CN117884086A - 一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器 - Google Patents

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朱丽云
毕京贺
李发健
王富国
王振波
刘植昌
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Abstract

本发明提供了一种强化接触反应的离子液烷基化用旋流反应器,包括混合区、造旋区、分离区,其特征在于所述混合区由预混分布盘、两组混合腔、一个稳流腔组成。最上方预混分布盘上均布小孔,两预混分布盘交错分布,分布盘下方设置两组环流混合腔,混合腔壁面内设置多层交错挡板,混合腔外设置稳流腔。稳流腔同样为混合液流入造旋区通道,造旋区设置有导叶起旋。其通过结构设计实现了加强了两相的接触反应时间,同时实现反应与分离同时进行,保证离子液与C4烃充分接触混合,且及时分离反应生成的产物。

Description

一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器
技术领域
本发明涉及液-液非均相混合及分离设备领域,具体涉及一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器。
背景技术
离子液体由于其高选择、无污染等优势,被成功应用在生产烷基化汽油中。目前烷基化反应器仍沿用以往酸式反应器,主要为搅拌釜反应器,配以沉降器进行产物分离,往往会导致停留时间增多,副反应增多等问题。
中国专利CN 112657439 A公布了一种基于多维剪切作用的液-液非均相旋流反应器和反应方法,该专利使用切向入口和导叶等构件实现重相和轻相的快速混合,增加两相接触面积,但是这一过程时间极短,两相接触不足就进入锥段开始分离,反应物转化率不高,且分离出的产物中夹杂大量的反应物,增大了处理成本。
常见的搅拌釜式反应器无法准确控制反应时间且分离困难,不利于离子液体烷基化反应的进行,且需要外加沉降器等设备,占地面积大;旋流器应用于烷基化反应中,混合程度不足,由此设计了一种强化接触反应的离子液烷基化用旋流反应器,在实现两相接触混合反应的同时,能将反应生成的产物及时进行分离。
发明内容
基于上述目的,本发明提供了一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器,其通过结构设计实现了旋流器内反应与分离同时进行,保证离子液(重相)与C4烃(轻相)充分接触混合且及时分离反应产物。
本发明采用的技术方案如下:一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器,反应器整体分为三部分:混合区、造旋区、锥段,其特征在于,所述混合区由预混分布盘、两组混合腔、一个稳流腔组成。最上方预混分布盘上均布小孔,两预混分布盘相互交错分布,分布盘下方设置两组混合腔,混合腔壁面内设置多层交错环流挡板,混合腔外设置稳流腔。
所述稳流腔在混合腔外围,为混合液流入造旋区通道,造旋区设置有导叶起旋。
所述重相入口及轻相入口各一个,位于反应器顶部,成对称分布。
所述两组预混分布盘在两相入口下方,整个盘上均匀分布射孔,射孔为变径射孔,入射方向与流体流动方向相同,两组分布盘上射孔交错分布。
所述混合腔位于预混分布盘下方,两组混合腔同心分布在溢流管外侧,混合腔边壁设置多组环形挡板,用以增加流体流动路径,流体在所述两个混合腔内流动方向相反。
本发明的旋流反应器的工作过程简单介绍如下:
本发明的旋流反应器,用于离子液烷基化反应,生产高辛烷值的烷基化油,轻相与重相分别由对称分布的轻相入口及重相入口进入反应器内,入口下方设置两组预混均布盘,两相经两组预混均布盘进行初步混合及反应;而后共同向下流入混合腔内,混合腔内设置多组交错挡板阻碍两相流体向下流动,同时交错挡板制造湍流加强两相的混合;两组混合腔内流体流动方向相反,增加流体流动路径及接触反应时间。
两相流体自下而上流出混合腔后,改变流向,向下流入稳流腔内,消除混合带来的湍动,而后顺稳流腔向下流动,经导叶起旋,后在锥段实现产物和催化剂的分离,分别由溢流管及底流管排出,由此实现反应和分离一体化过程。
与现有的反应器相比,本发明具有以下优点:
两相入口下方设置两组预混均布盘消除两相泵入脉动,同时实现两相的初步混合;混合腔内设置多组交错挡板,加长两相的流动时间,同时制造湍流加强两相的混合;两组混合腔内流体流动方向相反,延长两相流体的流动路径,同时增加反应器内的空间利用率;混合腔外设置稳流腔,消除混合腔内挡板形成的湍流,稳定两相流体流动;反应后的产物及催化剂经导叶起旋,高效实现反应分离一体化。
附图说明
附图的图面说明如下:
图1为本发明装置结构示意图;
图2为1/4旋流反应器剖面图;
图中,1-溢流管;2-轻相入口;3、12-预混均布盘;4-变径射孔;5-混合腔;6-环流挡板;7-稳流腔;8-溢流口;9-锥段;10-底流管;11-导叶;13-重相入口
具体实施方式
下面结合附图实例对本发明作进一步详细描述。
图1是本发明装置结构示意图如图所示,一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器,包括混合区、造旋区、分离区,其特征在于所述混合区由预混分布盘3、12,混合腔6、稳流腔7组成;混合区上方设有轻相入口1、重相入口13。
所述混合腔6中心设有轴向向上伸出混合区的溢流管1,所述混合区下方设有轴流导叶11及锥段9。
如图2所示,1/4旋流反应器剖面图中,预混均布盘3、12上均布对称的变径射孔4,在其他实例中,所述射孔12可以更改为其他数量,射流方向与流体流动方向相同;预混均布盘下方设置两组混合腔5,两组混合腔内流体流动方向相反;混合腔内设置多组环流挡板6,挡板安置角度为45°,相邻挡板平行安置在混合腔两侧。
本发明的一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器,用于实现离子液体(重相)和C4烃(轻相)的烷基化反应,对反应产物和催化剂进行分离。轻重两相分别经轻相入口2、重相入口13进入反应器内,通过变径射孔4穿过预混分布盘3、12,这一过程中消除两相进入的速度脉动,同时两相初步混合、均匀分布;而后两相加速流入混合腔5内,在环流挡板6的作用下,两相流体交错流动,两相接触反应时间延长。
两相混合液在混合腔5内混合反应后,向下流入稳流腔7内,消除混合腔内流体的湍动;两相混合液继续向下流动,通过轴流导叶11起旋分离,在锥段9的作用下,密度大的催化剂向下流动,由底流管10排出,循环利用;密度小的烷基化油向轴心运动,经溢流口8流入溢流管1,进入后续的生产工艺。

Claims (8)

1.一种强化接触反应的离子液体烷基化用旋流反应器,反应器整体分为三部分:混合区、造旋区、锥段,其特征在于,所述混合区由预混分布盘、两组混合腔、一个稳流腔组成。最上方预混分布盘上均布小孔,两预混分布盘相互交错分布,分布盘下方设置两组混合腔,混合腔壁面内设置多组交错环流挡板,混合腔外设置稳流腔。所述稳流腔在混合腔外围,为混合液流入造旋区通道,造旋区设置有导叶起旋。
2.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述重相入口及轻相入口各一个,位于反应器顶部,对称分布。
3.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述预混分布盘有两个,位于两相入口与混合腔之间。
4.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述预混分布盘在整个盘上均匀分布射孔,两分布盘交错布置。
5.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述预混分布盘上射孔为变径射孔,入射方向与流体流动方向相同。
6.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述混合腔共两个,同心分布在溢流管外侧。
7.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述混合腔中环形挡板分别安置于腔体两侧,混合腔内安置多个平行布置的环形挡板,安置角度为45°,用以增加流体流动路径。
8.根据权利1所述的反应器,其特征在于:所述两个混合腔内流体流动方向相反。
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