CN117664688A - 样品处理组件 - Google Patents

Abstract

一种用于处理基底上的样品的样品处理组件，所述组件包括：用于所述基底的安装表面；以及盖构件，所述盖构件能够在打开位置与基本上闭合位置之间移动，其中，当所述基底放置在所述组件中并且所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，在所述盖构件与所述基底之间形成用于处理所述样品的反应室，并且其中所述安装表面在所述基底与所述安装表面之间提供气隙。一种用于处理基底上的样品的仪器，所述仪器包括至少一个如本文所提供的样品处理组件。还提供一种将基底放置在样品处理组件中的方法。

Description

样品处理组件

本申请是申请日为2018年8月17日、申请号为201880040275.4的中国专利发明申请“样品处理组件”的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种用于促进对基底上的样品进行自动化染色的样品处理组件，所述样品处理组件通常用于在实验室仪器中使用。特别地但非排他地，所述样品处理组件包括用于基底的安装表面，所述安装表面具有在安装表面和基底之间提供气隙的阶梯。本发明还涉及：一种用于处理基底上的样品的仪器，其包括至少一个如本文所公开的样品处理组件；以及一种将基底放置在样品处理组件中的方法。

背景技术

免疫组织化学染色和原位核酸分析是用于组织学诊断和组织形态学研究的手段。免疫组织化学染色依赖于抗体与组织样品中的表位的特异性结合亲和力，以及与仅存在于某些类型的患病细胞组织中的独特表位特异性结合的抗体的不断提高的可用性。免疫组织化学染色涉及对安装在基底(例如，玻璃载片)上的组织样品(通常为切片)进行以通过选择性染色来突出显示疾病状态的某些形态指标的一系列处理步骤。

典型的处理步骤包括：对组织样品进行预处理以减少非特异性结合；抗体处理和孵育；酶标记第二抗体处理和孵育；底物与酶发生反应以产生突出显示组织样品的具有与抗体结合的表位的区域的荧光团或发色团；复染等。在每个处理步骤之间，必须冲洗组织样品以去除先前步骤中未反应的残留试剂。大多数处理步骤涉及通常在大约25℃至高达大约40℃的环境温度下进行的孵育期，而细胞调节步骤通常在稍微更高的温度(例如，90℃至100℃)下进行。原位DNA分析依赖于探针(DNA结合蛋白)与细胞或组织样品中的独特核苷酸序列的特异性结合亲和力，并且类似地涉及在多种试剂和过程温度要求下进行的一系列过程步骤。一些特异性反应涉及高达120℃至130℃的温度。

存在用于使上面所讨论的处理过程中的一些步骤自动化的仪器化和自动化样品处理系统。现有系统包括用于处理基底上的样品的至少一个样品处理组件。此组件包括：安装表面，所述安装表面用于在组件处于打开位置时接收基底；以及可移动盖构件，当组件移动到闭合位置时，所述可移动盖构件覆盖安装表面和基底以形成用于处理样品的反应室。

应当理解，在这些现有自动化样品处理系统中，需要在组件处于打开位置时将基底放置在安装表面上的精确位置中，使得盖构件可以适当地覆盖基底和安装表面以形成反应室。然而，在将基底放置在安装表面上之后，基底可能跨安装表面迁移，这可能干扰反应室的形成。而且，在已发生染色过程之后，要将基底从样品处理组件移除。在一些情况下，基底可能粘到安装表面上(尤其是当安装表面与加热器连通时)，使得难以将基底从样品处理组件移除。

本文所包括的对本发明的背景的讨论，包括对文档、法案、材料、装置、制品等的引用，意图解释本发明的上下文。这不应当被视为承认或暗示所引用的材料中的任一者在权利要求中的任一项的优先权日期时已被公布、已知或是公知常识的一部分。

发明内容

从一个方面来看，本发明提供一种用于处理基底上的样品的样品处理组件，所述组件包括：用于所述基底的安装表面；以及盖构件，所述盖构件能够在打开位置与基本上闭合位置之间移动，其中，当所述基底放置在所述组件中并且所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，在所述盖构件与所述基底之间形成用于处理所述样品的反应室，并且其中所述安装表面在所述基底与所述安装表面之间提供气隙。

在一些实施方案中，所述安装表面包括在所述基底与所述安装表面之间提供气隙的阶梯。

所述气隙减小所述基底与所述安装表面之间的接触面积。在使用中，此减小的接触面积可防止所述基底在其已放置在所述安装表面上之后以及在所述盖构件移动到所述闭合位置以形成所述反应室之前在所述安装表面的顶部上滑移或迁移。所述基底在所述安装表面的顶部上的滑移或迁移可在所述盖构件移动到所述闭合位置之前的任何时间发生。然而，基底滑移或迁移可特别地在于所述基底的一部分与所述安装表面之间形成气泡或液泡时发生。

在一些实施方案中，所述安装表面在第一端与相反的第二端之间纵向延伸，并且所述阶梯位于所述第一端附近。在使用中，放置在所述安装表面上的所述基底还可在所述第一端与所述相反的第二端之间并且至少部分地在位于所述第一端附近的所述阶梯之上纵向延伸。

在一些实施方案中，所述阶梯相对于所述安装表面具有在所述基底与所述安装表面之间提供气隙的高度，并且当所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，所述阶梯的所述高度允许所述基底挠曲成与所述安装表面基本上接触。例如，所述阶梯的所述高度可以在0.08mm至0.12mm之间，并且优选为0.1mm。在一些实施方案中，所述基底是长形基底(诸如由玻璃制成的病理学载片)，所述长形基底具有固有挠性以在所述盖构件处于所述基本上闭合位置时挠曲成与所述安装表面基本上接触。在所述实例中，所述阶梯的所述高度被选择为允许所述载片挠曲成与所述安装表面基本上接触而不破坏所述载片。

在一些实施方案中，所述阶梯被构造为在于所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙的第一位置与基本上平行于所述安装表面的第二位置之间移动。另外，所述阶梯可由偏置装置朝向所述第一位置偏置。例如，所述阶梯可由弹簧朝向所述第一位置偏置。当所述盖构件处于所述打开位置时，所述阶梯可偏置以提供所述气隙，并且当所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，所述阶梯可允许所述基底与所述安装表面基本上接触。

在一些实施方案中，所述阶梯是从所述安装表面凸起的凸出部。本领域技术人员应当理解，所述阶梯可被设定尺寸为所述安装表面在所述第一端处的整个宽度与在所述安装表面上位于所述第一端处的凸起点之间，前提条件是在所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙。

在一些实施方案中，所述安装表面与加热器连通以加热形成在所述盖构件与所述基底之间的所述反应室。所述加热器可能够操作以改变所述反应室内的温度。如所提及的，所述基底可能粘到所述安装表面上，尤其是当使用所述加热器时。然而，所述气隙可使得能够更容易地将所述基底从所述样品处理组件移除并使粘附最小化。

在一些实施方案中，所述安装表面包括邻近所述第二端的至少一个引导件，所述至少一个引导件被构造为在将所述基底放置在所述组件中的过程中限制所述基底在至少第一方向上的移动。所述安装表面的所述至少一个引导件可以是至少一个第一引导件。理想地，所述至少一个第一引导件是所述安装表面上的突出部，尽管它可采用其他形式。优选地，在所述安装表面上还提供至少一个第二引导件。第二引导件可限制所述基底在不同于所述第一方向的第二方向上的移动。通常，所述第一方向和所述第二方向正交地布置。理想地，所述至少一个第二引导件是被成形为与盖构件中的对应凹口配合的突出部。在使用中，所述至少一个第二引导件和所述盖构件中的对应凹口可配合以便最佳地对准所述盖构件。

在一些实施方案中，所述盖构件纵向延伸并且在所述盖构件邻近所述安装表面的所述第二端的一端处具有流体入口。在使用中，所述流体入口可允许流体在与所述样品处理组件相关联的流体源与所述反应室之间输送。而且，所述盖构件可在所述基底的其中所述基底挠曲成与所述安装表面基本上接触的部分之上纵向延伸。

在一些实施方案中，所述盖构件具有第一侧、与所述第一侧相反的第二侧、以及在所述第一侧上的当所述盖构件接触所述基底时形成所述反应室的空隙。在一些实施方案中，所述盖构件被构造用于与所述样品处理组件的闭合件主体可释放地接合，所述闭合件主体具有至少一个凹口，所述至少一个凹口被成形为与所述样品处理组件的所述安装表面上的对应突出部配合，使得当在使用中时，所述凹口和所述突出部将所述盖构件引导到所述组件中的适当位置以与所述基底形成所述反应室。优选地，所述盖构件包括在所述第一侧上的可压缩构件，所述可压缩构件被构造为当在使用中时围绕所述反应室形成密封；所述可压缩构件材料进一步围绕所述盖构件中的所述流体入口延伸，并且围绕流体开口(即所述盖构件上的所述流体入口)形成密封环。在一个实施方案中，所述空隙由所述可压缩构件限定。在另一个实施方案中，所述空隙至少部分地由所述盖构件第一侧中的空隙部分或空腔限定。

在一些实施方案中，所述盖构件与之形成反应室的所述基底可以是载片，诸如组织学载片(例如，对于样品处理步骤)，或者是所述组件的所述安装表面(例如，对于盖构件清洗阶段)。优选的是，所述盖构件至少部分地由顺应性材料制造以形成所述反应室。因此，所述盖构件可至少部分地由选自包括以下的组的材料制造或涂覆：聚碳酸酯、聚甲醛(缩醛)、聚醚醚酮(PEEK)、聚乙烯类(包括高密度聚乙烯(HDPE)和超高分子量聚乙烯(UHMW-PE))、Teflon(包括Teflon PE)、以及聚丙烯类(包括氟化乙烯丙烯(FEP))以及环烯烃共聚物(COC)。

在一些实施方案中，所述盖构件包括贮存器，所述贮存器被构造为接收和储存足以用于多个样品处理步骤的量的流体。所述流体入口可提供流体从所述贮存器到所述反应室中的进入。所述贮存器可与所述流体入口连通，并且可包括被构造为将流体引导到所述第一流体口中的一个或多个倾斜内壁。

在一些实施方案中，所述组件还包括闭合件主体，所述闭合件主体被构造为保持所述盖构件，并且所述闭合件主体和所述盖构件能够在所述打开位置与所述基本上闭合位置之间移动。优选地，所述组件包括闭合偏置装置，所述闭合偏置装置用于施加偏置力，使得所述闭合件主体被偏置在所述基本上闭合位置中。在此实施方案中，所述安装表面上的所述阶梯的高度可被选择以不阻止所述闭合偏置装置将所述闭合件主体朝向所述基本上闭合位置偏置以及形成所述反应室。在上述替代性实施方案中，所述阶梯可以是偏置的，并且当形成所述反应室时，所述阶梯可克服所述偏置而移动到基本上平行于所述安装表面的所述第二位置。

从另一个方面来看，本发明提供一种用于处理基底上的样品的样品处理组件，所述组件包括：用于所述基底的安装表面；以及盖构件，所述盖构件可在打开位置与基本上闭合位置之间移动，其中，当所述基底放置在所述组件中并且所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，在所述盖构件与所述基底之间形成用于处理所述样品的反应室，并且其中所述安装表面包括用于在第一取向上相对于所述安装表面支撑所述基底的支撑部分。

在一些实施方案中，所述支撑部分提供用于当在所述第一取向上支撑所述基底时在所述基底与所述安装表面之间提供气隙。所述气隙减小所述基底与所述安装表面之间的接触面积。在使用中，此减小的接触面积可防止所述基底在其已放置在所述安装表面上之后以及在所述盖构件移动到所述闭合位置以形成所述反应室之前在所述安装表面的顶部上滑移或迁移。

在一些实施方案中，所述安装表面在第一端与相反的第二端之间纵向延伸，并且所述支撑部分位于所述第一端附近。在使用中，放置在所述安装表面上的所述基底还可在所述第一端与所述相反的第二端之间、至少部分地在位于所述第一端附近的所述支撑部分之上纵向延伸。所述支撑部分可在所述第一取向上相对于所述安装表面以一定角度支撑所述基底。在其他实施方案中，所述支撑部分可位于所述安装表面的所述第一端与所述相反的第二端之间的任何位置。

在一些实施方案中，所述支撑部分被成形成使得所述基底在所述第一取向上相对于所述安装表面以一定高度被支撑。由于所述基底相对于所述安装表面的凸起的取向，所述支撑部分的所述高度可在所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙。所述支撑部分可包括凸出部。优选地，所述支撑部分包括从所述安装表面凸起的凸出部，以在所述第一取向上相对于所述安装表面以一定高度支撑所述基底。在一些实施方案中，所述支撑部分包括阶梯。另外地/可替代地，举几个例子来说，所述支撑部分可包括隆起、脊或凸耳中的一者或多者。本领域技术人员应当理解，所述支撑部分可包括使得所述基底在所述第一取向上相对于所述安装表面、优选地相对于所述安装表面以一定高度被支撑的任何特征或形状。

在一些实施方案中，所述支撑部分被进一步构造为在基本上平行于所述安装表面的第二取向上支撑所述基底。所述基底可在所述第二取向上与所述安装表面基本上接触。所述支撑部分的所述高度可在所述盖构件处于所述基本上闭合位置时允许所述基底挠曲成与所述安装表面基本上接触。例如，所述支撑部分可具有在0.08mm至0.12mm之间并优选地为0.1mm的高度。所述支撑部分的所述高度被选择为允许所述载片挠曲成与所述安装表面基本上接触而不破坏所述载片。

在一些实施方案中，所述支撑部分被构造为在提供所述基底的所述第一取向的第一位置与提供所述基底的所述第二取向的第二位置之间移动。另外，所述支撑部分可由偏置装置朝向所述第一位置偏置。当所述盖构件处于所述打开位置时，所述支撑部分可偏置以提供所述第一取向和优选地所述气隙，并且当所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，所述支撑部分可允许所述基底与所述安装表面基本上接触。所述支撑部分可以是可压低的或可压缩的，以便在所述第一位置与所述第二位置之间移动。例如，所述支撑部分可在扩展构型中采用所述第一位置并且在压缩或回缩构型中移动到所述第二位置。所述支撑部分可包括弹性元件，诸如弹簧，或者可替代地包括可压缩材料，以便提供从所述第一位置和所述第二位置的移动。

在一些实施方案中，所述安装表面与加热器连通以加热形成在所述盖构件与所述基底之间的所述反应室。所述安装表面包括邻近所述第二端的至少一个引导件，所述至少一个引导件被构造为在将所述基底放置在所述组件中的过程中限制所述基底在至少第一方向上的移动。

在一些实施方案中，所述盖构件纵向延伸并且在所述盖构件邻近所述安装表面的所述第二端的一端处具有流体入口。在使用中，所述流体入口可允许流体在与所述样品处理组件相关联的流体源与所述反应室之间输送。而且，所述盖构件可在所述基底的其中所述基底挠曲成与所述安装表面基本上接触的部分之上纵向延伸。

组件还包括闭合件主体，所述闭合件主体被构造为保持所述盖构件，并且所述闭合件主体和所述盖构件能够在所述打开位置与所述基本上闭合位置之间移动。优选地，所述组件包括闭合偏置装置，所述闭合偏置装置用于施加偏置力，使得所述闭合件主体被偏置在所述基本上闭合位置中。在此实施方案中，所述安装表面上的所述支撑部分的高度可被选择以不阻止所述闭合偏置装置将所述闭合件主体朝向所述基本上闭合位置偏置以及形成所述反应室。在上述替代性实施方案中，所述支撑部分可以是偏置的，并且当形成所述反应室时，所述阶梯可克服所述偏置而移动到基本上平行于所述安装表面的所述第二位置。

从另一个方面来看，本发明提供一种用于处理基底上的样品的仪器，所述仪器包括至少一个如本文所公开的样品处理组件。

所述至少一个样品处理组件可具有如本文所公开的实施方案的特征中的一个或多个。优选地，所述仪器被构造用于在所述样品处理组件中处理所述基底上的生物样品。理想地，所述仪器包括多个如本文所公开的样品处理组件。所述仪器可被构造为促进在所述样品处理组件中对基底上的样品进行自动化染色。

在一些实施方案中，所述仪器包括至少一个机器人头，所述至少一个机器人头打开和闭合所述至少一个样品处理组件以使所述盖构件在所述打开位置与所述基本上闭合位置之间移动。所述至少一个机器人头还可通过探针将试剂分配到所述至少一个样品处理组件中。所述至少一个机器人头可以是所述仪器的第一机器人头。所述仪器还可包括第二机器人头，所述第二机器人头用于将所述基底放置在所述安装表面上以便在所述样品处理组件中进行处理，并且一旦所述处理完成就将所述基底从所述安装表面移除。所述仪器的所述第一机器人头和所述第二机器人头可从形成所述仪器的一部分的控制器接收指令。

从另一个方面来看，本发明提供一种将基底放置在样品处理组件中的方法，所述方法包括以下步骤：将所述基底放置在所述样品处理组件的安装表面上，使得在所述基底与所述安装表面之间提供气隙；以及将所述样品处理组件的盖构件从打开位置移动到基本上闭合位置。

在一些实施方案中，将所述基底放置在所述安装表面上包括以下步骤：将所述基底至少部分地放置在所述安装表面的阶梯之上，以在所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙。

在一些实施方案中，移动所述盖构件包括以下步骤：将所述安装表面的所述阶梯从在所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙的第一位置移动到基本上平行于所述安装表面的第二位置。在一些实施方案中，将所述安装表面的所述阶梯从所述第一位置移动到所述第二位置使所述基底挠曲成与所述安装表面基本上接触。

在一些实施方案中，所述方法的所述样品处理组件可具有如本文所公开的实施方案的特征中的一个或多个。在一些实施方案中，所述方法步骤可由如本文所公开的仪器执行。所述仪器可包括一个或多个机器人头，所述一个或多个机器人头由所述仪器的控制器控制以用于执行所述方法步骤。

附图说明

现在将参考附图更详细地描述本发明，在附图中，相似的特征由相似的数字表示。应当理解，所示的实施方案仅是实例，并且不应当被认为是对所附权利要求所限定的本发明的范围的限制。

图1是根据本发明的实施方案的处于基本上打开位置的样品处理组件的等距视图。

图2是图1的样品处理组件的底座的侧视图。

图3是图2的底座的侧视图的放大部分。

图4是图1的样品处理组件的底座的顶视图，其示出在底座的安装表面上的基底。

图5是图4的底座的顶视图的放大部分。

图6是图1的样品处理组件的底座的顶视图，其示出在基底上的盖构件。

图7是根据本发明的实施方案的展示将基底放置在样品处理组件中的方法中的步骤的流程图。

具体实施方式

本文参考附图讨论本发明的实施方案，所述附图未按比例绘制并且仅意图辅助解释本发明。

在图1中所示的实施方案中，示出了根据本发明的实施方案的样品处理组件10的示意图。组件10用于处理基底上的样品并且可提供作为仪器(未示出)的一部分，所述仪器具有机器人头，所述机器人头打开和闭合组件10的闭合件主体12，并且根据从形成仪器的一部分的控制器接收的指令通过机器人头上的探针将试剂分配到组件10中。理想地，仪器包含多个本文所描述和所要求保护的种类的样品处理组件10，使得仪器可以几乎没有人工干预的自动化方式处理多个单独样品。这种仪器可采用单个机器人头来分配试剂，或者可涉及第二或随后的机器人。

通常，仪器容纳完成由控制器控制的处理步骤所需的各种类型的试剂容器。机器人分配头与容器通过流体分布系统(容器与头之间的管道)联接并使用探针将流体分配到样品处理组件10中。所述仪器可包括如以本申请人的名义的国际公布号WO 2013/071358和WO 2013/071357中所描述的特征中的一个或多个，所述国际公布的全部内容以引用方式并入本文。

图1示出处于基本上打开位置的具有基座或底座11和闭合件主体12的组件10。组件10包括用于基底13(在图4中示出)的安装表面14和盖构件22。优选地，基座或底座11包括安装表面14，如图1中所示。盖构件22由闭合件主体12可释放地保持，并且可在相对于安装表面14的打开位置与相对于安装表面14的基本上闭合位置之间移动。图1示出处于打开位置的闭合件主体12和盖构件22，并且图6仅示出处于闭合位置的盖构件22。

在使用组件10时，在盖构件22处于打开位置时将基底放置在组件10中，如图4中所示。然后将闭合件主体12和盖构件22移动到闭合位置，并且在盖构件22与基底13之间形成用于处理样品的反应室。

安装表面14设置来支撑基底13(诸如载片)，样品已安装到基底13上以便使用组件10进行处理。当基底13放置在安装表面14上并且盖构件22处于打开位置时，在基底13与安装表面14之间提供气隙15，这在图3和图5的放大视图中最清楚地示出。如所描述的，气隙15防止载片13在闭合件主体12在基底13上移动到闭合位置之前在安装表面14上迁移。

为了提供气隙15，安装表面14包括在基底13与安装表面14之间的阶梯16。阶梯16位于安装表面14的第一端17处，安装表面14在第一端17与相反的第二端19之间纵向延伸。在使用中，基底13放置在安装表面14上，并且在第一端17与相反的第二端19之间并且至少部分地在位于第一端17附近的阶梯16之上纵向延伸，如图4中所示。

如所提及的，阶梯16具有相对于安装表面14选择的高度，以在盖构件22处于基本上闭合位置时允许基底13挠曲成与安装表面14基本上接触。在图2和图4中可以最清楚地看到，在阶梯16位于安装表面14的第一端17附近的情况下，通常由玻璃制成的基底13的大部分将挠曲以与安装表面14接触。因此，参考图1，应当理解，在使用中，基底13与盖构件22一起反应室的部分与安装表面14基本上接触，并且不在位于安装表面14的第一端17处的气隙15之上。而且，如所提及的，阶梯16的高度在0.08mm至0.12mm之间，并且优选为0.1mm。

在使用中，图1中所示的实施方案的闭合件主体12枢转打开和闭合。理想地，样品处理组件10在闭合件主体12上具有轴承表面24，所述轴承表面24可由机器人头的一部分接触以主动打开通常可偏置闭合的闭合件主体12。通常，轴承表面24包括凸轮滚子，所述凸轮滚子从闭合件主体12突出并且由机器人头的接触构件接触以将闭合件主体12从闭合位置枢转到打开位置。然而，应当理解，打开的方向无需涉及枢转或独自枢转；还考虑通过提起闭合件主体12或降下安装表面14来使闭合件主体12与安装表面14分离，以及这两个部分相对滑动以适应将承载样品的基底13放置在其间以用于进行处理。理想地，使用机器人头将基底13放置在打开的样品处理组件10中，所述机器人头在控制器的控制下以自动化方式将具有样品的基底13输送到组件10中。这可涉及机器人头控制基底13的移动(例如，通过在安装表面14上滑动并滑动到适当位置中)以准备好使闭合件主体12闭合并形成反应室。机器人头可使用例如固持/抓持基底13以便将其放置在组件10内的夹持器、真空或任何其他合适的手段来操纵基底13。

为了辅助定位，在安装表面14上提供呈突出部或柱子形式的至少一个第一引导件18，以限制基底13在至少第一方向上的移动。因此，当使用例如机器人头放置基底13时，基底13跨安装表面14滑动，直到其到达提供限制进一步移动的基准点的第一引导件18为止。如果必要，可提供一个或多个另外的第一引导件以限制基底13在相同方向上的引导。

在附图中所示的实施方案中，还在安装表面14上提供呈突出部或柱子形式的两个间隔开的第二引导件20，以限制基底13在垂直于第一方向的第二方向上的移动。应当理解，基底13可以任何顺序在第一方向和第二方向上移动，并且定位可以是迭代的。第二引导件20提供另外的基准点以优化基底13在样品处理组件10内的放置。在实施方案中，第二引导件20被成形为与闭合件主体12中的对应凹口28配合。在此布置中，第二引导件20和对应凹口28在闭合件主体12的闭合过程中配合，以使盖构件22在基底13之上最佳地对准以形成反应室。

当组件10处于基本上闭合位置时由此在基底13与盖构件22之间形成的反应室通过使到空气的暴露(这是过去导致样品变干的缺点)最小化来保护基底13的表面上的组织样品。在一些现有技术的仪器中，样品干燥使得必须在处理过程中定期再水化。另外，图1示出偏置装置26，所述偏置装置26将闭合件主体12朝向基本上闭合位置偏置，因此形成反应室。

图6展示在基底13之上处于闭合位置的组件10的盖构件22的实施方案。图6中所示的盖构件22具有面向基底13的第一侧和与第一侧相反的第二侧。当盖构件22接触组件10中的基底13时，在盖构件22的第一侧上的空隙(未示出)形成容积为20μl至500μl、更优选地容积为50μl至300μl并且还更优选地容积为100μl至200μl的反应室。在使用中，盖构件22与基底13形成密封表面。盖构件22包括图1中所示的用于将试剂接收到反应室中的流体流动口30，所述流体流动口30朝向盖构件22的一端设置。理想地，流体流动口30从图6中所示的贮存器32进行填充，所述贮存器32位于安装表面14的第二端19附近，可例如通过仪器的机器人头上的流体分配器将一定体积的试剂分配到贮存器32中。理想地，贮存器32具有至少一个倾斜壁以用于将试剂朝向流体流动口30引导并引导到反应室中。

试剂可从贮存器32通过重力填充来填充反应室。可在流体静力学上控制流体的液位。这确保贮存器32包含足够的试剂/清洗溶液以覆盖基底13上的样品，或者在清洗的情况下，理想地填充反应室。流体可保持在贮存器32中，以便以后通过闭合在盖构件22的第二流体流动口(未示出)之后的任何位置处的下游流体路径来释放到反应室中。

回顾图1，样品处理组件10具有与安装表面14联接的加热器34。加热器34可优选地在仪器的控制器的控制下操作以改变反应室内的温度。这对于一些处理步骤是必要的，并且对加热器的单独控制(针对加热和优选地冷却)导致以下仪器上的增强的处理(例如，染色)能力和改进的调度能力，在所述仪器中，存在各自可正在进行完全不同的样品处理测定的多个样品处理组件10。

在使用中，当盖构件22处于闭合位置时，基底13形成反应室的部分挠曲以与安装表面14基本上接触，使得基底13的所述部分均匀地从加热器34受热。然而，如所提及的，当使用加热器时，基底13可能粘到安装表面14上，所以气隙15使得能够更容易地将基底13从安装表面14移除，而不影响来自加热器34的热量传递的一致性。

在本发明的优选实施方案中，还提供一种用于处理基底13上的样品的仪器(未示出)。所述仪器包括至少一个如本文所公开的样品处理组件10。所述仪器已经参照图1至图6的样品处理组件10进行了描述。优选地，所述仪器被构造用于处理样品处理组件10中的基底13上的生物样品。理想地，所述仪器包括多个样品处理组件10。所述仪器可被构造为促进对样品处理组件10中的基底13上的样品进行自动化染色。所述仪器可包括如以本申请人的名义的国际公布号WO 2013/071358和WO 2013/071357中所描述的特征中的一个或多个，所述国际公布的全部内容以引用方式并入本文。

在本发明的另一个优选实施方案中，提供一种将基底13放置在样品处理组件10中的方法，如图7的流程图中所展示。所述方法包括步骤40：将基底13放置在样品处理组件10的安装表面14上，使得在基底13与安装表面之间提供气隙15。所述方法还包括步骤42：将样品处理组件10的盖构件22从打开位置移动到基本上闭合位置。

将基底13放置在安装表面14上可包括以下步骤：将基底13至少部分地放置在安装表面14的阶梯16之上，以在基底13与安装表面14之间提供气隙15，如图5中所示。移动盖构件22的步骤可包括以下步骤：将安装表面14的阶梯16从在基底13与安装表面14之间提供气隙的第一位置(如图4中所示)移动到基本上平行于安装表面14的第二位置(如图6中所示)。将安装表面14的阶梯16从第一位置移动到第二位置使基底13挠曲成与安装表面14基本上接触。

样品处理组件10可包括如本文所公开的并且参考图1至图6所描述的样品处理组件10的实施方案的特征中的一个或多个。所述方法的步骤可由如本文所公开的用于处理基底13上的样品的仪器执行。在一些实施方案中，所述方法的步骤可由所述仪器的至少一个机器人头在所述仪器的控制器的控制下执行。机器人头可被构造为向和从安装表面14移动基底13，以及通过与保持盖构件22的闭合件主体12接触而使盖构件22在打开位置与基本上闭合位置之间移动，如本文中参考图1至图6所公开。

当在本说明书(包括权利要求)中使用术语“包括(comprise/comprises/comprised/comprising)”中的任何或所有术语时，它们应被解释为指定存在所陈述特征、整数、步骤或部件，但不排除存在一个或多个其他特征、整数、步骤或部件。

应当理解，在不脱离如所附权利要求所限定的本发明的范围的情况下，可对前述部分做出各种修改、添加和/或更改。

应当理解，以下权利要求仅以实例的方式提供，并且不意图限制任何将来的申请中可要求保护的范围。可在以后的日期向权利要求增加或从其删除特征，以便进一步限定或重新限定一项或多项发明。

Claims (14)

1.一种用于处理基底上的样品的样品处理组件，所述组件包括：

用于所述基底的安装表面；以及

盖构件，所述盖构件能够在打开位置与基本上闭合位置之间移动，其中，当所述基底放置在所述组件中并且所述盖构件处于所述基本上闭合位置时，在所述盖构件与所述基底之间形成用于处理所述样品的反应室，并且其中

所述安装表面包括支撑部分以在所述基底与所述安装表面之间提供气隙，

其中，所述安装表面在第一端与相反的第二端之间纵向延伸，

当所述基底放置在所述安装表面上时，所述基底在所述第一端与所述相反的第二端之间并且至少部分地在所述支撑部分之上纵向延伸，

其中，所述支撑部分包括阶梯，所述阶梯相对于所述安装表面具有一高度，以当所述基底至少部分地在所述支撑部分之上放置在所述安装表面上时在所述基底的一部分与所述安装表面之间提供气隙。

2.根据权利要求1所述的组件，其中，所述安装表面与加热器连通以加热形成在所述盖构件与所述基底之间的所述反应室。

3.根据权利要求1或2所述的组件，其中，所述阶梯的所述高度在0.08mm至0.12mm之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的组件，其中，所述安装表面包括邻近所述第二端的至少一个引导件，所述至少一个引导件被构造为在将所述基底放置在所述组件中的过程中限制所述基底在至少第一方向上的移动。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的组件，其中，所述盖构件纵向延伸并且在所述盖构件邻近所述安装表面的所述第二端的一端处具有流体入口。

6.根据权利要求5所述的组件，其中，在使用中，所述流体入口允许流体在与所述样品处理组件相关联的流体源与所述反应室之间输送。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的组件，还包括闭合件主体，所述闭合件主体被构造为保持所述盖构件，并且所述闭合件主体和所述盖构件能够在所述打开位置与所述基本上闭合位置之间移动。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的组件，其中，所述阶梯被构造为在于所述基底与所述安装表面之间提供所述气隙的第一位置与基本上平行于所述安装表面的第二位置之间移动。

9.根据权利要求8所述的组件，其中，所述阶梯由偏置装置朝向所述第一位置偏置。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的组件，其中，所述阶梯是从所述安装表面凸起的凸出部。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的组件，其中，所述支撑部分被进一步构造为在基本上平行于所述安装表面的第二取向上支撑所述基底。

12.根据权利要求11所述的组件，其中，所述基底在所述第二取向上与所述安装表面基本上接触。

13.一种用于处理基底上的样品的仪器，所述仪器包括至少一个根据权利要求1至12中任一项所述的样品处理组件。

14.一种将基底放置在根据权利要求1至12中任一项所述的样品处理组件中的方法，所述方法包括以下步骤：

将所述基底放置在所述样品处理组件的安装表面上，使得在所述基底与所述安装表面之间提供气隙；以及

将所述样品处理组件的盖构件从打开位置移动到基本上闭合位置。