独立工作。
本公开实施例提供了另一种用于风冷式设备的化霜控制方法,该化霜控制方法由化霜控制装置执行,如图6所示,化霜控制方法包括以下步骤:
S601:化霜控制装置通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值。
S602:化霜控制装置确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件。
在本公开实施中,在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,执行S603;在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,执行S604。
S603:化霜控制装置按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作。
S604:化霜控制装置控制第二加热件独立工作。
S605:化霜控制装置确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件。
在本公开实施中,在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件的情况下,执行S606;在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,执行S607。
S606:化霜控制装置控制第二加热件退出独立工作的模式。
S607:化霜控制装置确定第二加热件进行独立工作的工作时长是否达到第三时长阈值。
在本公开实施中,在第二加热件进行独立工作的工作时长达到第三时长阈值的情况下,执行S608;在第二加热件进行独立工作的工作时长未达到第三时长阈值的情况下,执行S610。
S608:化霜控制装置按照功率增大系数和第二加热件的当前功率确定出第二功率。
在一些实施例中,第二加热件的当前功率是前文所示的第一功率。因此,化霜控制装置按照功率增大系数和第一功率确定出第二功率,其中,第二功率大于第一功率。
S609:化霜控制装置控制第二加热件以第二功率独立工作。
S610:化霜控制装置控制第二加热件继续以第一功率独立工作。
在一些实施例中,功率增大系数是通过以下方式确定出的:计算温度阈值的绝对值与排水管附近的当前时刻的温度值的绝对值的第一比值、排水管附近的当前时刻的湿度值与湿度阈值的第二比值;基于第一比值和第二比值确定出功率增大系数。这里,功率增大系数与第一比值和第二比值均成反比。
可选地,基于第一比值和第二比值确定出功率增大系数的过程可以包括:计算第一比值和第二比值的平均值,之后计算该平均值与1的差值,最终将1与该差值相加得到一个和值,将该和值作为功率增大系数。当然,基于第一比值和第二比值确定出功率增大系数的方式不限于此。
在一些实施例中,基于温度差值和湿度差值确定出功率增大系数,包括:基于第一比值、第二比值、第一比值对应的第一权重系数以及第二比值对应的第二权重系数,计算出温度差值和湿度差值的加权平均值;基于加权平均值确定出功率增大系数。
可选地,基于加权平均值确定出功率增大系数的过程可以包括:计算加权平均值与1的差值,之后将1与该差值相加得到一个和值,将该和值作为功率增大系数。当然,基于加权平均值确定出功率增大系数的方式不限于此。
在本公开实施例中,第二加热件在工作时,第二加热件对排水管附近的温度变化的影响程度,一般会大于第二加热件对排水管附近的湿度变化的影响程度。又由于第一比值与排水管附近的温度变化情况相关,第二比值与排水管附近的湿度变化情况相关,可以设置第一比值对应的第一权重系数大于第二比值对应的第二权重系数,以便能更准确地计算出符合排水管的实际化霜状况的功率增大系数,进而确定出更加合理的第二功率。
结合图7所示,本公开实施例提供了一种用于制冷设置的控制装置,控制装置101包括处理器(processor)1011和存储器(memory)1012。可选地,控制装置101还可以包括通信接口(Communication Interface)1013和总线1014。其中,处理器1011、通信接口1013、存储器1012可以通过总线1014完成相互间的通信。通信接口1013可以用于信息传输。处理器1011可以调用存储器1012中的逻辑指令,以执行上述实施例的用于风冷式设备的化霜控制方法。
此外,上述的存储器1012中的逻辑指令可以通过软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,可以存储在一个计算机可读取存储介质中。
存储器1012作为一种计算机可读存储介质,可用于存储软件程序、计算机可执行程序,如本公开实施例中的方法对应的程序指令/模块。处理器1011通过运行存储在存储器1012中的程序指令/模块,从而执行功能应用以及数据处理,即实现上述实施例中的用于风冷式设备的化霜控制方法。
存储器1012可包括存储程序区和存储数据区,其中,存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需的应用程序;存储数据区可存储根据终端设备的使用所创建的数据等。此外,存储器1012可以包括高速随机存取存储器,还可以包括非易失性存储器。
本公开实施例提供了一种计算机可读存储介质,存储有计算机可执行指令,所述计算机可执行指令设置为执行上述用于风冷式设备的化霜控制方法。
本公开实施例的技术方案可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质中,包括一个或多个指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机,服务器,或者网络设备等)执行本公开实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质可以是非暂态存储介质,例如:U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM,Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM,Random Access Memory)、磁碟或者光盘等多种可以存储程序代码的介质。
以上描述和附图充分地示出了本公开的实施例,以使本领域的技术人员能够实践它们。其他实施例可以包括结构的、逻辑的、电气的、过程的以及其他的改变。实施例仅代表可能的变化。除非明确要求,否则单独的部件和功能是可选的,并且操作的顺序可以变化。一些实施例的部分和特征可以被包括在或替换其他实施例的部分和特征。而且,本申请中使用的用词仅用于描述实施例并且不用于限制权利要求。如在实施例以及权利要求的描述中使用的,除非上下文清楚地表明,否则单数形式的“一个”(a)、“一个”(an)和“所述”(the)旨在同样包括复数形式。类似地,如在本申请中所使用的术语“和/或”是指包含一个或一个以上相关联的列出的任何以及所有可能的组合。另外,当用于本申请中时,术语“包括”(comprise)及其变型“包括”(comprises)和/或包括(comprising)等指陈述的特征、整体、步骤、操作、元素,和/或组件的存在,但不排除一个或一个以上其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或这些的分组的存在或添加。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个…”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法或者设备中还存在另外的相同要素。本文中,每个实施例重点说明的可以是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分可以互相参见。对于实施例公开的方法、产品等而言,如果其与实施例公开的方法部分相对应,那么相关之处可以参见方法部分的描述。
以上描述和附图充分地示出了本公开的实施例,以使本领域的技术人员能够实践它们。其他实施例可以包括结构的以及其他的改变。实施例仅代表可能的变化。除非明确要求,否则单独的部件和功能是可选的,并且操作的顺序可以变化。一些实施例的部分和特征可以被包括在或替换其他实施例的部分和特征。本公开的实施例并不局限于上面已经描述并在附图中示出的结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。
本领域技术人员可以意识到,结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤,能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行,可以取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。所述技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法以实现所描述的功能,但是这种实现不应认为超出本公开实施例的范围。所述技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,上述描述的系统、装置和单元的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。
本文所披露的实施例中,所揭露的方法、产品(包括但不限于装置、设备等),可以通过其它的方式实现。例如,以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,例如,所述单元的划分,可以仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式,例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统,或一些特征可以忽略,或不执行。另外,所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口,装置或单元的间接耦合或通信连接,可以是电性,机械或其它的形式。所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例。另外,在本公开实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中,也可以是各个单元单独物理存在,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。
附图中的流程图和框图显示了根据本公开实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上,流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或代码的一部分,所述模块、程序段或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。在有些作为替换的实现中,方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如,两个连续的方框实际上可以基本并行地执行,它们有时也可以按相反的顺序执行,这可以依所涉及的功能而定。在附图中的流程图和框图所对应的描述中,不同的方框所对应的操作或步骤也可以以不同于描述中所披露的顺序发生,有时不同的操作或步骤之间不存在特定的顺序。例如,两个连续的操作或步骤实际上可以基本并行地执行,它们有时也可以按相反的顺序执行,这可以依所涉及的功能而定。框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合,可以用执行规定的功能或动作的专用的基于硬件的系统来实现,或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
Claims (10)
1.一种用于风冷式设备的化霜控制方法,其特征在于,风冷式设备包括内胆以及与内胆连通的蒸发器室,蒸发器室中设有蒸发器和第一加热件,蒸发器室设置有排水管,其特征在于,排水管设有第二加热件,蒸发器室的靠近排水管的位置设置有温湿度传感器,化霜控制方法包括:
通过温湿度传感器获取排水管附近的温度值和湿度值;
确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作启动条件;
在排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作启动条件的情况下,按照通用化霜逻辑,控制第一加热件和第二加热件同步工作;
在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作启动条件的情况下,控制第二加热件独立工作。
2.根据权利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,独立工作启动条件包括:温度值不超过温度阈值,并且湿度值不低于湿度阈值。
3.根据权利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,独立工作启动条件包括:在第一时长阈值内,各个采样时刻的温度值均不超过温度阈值,并且各个采样时刻的湿度值均不低于湿度阈值。
4.根据权利要求1至3任一项所述的化霜控制方法,其特征在于,控制第二加热件独立工作,包括:控制第二加热件以第一功率独立工作,第一功率大于第二加热件在通用化霜逻辑下工作时的功率。
5.根据权利要求1至3任一项所述的化霜控制方法,其特征在于,在控制第二加热件独立工作之后,还包括:
确定排水管附近的温度值和湿度值是否符合独立工作退出条件;
在排水管附近的温度值和湿度值符合独立工作退出条件的情况下,控制第二加热件退出独立工作的模式。
6.根据权利要求5所述的化霜控制方法,其特征在于,独立工作退出条件包括:温度值超过温度阈值,并且湿度值低于湿度阈值。
7.根据权利要求5所述的化霜控制方法,其特征在于,独立工作退出条件包括:第二加热件进行独立工作的工作时长超过第二时长阈值、温度值超过温度阈值、以及湿度值低于湿度阈值。
8.根据权利要求5所述的化霜控制方法,其特征在于,还包括:
在第二加热件进行独立工作的工作时长达到第三时长阈值、并且排水管附近的温度值和湿度值不符合独立工作退出条件的情况下,按照功率增大系数和第二加热件的当前功率确定出第二功率,其中,第二功率大于第二加热件的当前功率;
控制第二加热件以第二功率独立工作。
9.一种用于风冷式设备的化霜控制装置,其特征在于,包括处理器和存储有程序指令的存储器,其特征在于,处理器被配置为在运行程序指令时,执行如权利要求1至8任一项所述的化霜控制方法。
10.一种风冷式设备,其特征在于,包括内胆以及与内胆连通的蒸发器室,蒸发器室中设置有蒸发器和第一加热件,蒸发器室设置有排水管,其特征在于,还包括:
第二加热件,第二加热件设置于排水管;
温湿度传感器,设置于靠近蒸发器室的靠近排水管的位置,用于获取排水管附近的温度值和湿度值;
如权利要求9所述的化霜控制装置,分别与第一加热件、第二加热件和温湿度传感器电连接。
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