CN117917486A - 金属被膜的成膜装置 - Google Patents

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CN117917486A CN202311340307.1A CN202311340307A CN117917486A CN 117917486 A CN117917486 A CN 117917486A CN 202311340307 A CN202311340307 A CN 202311340307A CN 117917486 A CN117917486 A CN 117917486A
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Abstract

提供一种即使在使用了掩模结构体的情况下也能够抑制按压时的电解质膜损伤的金属被膜的成膜装置。一种成膜装置(1),具备通过镀液(L)的液压用电解质膜(13)按压掩模结构体(60)的按压机构。掩模结构体(60)具备:形成有与预定图案对应的贯通部分(68)的丝网掩模(62)、以及在基材(B)侧支持丝网掩模(62)的周缘(62a)的框体(61)。在框体(61)上沿着与电解质膜(13)接触的开口缘(61a),形成有由比框体(61)的材料软质的弹性材料构成的内侧覆盖部(66A)。

Description

金属被膜的成膜装置
技术领域
本发明涉及在基材表面以预定图案形成金属被膜的成膜装置。
背景技术
以往,曾提出使金属在基材表面析出而形成金属被膜的成膜装置(例如专利文献1)。专利文献1中,成膜装置具备收纳镀液的收纳体。在收纳体形成有开口部,开口部由电解质膜密封。成膜装置还具备通过镀液的液压用电解质膜按压基材的按压机构。
在此,在基材表面形成有预定图案的金属制基底层的情况下,在利用电解质膜的液压按压基材的状态下,在阳极与基材之间施加电压。由此,能够在基底层上形成预定图案的金属被膜。不过,没有在基材上形成预定图案的基底层的情况下,例如也设想利用专利文献2所示的掩模材料。
现有技术文献
专利文献1:日本特开2016-125087号公报
专利文献2:日本特开2016-108586号公报
发明内容
在此,在使用具有丝网掩模的掩模结构体作为掩模材料成膜的情况下,掩模结构体被夹在基材与电解质膜之间。该状态下,为了确保基材与丝网掩模的密合性,用作用有镀液的液压的电解质膜来按压掩模结构体。但是,由于支持丝网掩模周缘的框体在基材侧被支持,所以电解质膜被按压到框体的开口缘上,可能会损伤电解质膜。
本发明是鉴于这样的问题而完成的,其目的在于提供一种金属被膜的成膜装置,即使在使用了掩模结构体的情况下,也能够抑制按压时的电解质膜损伤。
鉴于上述课题,本发明的金属被膜的成膜装置,是在将掩模结构体夹在电解质膜与基材之间的状态下,通过电解镀,在基材上形成预定图案的金属被膜的成膜装置。所述成膜装置具备按压机构,所述按压机构通过镀液的液压,用所述电解质膜按压所述掩模结构体。所述掩模结构体具备丝网掩模和框体,所述丝网掩模形成有与所述预定图案对应的贯通部分,所述框体在所述基材侧支持所述丝网掩模的周缘。在所述框体上,沿着与所述电解质膜接触的开口缘,形成有由比所述框体的材料软质的弹性材料构成的内侧覆盖部。
根据本发明,首先,将掩模结构体夹在电解质膜与基材之间,通过按压机构,利用作用有镀液的液压的电解质膜来按压掩模结构体。由于丝网掩模的周缘在基材侧被框体支持,所以能够使丝网掩模与基材的表面密合(紧密接合)。通过电解质膜的按压,在丝网掩模的贯通部分填充渗出液(镀液),渗出液是从因镀液而膨润了的电解质膜渗出的。由于贯通部分是与预定图案对应的形状,所以能够通过电解镀在基材表面形成预定图案的金属被膜。
在此,由于支持丝网掩模周缘的框体在基材侧被支持,所以通过镀液的液压,电解质膜被向框体的开口缘按压。即使在这种情况下,由于沿着框体的开口缘形成有由比框体的材质软质的弹性材料构成的内侧覆盖部,所以内侧覆盖部弹性变形,能够避免电解质膜损伤。再者,由于框体与内侧覆盖部相比是硬质的,所以即使框体被电解质膜按压,框体的形状也不易变形,能够保持丝网掩模对于基材的密合性。
例如,也可以沿着与所述电解质膜相对的所述框体的外周缘,进一步形成由所述软质的弹性材料构成的外侧覆盖部。
成膜时,由于镀液的液压,有时电解质膜被向框体的外周缘按压。即使在这种情况下,由于沿着与电解质膜相对的框体的外周缘形成有由比框体的材料软质的弹性材料构成的外侧覆盖部,所以外侧覆盖部弹性变形,能够避免电解质膜损伤。
例如,形成于所述开口缘与所述外周缘之间且与所述电解质膜相对的相对面,也可以以使得所述内侧覆盖部与所述外侧覆盖部连续的方式由所述软质的弹性材料覆盖。
根据该例,能够通过软质的弹性材料整体来分散电解质膜向框体按压的力。由此,能够抑制应力局部地作用于电解质膜。
例如,成膜装置也可以具备载置所述基材的载置台。在所述载置台形成有收纳所述基材的第1凹部、以及在将所述基材收纳于所述第1凹部的状态下收纳所述掩模结构体的第2凹部。在所述载置台上,沿着所述第2凹部的开口缘形成有由所述软质的弹性材料构成的缘覆盖部。
成膜时,由于镀液的液压,电解质膜有时向载置台的第2凹部的开口缘被按压。即使在这种情况下,由于在载置台上沿着第2凹部的开口缘形成有缘覆盖部,所以也能够避免电解质膜损伤。
例如,所述丝网掩模也可以具有网眼部分和掩模部分,所述网眼部分以格状形成有开口部,所述掩模部分在所述网眼部分的靠所述基材侧固定在所述网眼部分上,并形成有所述贯通部分,所述掩模部分通过所述电解质膜的按压而弹性变形。
根据该例,成膜时,通过镀液的液压,用电解质膜按压掩模部分。通过该电解质膜的按压,掩模部分发生弹性变形,因此能够保持掩模部分对于基材的密合性。
根据本发明,即使在使用了掩模结构体的情况下,也能够抑制按压时的电解质膜损伤。
附图说明
图1是表示本发明实施方式的金属被膜的成膜装置一例的示意截面图。
图2是图1所示成膜装置的掩模结构体的示意立体图和形成有金属被膜的基材的示意立体图。
图3A是沿图2所示的A-A线的局部放大截面图。
图3B是图3A的C部的放大截面图。
图4是用于说明图1所示成膜装置的成膜的示意截面图。
图5A是图4的主要部分截面图。
图5B是图3B所示部分的成膜时的截面图。
图6是说明使用了本发明实施方式的成膜装置的金属被膜的成膜方法一例的流程图。
图7A是变形例1的成膜装置的掩模结构体的局部截面图。
图7B是变形例2的成膜装置的掩模结构体的局部截面图。
图7C是变形例3的成膜装置的掩模结构体的局部截面图。
图8是变形例4的成膜装置的载置台的局部放大截面图。
附图标记说明
1:成膜装置、13:电解质膜、40:载置台、41:第1凹部、42:第2凹部、42b:开口缘、60:掩模结构体、61:框体、62:丝网掩模、64:网眼部分、65:掩模部分、61a:开口缘、61b:外周缘、66A:内侧覆盖部、66B:外侧覆盖部、68:贯通部分、B:基材、F:金属被膜、L:镀液
具体实施方式
首先,对本发明实施方式的金属被膜的成膜装置1进行说明。图1是表示本发明实施方式的金属被膜的成膜装置一例的示意截面图。
如图1所示,成膜装置1是在将掩模结构体60夹在电解质膜13与基材B之间的状态下,通过电解镀在基材B上形成预定图案P的金属被膜F的成膜装置。具体而言,成膜装置1具备阳极11、电解质膜13、在阳极11与基材B之间施加电压的电源14。
成膜装置1具备收纳有阳极11和镀液L的收纳体15、载置基材B的载置台40、以及掩模结构体60。成膜时,掩模结构体60与基材B一起被载置在载置台40上。电解质膜13配置在掩模结构体60与阳极11之间。
成膜装置1具备使收纳体15升降的直动驱动器70。本实施方式中,为了便于说明,以在阳极11的下方配置电解质膜13,进而在其下方配置掩模结构体60和基材B为前提。但是,只要能够在基材B的表面形成金属被膜F,就不限定于该位置关系。
基材B作为阴极发挥作用。基材B的材料只要是作为阴极(即具有导电性的表面)发挥作用的材料就没有特别限定。基材B例如也可以由铝或铜等金属材料构成。在由金属被膜F形成布线图案时,基材B使用在树脂等绝缘性基板的表面形成有铜等基底层的基材。该情况下,在金属被膜F的成膜后,通过蚀刻等除去形成有金属被膜F的部分以外的基底层。由此,能够在绝缘性基板的表面形成金属被膜F的布线图案。
作为一例,阳极11是由与金属被膜的金属相同的金属构成的非多孔质(例如无孔质)的阳极。阳极11具有块状或平板状的形状。作为阳极11的材料,例如可以举出铜等。阳极11通过施加电源14的电压而溶解。但是,在仅利用镀液L的金属离子成膜的情况下,阳极11是对于镀液L为不溶性的阳极。阳极11与电源14的正极电连接。电源14的负极经由载置台40与基材B电连接。
镀液L是以离子状态含有应成膜的金属被膜的金属的液体。作为该金属的一例,可以举出铜、镍、金、银或铁等。镀液L是将这些金属用硝酸、磷酸、琥珀酸、硫酸或焦磷酸等酸溶解(离子化)了的溶液。作为该溶液的溶剂,作为一例,可举出水或乙醇等。例如在金属为铜的情况下,作为镀液L,可以举出含有硫酸铜、焦磷酸铜等的水溶液。
电解质膜13是通过与镀液L接触,能够与镀液L一起在内部浸渗(含有)金属离子的膜。电解质膜13是具有挠性的膜。只要在由电源14施加电压时,镀液L的金属离子能够向基材B侧移动,电解质膜13的材料就没有特别限定。作为电解质膜13的材料,例如可以举出杜邦公司制的Nafion(注册商标)等氟系树脂等具有离子交换功能的树脂等。电解质膜的膜厚优选在20μm~200μm的范围。更优选其膜厚在20μm~60μm的范围。
收纳体15由对于镀液L为不溶性的材料构成。在收纳体15中形成有收纳镀液的收纳空间15a。在收纳体15的收纳空间15a中配置有阳极11。在收纳空间15a的靠基材B一侧形成有开口部15d。收纳体15的开口部15d被电解质膜13覆盖。具体而言,电解质膜13的周缘被收纳体15和框体17夹持。由此,能够用电解质膜13密封收纳空间15a内的镀液L。
如图1和图4所示,直动驱动器70使收纳体15升降,以使得电解质膜13和掩模结构体60能够自如地接触分离。本实施方式中,载置台40被固定,收纳体15通过直动驱动器70升降。直动驱动器70是电动式的驱动器,通过滚珠丝杠等(未图示)将马达的旋转运动变换为直动运动。但是,也可以使用液压式或气动式的驱动器来代替电动式的驱动器。
在收纳体15形成有向收纳空间15a供给镀液L的供给流路15b。而且,在收纳体15形成有将镀液L从收纳空间15a排出的排出流路15c。供给流路15b和排出流路15c是与收纳空间15a连通的孔。供给流路15b和排出流路15c夹着收纳空间15a而形成。供给流路15b与液体供给管50连接。排出流路15c与液体排出管52流体连接。
成膜装置1还具备液罐90、液体供给管50、液体排出管52和泵80。如图1所示,在液罐90收纳有镀液L。液体供给管50将液罐90与收纳体15连接。在液体供给管50设有泵80。泵80从液罐90向收纳体15供给镀液L。液体排出管52将液罐90与收纳体15连接。在液体排出管52设有压力调整阀54。压力调整阀54将收纳空间15a的镀液L的压力(液压)调整为预定压力。
本实施方式中,通过驱动泵80而从液罐90向液体供给管50内吸引镀液L。被吸引的镀液L从供给流路15b压送到收纳空间15a。收纳空间15a的镀液L经由排出流路15c返回到液罐90。这样,镀液L在成膜装置1内循环。
而且,通过持续驱动泵80,能够利用压力调整阀54将收纳空间15a的镀液L的液压维持在预定压力。泵80用作用有镀液L的液压的电解质膜13按压掩模结构体60。因此,泵80相当于本发明中所说的"按压机构"。不过,只要能够用电解质膜13按压掩模结构体60,按压机构就没有特别限定。也可以是代替泵80由注射镀液的活塞和汽缸构成的注射机构。
作为一例,载置台40由导电性材料(例如金属)形成。在载置台40形成有第1凹部41和第2凹部42。第1凹部41是收纳基材B的凹部。第2凹部是在将基材B收纳于第1凹部41的状态下收纳掩模结构体60的凹部。
图2是图1所示成膜装置1的掩模结构体60的示意立体图和形成有金属被膜F的基材B的示意立体图。图3A是沿图2所示的A-A线的局部放大截面图,图3B是图3A的C部的放大截面图。
掩模结构体60具备框体61和丝网掩模62。丝网掩模62形成有与金属被膜F的预定图案P对应的贯通部分68。丝网掩模62具有网眼部分64和掩模部分65。
网眼部分64呈格状地形成有多个开口部64c、64c、…。具体而言,如图3B所示,网眼部分64是取向了的多个线材64a、64b以交叉的方式织入的网眼状部分。多个线材64a、64a彼此隔开间隔排列,与它们交叉的多个线材64b、64b彼此隔开间隔排列。由此,在网眼部分64呈格状地形成多个开口部64c、64c、…。只要是对镀液L具有耐蚀性的材料,线材64a、64b的材料就没有特别限定。作为线材64a、64b的材料,例如可以举出不锈钢等金属材料、或聚酯等树脂材料等。
掩模部分65在网眼部分64的基材B侧固定在网眼部分64上。在掩模部分65形成有与预定图案P对应的贯通部分68。掩模部分65是通过来自电解质膜13的按压,在成膜时与基材B密合的部分。只要能够与基材B密合,掩模部分65的材料就没有特别限定。掩模部分65优选通过来自电解质膜13的按压而压缩弹性变形。例如,作为掩模部分65的材料,可以举出丙烯酸树脂、乙酸乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚酰亚胺树脂或聚酯树脂等树脂材料。具有预定图案P的丝网掩模62可以通过使用了乳剂的一般丝网印刷的制造技术来制造。因此,省略丝网掩模62的制造方法的详细说明。
框体61相对于框体61在基材B侧(载置台40侧)支持丝网掩模62的周缘62a。具体而言,丝网掩模62的周缘62a固定在框体61上。本实施方式中,丝网掩模62具有矩形的外形。因此,框体61具有矩形的框缘状的形状。只要能够保持掩模结构体60的形状,框体61的材料就没有特别限定。例如,作为框体61的材料,可以举出不锈钢等金属材料或热塑性树脂等树脂材料。框体61例如是通过对金属板进行冲裁加工而形成的,具有1mm~3mm左右的厚度。再者,图3A等中,为了便于说明,将框体61的厚度描绘得比实际厚度更厚。
在框体61的表面形成有覆盖部66。覆盖部66的材料由比框体61的材料软质的弹性材料构成。覆盖部66具备内侧覆盖部66A、外侧覆盖部66B和平面覆盖部66C。
如图3A和图5A所示,内侧覆盖部66A沿着与电解质膜13接触的框体61的开口缘61a形成。内侧覆盖部66A覆盖框体61的开口缘61a。在此,框体61的开口缘61a是由与电解质膜13相对的相对面61c和形成框体61的内部空间69的内周面61d形成的棱线(边缘部)。内侧覆盖部66A具有从开口缘61a沿着内周面61d延伸的延伸部66D。
外侧覆盖部66B沿着与电解质膜13相对的框体61的外周缘61b形成。外侧覆盖部66B覆盖框体61的外周缘61b。在此,框体61的外周缘61b是由与电解质膜13相对的相对面61c和框体61的外周面61e形成的棱线(边缘部)。外侧覆盖部66B具有从外周缘61b沿着外周面61e延伸的延伸部66E。
平面覆盖部66C在开口缘61a与外周缘61b之间形成在表面(相对面)61c上。平面覆盖部66C覆盖相对面61c。通过平面覆盖部66C,内侧覆盖部66A和外侧覆盖部66B成为连续的一个部分。本实施方式中,如图3A所示,覆盖部66形成在丝网掩模62的固定有周缘62a的表面以外的部分。
覆盖部66的材料由比框体61的材料软质的弹性材料构成。只要能够避免电解质膜13的损伤,覆盖部66的材料就没有特别限定。覆盖部66优选通过来自电解质膜13的按压而压缩弹性变形。例如,作为覆盖部66的材料,可以举出硅橡胶(PDMS)或三元乙丙橡胶(EPDM)等橡胶材料。橡胶材料的硬度以A型肖氏硬度计,优选为HS100以下,更优选为HS50以下。再者,所谓"软质的弹性材料",例如是用预定规格的硬度计测定的硬度相对低的材料,是通过拉伸试验测定的杨氏模量低的材料。覆盖部66的厚度比框体61的厚度薄。具体而言,优选覆盖部66的厚度相对于框体61的厚度在1/5~1/10左右的范围。
参照图4~图6,对使用了成膜装置1的成膜方法进行说明。首先,如图6所示进行配置工序S1。该工序中,将基材B和掩模结构体60配置在载置台40上。具体而言,在载置台40的第1凹部41收纳基材B,然后,在第2凹部42收纳掩模结构体60。此时,也可以相对于安装在收纳体15上的阳极11调整基材B的对准,进行基材B的温度调整。
接着,进行按压工序S2。该工序中,首先,驱动直动驱动器70,使收纳体15从图1的状态向掩模结构体60下降到图4所示的状态。接着,驱动泵80。由此,向收纳体15的收纳空间15a供给镀液L。由于在液体排出管52上设有压力调整阀54,所以收纳空间15a的镀液L的液压被维持在预定压力。其结果,如图4所示,电解质膜13通过液压而向框体61的内部空间69变形,能够将掩模结构体60夹在电解质膜13与基材B之间。此外,掩模结构60可以由作用有镀液L的液压的电解质膜13按压。
在此,如图4和图5A所示,由于丝网掩模62的周缘62a在基材B侧被框体61支持,所以能够使丝网掩模62与基材B的表面密合。在掩模部分65由橡胶材料形成的情况下,由于镀液L的液压,掩模部分65压缩弹性变形,掩模部分65与基材B的密合性提高。
进而,如果持续按压电解质膜13,则如图5A和图5B所示,在形成于丝网掩模62的贯通部分68,填充从因镀液L而膨润的电解质膜13渗出的渗出液(镀液)La。
如图5A所示,丝网掩模62的周缘62a相对于框体61在基材B侧被支持。通过该支持,镀液L的液压作用在电解质膜13上时,电解质膜13被向框体61的开口缘61a和框体61的外周缘61b按压。
沿着框体61的开口缘61a,形成有由比框体61的材料软质的弹性材料构成的内侧覆盖部66A。而且,沿着与电解质膜13相对的框体61的外周缘61b,形成有由比框体61的材料软质的弹性材料构成的外侧覆盖部66B。由此,内侧覆盖部66A发生弹性变形,并且外侧覆盖部66B发生弹性变形,能够避免电解质膜13损伤。
特别是与图5A不同,在框体61的相对面61c与载置台40的相对面40a相比向电解质膜13侧突出的情况下,电解质膜13容易在框体61的外周缘61b处损伤。在第2凹部42的侧面42a与框体61的外周面61e之间形成有间隙的情况下,电解质膜13也容易在框体61的外周缘61b损伤。
但是,如本实施方式那样,通过在框体61设置外侧覆盖部66B,外侧覆盖部66B发生弹性变形,能够避免电解质膜13损伤。此外,在第2凹部42的侧面42a与框体61的外周面61e之间形成有间隙的情况下,外侧覆盖部66B作为密封材料发挥作用,能够防止镀液L侵入该间隙。
另外,通过平面覆盖部66C,以使得内侧覆盖部66A和外侧覆盖部66B连续的方式对于电解质膜形成相对面61c,相对面61c被软质的弹性材料覆盖。由此,能够通过软质的弹性材料整体来分散电解质膜13向框体61按压的力。其结果,能够抑制应力局部地作用于电解质膜13。
再者,框体61与内侧覆盖部66A相比是硬质的。因此,即使框体61被电解质膜13按压,框体61的形状也难以变形,能够保持丝网掩模62对于基材B的密合性。
接着,进行成膜工序S3。该工序中,维持按压工序S2中的电解质膜13的按压状态,进行金属被膜F的成膜。具体而言,在阳极11与基材B之间施加电压。由此,电解质膜13的内部所含有的金属离子经由渗出液La向基材B的表面移动,金属离子在基材B的表面被还原。由于填充到贯通部分68中的渗出液La被电解质膜13密封在贯通部分68的内部,因此能够在基材B的表面形成预定图案的金属被膜F(参照图2)。进而,通过电解质膜13的按压,渗出液La被均匀地加压,因此能够形成均匀的金属被膜F。再者,在通过金属被膜F制造布线时,只要对形成于绝缘性基材B的表面的导电性基底层进行蚀刻即可。
<变形例>
图7A~图7C是变形例1~变形例3的成膜装置的掩模结构体的局部截面图。这些变形例与图3A所示实施方式的不同点在于,被掩模结构体60的框体61覆盖的覆盖部的形态。因此,对与上述实施方式不同的点进行说明,对于相同的结构,省略其详细说明。
例如,在电解质膜13未与框体61的外周缘61b直接接触的情况下,如图7A所示,也可以在框体61仅形成内侧覆盖部66A。另外,如图7B所示,也可以在框体61个别地形成内侧覆盖部66A和外侧覆盖部66B。根据图7B的变形例2,在上述按压工序S2和成膜工序S3中,通过电解质膜13的按压,内侧覆盖部66A和外侧覆盖部66B独立地弹性变形,能够避免电解质膜13的损伤。
图7C中,在整个框体61形成有覆盖部66。即,变形例3中,在框体61与丝网掩模62的周缘62a之间也形成有由比框体61的材料软质的弹性材料的材料构成的底部覆盖部66F。因此,通过电解质膜13的按压,底部覆盖部66F发生弹性变形,所以能够提高掩模结构体60与基材B的密合性。
图8是变形例4的成膜装置1的载置台40的局部放大截面图。变形例4中,在载置台40,沿着第2凹部42的开口缘42b形成有由比框体61的材料软质的弹性材料构成的缘覆盖部48。由此,成膜时,即使电解质膜13因镀液L的液压而向第2凹部42的开口缘42b按压,缘覆盖部48也会弹性变形,能够避免电解质膜13损伤。
特别是在载置台40的相对面40a与框体61的相对面61c相比向电解质膜13侧突出的情况下,电解质膜13容易在第2凹部42的开口缘42b损伤。因此,通过设置缘覆盖部48,能够避免电解质膜13损伤。此外,本实施方式中,由于缘覆盖部48和覆盖部66由相同的弹性材料构成,因此能够抑制因缘覆盖部48与外侧覆盖部66B的接触而产生的磨损。
实施例
通过以下的实施例对本发明进行说明。
[实施例]
作为成膜用的基材,准备在玻璃纤维制的布重叠而成的部件中浸渗环氧树脂而成的玻璃环氧基板。在该玻璃环氧基板的表面形成有铜箔。接着,使用图1所示的实施方式的成膜装置形成铜被膜。掩模结构体在不锈钢制的框体上形成有A型肖氏硬度HS50的硅橡胶的覆盖部。镀液使用株式会社JCU制的硫酸铜水溶液(Cu-BRITE-SED),阳极使用Cu板。电解质膜使用杜邦公司的Nafion(注册商标)。作为成膜条件,使镀液的温度为42℃,在镀液的液压为1MPa、电流密度为7A/dm2且累积按压时间500秒的条件下形成铜被膜。
[比较例]
与实施例同样地形成铜被膜。与实施例的不同点在于,掩模结构体在不锈钢制的框体没有设置覆盖部。
确认了成膜后的实施例和比较例的成膜装置的电解质膜状态。实施例的成膜装置的电解质膜没有损伤。另一方面,比较例的成膜装置的电解质膜发生了损伤。
以上,对本发明的优选实施方式进行了说明,但本发明并不限定于上述实施方式的成膜装置,包括本发明的概念和专利请求保护的范围所含的所有方式。另外,为了实现上述课题和效果,也可以适当选择组合各结构。例如,上述实施方式中的各构成要素的形状、材料、配置、尺寸等可根据本发明的具体方式适当变更。

Claims (5)

1.一种成膜装置,是在将掩模结构体夹在电解质膜与基材之间的状态下,通过电解镀,在基材上形成预定图案的金属被膜的成膜装置,
所述成膜装置具备按压机构,所述按压机构通过镀液的液压,用所述电解质膜按压所述掩模结构体,
所述掩模结构体具备丝网掩模和框体,
所述丝网掩模形成有与所述预定图案对应的贯通部分,
所述框体在所述基材侧支持所述丝网掩模的周缘,
在所述框体上,沿着与所述电解质膜接触的开口缘,形成有由比所述框体的材料软质的弹性材料构成的内侧覆盖部。
2.根据权利要求1所述的成膜装置,
沿着与所述电解质膜相对的所述框体的外周缘,还形成有由所述软质的弹性材料构成的外侧覆盖部。
3.根据权利要求2所述的成膜装置,
形成于所述开口缘与所述外周缘之间且与所述电解质膜相对的相对面,以使得所述内侧覆盖部与所述外侧覆盖部连续的方式由所述软质的弹性材料覆盖。
4.根据权利要求1所述的成膜装置,
具备载置所述基材的载置台,
在所述载置台形成有收纳所述基材的第1凹部、以及在将所述基材收纳于所述第1凹部的状态下收纳所述掩模结构体的第2凹部,
在所述载置台上,沿着所述第2凹部的开口缘形成有由所述软质的弹性材料构成的缘覆盖部。
5.根据权利要求1所述的成膜装置,
所述丝网掩模具有网眼部分和掩模部分,
所述网眼部分以格状形成有开口部,
所述掩模部分在所述网眼部分的靠所述基材侧,固定在所述网眼部分上,并形成有所述贯通部分,
所述掩模部分通过所述电解质膜的按压而弹性变形。
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