CN117631427A - 结构光扫描系统与方法及其影像投影机 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种结构光扫描系统与方法及其影像投影机。该影像投影机包含光源,可切换发射不同的光图案;及光束整形器,用以整形光源发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
Description
技术领域
本发明是有关一种影像投影机,特别是关于一种具有可程序化(programmable)光源的影像投影机,可切换发射不同的光图案。
背景技术
影像投影机(简称投影机)是一种光学设备,用以将(静止)影像或一系列影像(或视频)投射到投影屏幕的表面。
投影机可适用于结构光扫描系统,用以将已知图案(例如网格或水平条)投射到场景中物件。结构光三维扫描器借由分析光反射导致的变形,可计算得到场景中物件的深度和表面信息。
在传统的结构光扫描系统中,投影机的光源具有固定结构,对物件发射相同的光图案。因此,传统的结构光扫描系统具有解码率低且动态范围窄的缺点,因而无法准确获得物件的深度和表面信息。
因此亟需提出一种新颖的机制以克服传统投影机和结构光扫描系统的诸多缺点。
发明内容
鉴于上述,本发明实施例的目的之一在于提出一种具有可程序化光源的影像投影机,可产生不同的光图案,借以获得较佳的结构光扫描解码率。
根据本发明实施例,影像投影机包含光源及光束整形器。光源能切换发射不同的光图案。光束整形器用以整形光源发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
较佳地,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成,能个别程序化开启或关闭,以形成不同的光图案。
较佳地,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
较佳地,更包含控制器,其个别程序化开启或关闭该多个激光二极管。
较佳地,该激光阵列包含:基板,用以承载该多个激光二极管;及多个信号线,借以让该控制器开启或关闭相应的激光二极管。
较佳地,该光束整形器包含绕射光学元件、微透镜阵列或多焦绕射透镜。
较佳地,更包含至少一个透镜,设于该光源和该光束整形器之间。
较佳地,该光源和该光束整形器之间未设有透镜。
根据本发明另一实施例,结构光扫描系统包含光源、控制器及相机。光源用以发射光束,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成。控制器个别程序化开启或关闭多个激光二极管,以切换发射不同的光图案,投射至场景中物件。相机用以撷取反射自场景中物件的反射光图案,其馈至控制器以决定深度与表面信息。
较佳地,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
较佳地,该激光阵列包含:基板,用以承载该多个激光二极管;及多个信号线,借以让该控制器开启或关闭相应的激光二极管。
较佳地,更包含:光束整形器,用以整形该光源发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
较佳地,该光束整形器包含绕射光学元件、微透镜阵列或多焦绕射透镜。
较佳地,更包含至少一个透镜,设于该光源和该光束整形器之间。
较佳地,该光源和该光束整形器之间未设有透镜。
根据本发明又一实施例,结构光扫描方法包含下列步骤。提供光源,以切换发射不同的光图案。光源发射具有光图案的光束至场景中物件。根据反射自场景中物件的反射光图案的变形,以决定深度与表面信息。判断在深度和表面信息决定步骤中获得的解码率是否大于预设临界值。如果解码率不大于预设临界值,则改变光图案且发射具有改变光图案的光束至场景中物件。
较佳地,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成,能个别程序化开启或关闭,以形成不同的光图案。
较佳地,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
较佳地,该不同光图案适用于场景中不同物件。
较佳地,该不同光图案分别适用于一物件相对于该光源具有不同距离。
附图说明
图1显示本发明实施例的影像投影机的方框图。
图2显示图1的(光源的)垂直腔表面发光激光(VCSEL)的示意图。
图3A至图3C例示图1的光源的(可程序化)垂直腔表面发光激光于不同时间发射的(不同)光图案。
图3D显示未使用本实施例的可程序化垂直腔表面发光激光的光图案。
图4A例示使用绕射光学元件/微透镜阵列/多焦绕射透镜对光源发射的光束直接进行整形。
图4B例示使用绕射光学元件/微透镜阵列/多焦绕射透镜对光源发射的光束经由透镜间接进行整形。
图4C例示使用液晶透镜对光源发射的光束直接进行整形。
图5显示本发明实施例的结构光扫描系统的方框图。
图6显示本发明实施例的结构光扫描方法的流程图。
图7A至图7C例示依序使用于图6所示流程的光图案。
【主要元件符号说明】
100:影像投影机 500:结构光扫描系统
11:光源 12:控制器
13:光束整形器 14:透镜
101:相机 110:基板
111:激光二极管 112:信号线
600:结构光扫描方法 61:发射具有图案的光束
62:决定深度 63:判断解码率是否大于临界值
64:改变图案 DOE:绕射光学元件
MLA:微透镜阵列 MDL:多焦绕射透镜
具体实施方式
图1显示本发明实施例的影像投影机100的方框图。本实施例的影像投影机100可投射影像至场景中物件的表面,可应用于智能型手机、光学扫描、人脸识别、定向显示及微型光侦测与测距(LiDAR),但不限定于此。
本实施例的影像投影机100可包含光源11,用以发射(可见或不可见)光束。在本实施例中,光源11可包含激光阵列,用以发射激光光束,其是基于电磁辐射受激发射的光学放大过程(亦即,借由辐射的受激发射进行光放大)以发射激光光束。在一实施例中,(光源11的)激光阵列可包含由半导体激光二极管阵列组成的垂直腔表面发光激光(VCSEL),其中激光光束从其顶表面垂直发射。
图2显示图1的(光源11的)垂直腔表面发光激光(VCSEL)的示意图。如图2所示,(可程序化)垂直腔表面发光激光可包含排列为行与列的多个激光二极管111。根据本实施例的特征之一,控制器12(例如中央处理单元)可借由相应信号线112以开启或关闭个别的激光二极管111,其中信号线112设于基板110上,基板110用以承载激光二极管111。借此,(可程序化)垂直腔表面发光激光的激光二极管111可切换发射光以形成不同的光图案。
图3A至图3C例示图1的光源11的(可程序化)垂直腔表面发光激光于不同时间发射的(不同)光图案,其中实心点代表相应激光二极管111发射光,空心点代表相应激光二极管111未发射光。图3D显示未使用本实施例的可程序化垂直腔表面发光激光的光图案。在这个例子中,垂直腔表面发光激光的所有激光二极管同时发光。换句话说,垂直腔表面发光激光所发射的光图案为固定的或不可改变的。
回到图1,本实施例的影像投影机100可包含光束整形器13,用以整形光源11发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
在一实施例中,光束整形器13可包含绕射光学元件(diffractive opticalelement,DOE)、微透镜阵列(micro lens array,MLA)或多焦绕射透镜(multifocaldiffractive lens,MDL),对光源11发射的光束进行整形和分裂,使得单一入射光束同时聚焦于多个地方,借以产生整形光图案以投射至场景中物件。图4A例示使用绕射光学元件/微透镜阵列/多焦绕射透镜对光源11发射的光束直接进行整形。
在一实施例中,光源11和光束整形器13之间没有设置透镜,因而形成无透镜系统。在另一实施例中,影像投影机100可包含至少一个透镜14,设于光源11和光束整形器13之间。其中,透镜14是透射光学元件,借由折射以聚焦、准直或发散(来自光源11的)光束。在一实施例中,使用复合透镜,其包含多个透镜14且沿着公共轴设置。
在另一实施例中,透镜14是透射光学元件,借由折射以聚焦、准直或发散(来自光源11的)光束。在一实施例中,使用菲涅尔(Fresnel)透镜或超(Meta)透镜14,但不限定于此。图4B例示使用绕射光学元件/微透镜阵列/多焦绕射透镜对光源11发射的光束经由透镜14间接进行整形。
在另一实施例中,光束整形器13可包含液晶(LC)透镜,对光源11发射的光束进行整形和分裂,以产生整形光图案以投射至场景中物件。图4C例示使用液晶透镜对光源11发射的光束直接进行整形。
图5显示本发明实施例的结构光扫描系统500的方框图。本实施例的结构光扫描系统500可包含图1的影像投影机100,其细节不再赘述。
在本实施例中,结构光扫描系统500可包含相机101,用以撷取反射自场景中物件的(整形光图案的)反射光图案。撷取的反射光图案馈至控制器12(例如数字影像处理器),其根据反射光图案相对于光源11所产生的光图案的变形以决定深度与表面信息。
图6显示本发明实施例的结构光扫描方法600的流程图。在步骤61,光源11(如实施例中的激光阵列,例如垂直腔表面发光激光)发射具有(第一或目前)光图案的光束,其光图案由控制器12程序化控制。在步骤62,控制器12根据(第一或目前)光图案相对于光源11发射的(第一)光图案的变形以决定深度和表面信息。
接着,在步骤63,控制器12判断于深度和表面信息决定步骤(步骤62)中获得的解码率是否大于预设临界值。如果解码率不大于预设临界值,则控制器12改变(或程序化)目前的光图案(步骤64),接着流程回到步骤61,其中光源11发射具有(第二)改变光图案(作为目前光图案)的光束,其是由控制器12程序化控制。继续上述流程直到解码率大于预设临界值。图7A至图7C例示依序使用于图6所示流程的光图案。
根据上述实施例,(可程序化垂直腔表面发光激光所产生)不同光图案可适用于场景中不同物件,或适用于一物件相对于光源11/相机101具有不同的距离。借此,结构光扫描系统500和方法600可获得更好的解码率(以及更准确的深度和表面信息),且可以获得更宽的动态范围。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并非用以限定本发明的申请专利范围;凡其它未脱离发明所揭示的精神下所完成的等效改变或修饰,均应包含在申请专利范围内。
Claims (20)
1.一种影像投影机,其特征在于,包含:
光源,能切换发射不同的光图案;及
光束整形器,用以整形该光源发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
2.根据权利要求1所述的影像投影机,其特征在于,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成,能个别程序化开启或关闭,以形成不同的光图案。
3.根据权利要求2所述的影像投影机,其特征在于,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
4.根据权利要求2所述的影像投影机,其特征在于,更包含控制器,其个别程序化开启或关闭该多个激光二极管。
5.根据权利要求4所述的影像投影机,其特征在于,该激光阵列包含:
基板,用以承载该多个激光二极管;及
多个信号线,借以让该控制器开启或关闭相应的激光二极管。
6.根据权利要求1所述的影像投影机,其特征在于,该光束整形器包含绕射光学元件、微透镜阵列或多焦绕射透镜。
7.根据权利要求1所述的影像投影机,其特征在于,更包含至少一个透镜,设于该光源和该光束整形器之间。
8.根据权利要求1所述的影像投影机,其特征在于,该光源和该光束整形器之间未设有透镜。
9.一种结构光扫描系统,其特征在于,包含:
光源,用以发射光束,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成;
控制器,其个别程序化开启或关闭该多个激光二极管,以切换发射不同的光图案,投射至场景中物件;及
相机,用以撷取反射自场景中物件的反射光图案,其馈至该控制器以决定深度与表面信息。
10.根据权利要求9所述的结构光扫描系统,其特征在于,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
11.根据权利要求9所述的结构光扫描系统,其特征在于,该激光阵列包含:
基板,用以承载该多个激光二极管;及
多个信号线,借以让该控制器开启或关闭相应的激光二极管。
12.根据权利要求9所述的结构光扫描系统,其特征在于,更包含:
光束整形器,用以整形该光源发射的光束,因而产生整形光图案,用以投射至场景中物件。
13.根据权利要求12所述的结构光扫描系统,其特征在于,该光束整形器包含绕射光学元件、微透镜阵列或多焦绕射透镜。
14.根据权利要求12所述的结构光扫描系统,其特征在于,更包含至少一个透镜,设于该光源和该光束整形器之间。
15.根据权利要求12所述的结构光扫描系统,其特征在于,该光源和该光束整形器之间未设有透镜。
16.一种结构光扫描方法,其特征在于,包含:
提供光源,以切换发射不同的光图案;
该光源发射具有光图案的光束至场景中物件;
根据反射自场景中物件的反射光图案的变形以决定深度与表面信息;
判断在深度和表面信息决定步骤中获得的解码率是否大于预设临界值;及
如果该解码率不大于预设临界值,则改变光图案且发射具有改变光图案的光束至场景中物件。
17.根据权利要求16所述的结构光扫描方法,其特征在于,该光源包含激光阵列,由多个激光二极管组成,能个别程序化开启或关闭,以形成不同的光图案。
18.根据权利要求17所述的结构光扫描方法,其特征在于,该激光阵列包含垂直腔表面发光激光。
19.根据权利要求16所述的结构光扫描方法,其特征在于,该不同光图案适用于场景中不同物件。
20.根据权利要求16所述的结构光扫描方法,其特征在于,该不同光图案分别适用于一物件相对于该光源具有不同距离。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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