CN117594413A - 一种用于等离子表面处理的加热装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于等离子表面处理的加热装置，涉及等离子处理加热技术领域。本发明提供一种能够降低溶液消耗，保证溶液与工件接触的用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架，机架固定连接有放置箱，放置箱固定连接有等距分布的第一加热元件，放置箱内滑动式连接有盛放板，还包括有电动推杆，电动推杆固定连接于放置箱内。工件放在盛放板上，倒入溶液使其没过放置箱内底部的第一加热元件、第二加热元件和工件进行加热，在工件进行等离子表面处理时，盛放板可上下滑动调节高度，以适应放置箱内的溶液余量，确保第二加热元件和工件没入溶液，避免放置箱内的溶液蒸发减少，导致第二加热元件干烧或者影响工件表面加工。

Description

一种用于等离子表面处理的加热装置

技术领域

本发明涉及等离子处理加热技术领域，尤其涉及一种用于等离子表面处理的加热装置。

背景技术

在利用等离子对工件表面进行处理时，可以对工件表面进行加热，以增强离子与工件表面的相互作用力，促进离子束的轰击效果，加速表面去除物的清除，从而提高处理效率。

现有等离子设备加热方式一般采用湿式的加热棒，通过加热溶液实现对工件进行加热的目的，在加热过程中不能干烧，溶液必须没过加热棒才能开始加热，但在表面处理过程中，会产生大量水蒸气导致溶液蒸发，溶液减少造成加热棒干烧的现象，极易造成安全事故，同时，溶液减少也不利于工件的整体加热，影响表面处理的效果。

发明内容

为了克服溶液蒸发减少容易导致加热棒干烧，同时也不利于工件的整体加热的缺点，本发明提供一种能够降低溶液消耗，保证溶液与工件接触的用于等离子表面处理的加热装置。

本发明的技术实施方案为：一种用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架，机架固定连接有放置箱，放置箱固定连接有等距分布的第一加热元件，放置箱内滑动式连接有盛放板，还包括有电动推杆，电动推杆固定连接于放置箱内，放置箱内固定连接有安装板架，盛放板固定连接有对称设置的第二加热元件，安装板架滑动式连接有推动架，推动架与电动推杆的伸缩端连接，推动架、安装板架和盛放板之间转动式连接有转动架，放置箱设有用于添加溶液的添液机构。

作为优选，添液机构包括有储放箱，储放箱固定连接于机架，储放箱连通有对称设置导流管，放置箱固定连接有对称设置的喷板，喷板与相邻的导流管连通，喷板和导流管的连通处滑动式连接有堵块，堵块固定连接有第一浮块。

作为优选，储放箱安装有盖子。

作为优选，还包括有用于调节堵块打开时间的调节机构，调节机构设置于第一浮块，调节机构包括有连接架，连接架滑动式连接于第一浮块，连接架固定连接有第二浮块，第一浮块套有丝杆，丝杆通过螺纹连接有轴套，连接架与轴套转动式连接。

作为优选，还包括有用于固定工件的固定机构，固定机构设置于盛放板，固定机构包括有对称设置的移动架，对称设置的移动架固定连接于盛放板，支撑架固定连接有对称设置的导向杆，导向杆滑动式连接有移动架，对称设置的移动架之间连接有等距分布的绳索，移动架与相邻的支撑架之间连接有弹性件。

作为优选，绳索为弹性绳。

作为优选，弹性件为弹片。

作为优选，还包括有用于防止溶液飞溅的遮挡机构，遮挡机构设置于放置箱，遮挡机构包括有对称设置的转板，对称设置的转板转动式连接于放置箱内，放置箱内滑动式连接有对称设置的滑杆，滑杆固定连接有压板，转板底端固定连接有顶板，顶板与相邻的压板挤压配合，盛放板设有用于推动压板向外移动的推动组件，转板与放置箱之间连接有扭簧。

作为优选，推动组件包括有放置板，放置板滑动式连接于盛放板，盛放板滑动式连接有等距分布的顶块，顶块与相邻的压板挤压配合，顶块与放置板之间转动式连接有对称设置的摆杆。

作为优选，还包括有用于减缓溶液波动的消减机构，消减机构设置于盛放板，消减机构包括有对称设置的导向轨，对称设置的导向轨固定连接于盛放板，导向轨滑动式连接有浮架，对称设置的浮架之间滑动式连接有推架，推架上套设有压板，对称设置的浮架之间转动式连接有浮绳架，推架与相邻的浮绳架挤压配合。

本发明具有如下优点：1、工件放在盛放板上，倒入溶液使其没过放置箱内底部的第一加热元件、第二加热元件和工件进行加热，在工件进行等离子表面处理时，盛放板可上下滑动调节高度，以适应放置箱内的溶液余量，确保第二加热元件和工件没入溶液，避免放置箱内的溶液蒸发减少，导致第二加热元件干烧或者影响工件表面加工。

2、随着放置箱内的溶液蒸发减少，第一浮块和堵块使得喷板和导流管相通，储放箱内的溶液便可通过导流管进入喷板，由喷板喷入放置箱内，如此，能够在放置箱内溶液减少后自动添加溶液，确保放置箱内溶液的余量。

3、轴套与丝杆配合控制第二浮块上下移动调节高度，通过第二浮块与溶液之间的浮力控制堵块上下移动进行开合，而第二浮块调节高度也能够调节堵块开合的时间，以调节放置箱内的溶液量。

4、移动架带动绳索相向移动夹住工件，由于绳索为弹性绳，能够更好的贴合工件表面，提高固定效果，避免在进行表面处理时，工件位移影响处理效果。

5、转板向下转动成水平状态，能够顺着放置箱内壁向上飞溅的溶液进行遮挡，防止溶液溅出造成损耗。

6、在溶液水面产生的波动移动至浮绳架处时，通过浮绳架减缓溶液水面的波动，以减小溶液飞溅的概率。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明机架、放置箱和第一加热元件的立体结构示意图。

图3为本发明盛放板、电动推杆和第二加热元件的等部件立体结构示意图。

图4为本发明安装板架、推动架和转动架等部件的立体结构示意图。

图5为本发明添液机构的立体结构示意图。

图6为本发明添液机构的局部立体结构示意图。

图7为本发明调节机构的立体结构示意图。

图8为本发明调节机构的局部立体结构示意图。

图9为本发明固定机构的立体结构示意图。

图10为本发明遮挡机构的第一种立体结构示意图。

图11为本发明遮挡机构的第二种立体结构示意图。

图12为本发明顶板、压板和顶块等部件的配合结构示意图。

图13为本发明消减机构的立体结构示意图。

图14为本发明压板、导向轨、浮架、推架和浮绳架的立体结构示意图。

附图标记说明：1_机架，101_放置箱，102_第一加热元件，103_盛放板，104_电动推杆，105_安装板架，106_第二加热元件，107_推动架，108_转动架，2_储放箱，201_导流管，202_喷板，203_第一浮块，204_堵块，3_连接架，301_第二浮块，302_丝杆，303_轴套，4_移动架，401_绳索，402_支撑架，403_导向杆，404_弹性件，5_转板，501_压板，502_顶板，503_滑杆，504_放置板，505_摆杆，506_顶块，507_扭簧，6_导向轨，601_浮架，602_推架，603_浮绳架。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明。

实施例1：一种用于等离子表面处理的加热装置，如图1、图2、图3和图4所示，包括有机架1、放置箱101、第一加热元件102、盛放板103、电动推杆104、安装板架105、第二加热元件106、推动架107、转动架108和添液机构，机架1上固定连接有放置箱101，放置箱101上固定连接有等距分布的第一加热元件102，放置箱101内滑动式连接有盛放板103，放置箱101内底部固定连接有电动推杆104，放置箱101内底部的中心位置固定连接有安装板架105，盛放板103上侧的前后两部均固定连接有左右对称的第二加热元件106，安装板架105上滑动式连接有推动架107，推动架107与电动推杆104的伸缩端连接，推动架107、安装板架105和盛放板103之间转动式连接有转动架108，放置箱101上设有用于添加溶液的添液机构。

在使用该装置时，工作人员将需要进行等离子表面处理的工件放在盛放板103上，然后将溶液倒入放置箱101内，使得溶液没过放置箱101内底部的第一加热元件102、第二加热元件106和工件，然后通过第一加热元件102、第二加热元件106加热溶液，以实现对工件进行加热的目的，在工件进行表面处理时，工作人员可控制电动推杆104伸长缩短，进而带动推动架107前后滑动，推动架107前后滑动通过转动架108带动盛放板103上下滑动调节高度，以适应放置箱101内的溶液余量，确保第二加热元件106和工件没入溶液，避免放置箱101内的溶液蒸发减少，导致第二加热元件106干烧或者影响工件表面加工，当放置箱101内的溶液减少一定量后，添液机构能够自动对放置箱101内添加溶液。

如图1、图5和图6所示，添液机构包括有储放箱2、导流管201、喷板202、第一浮块203和堵块204，机架1上部转动式连接有储放箱2，储放箱2上侧安装有盖子，储放箱2下侧连通有左右对称导流管201，放置箱101内上部固定连接有左右对称的喷板202，喷板202与相邻的导流管201连通，喷板202导流管201的连通处滑动式连接有堵块204，堵块204上固定连接有第一浮块203。

通过设置添液机构能够实施监测放置箱101内的溶液余量，当放置箱101内溶液减少一定量后，便可自动往放置箱101内添加溶液，具体操作如下：初始状态时，放置箱101内的溶液使得第一浮块203处于上浮状态，堵块204堵住喷板202和导流管201的连通处，随着放置箱101内的溶液蒸发减少，第一浮块203和堵块204也会逐渐向下移动，当堵块204向下移动至一定距离后，喷板202和导流管201相通，这时，储放箱2内的溶液便可通过导流管201进入喷板202，由喷板202喷入放置箱101内，随着放置箱101内的溶液增多，第一浮块203也会带动堵块204向上移动，直至堵块204堵住喷板202和导流管201的连通处停止添加溶液，如此，能够在放置箱101内溶液减少后自动添加溶液，确保放置箱101内溶液的余量。

实施例2：在实施例1的基础之上，如图1、图7和图8所示，还包括有用于调节堵块204打开时间的调节机构，调节机构包括有连接架3、第二浮块301、丝杆302和轴套303，第一浮块203上滑动式连接有连接架3，连接架3下部固定连接有第二浮块301，第一浮块203上部套有丝杆302，丝杆302上通过螺纹连接有轴套303，连接架3上部与轴套303转动式连接。

通过设置调节机构能够调节堵块204开合的时间，以调节放置箱101内的溶液量，具体操作如下：工作人员转动轴套303，轴套303转动的同时会在丝杆302上进行上下移动，轴套303上下移动带动连接架3上下移动，连接架3上下移动带动第二浮块301上下移动调节高度，通过第二浮块301与溶液之间的浮力控制堵块204上下移动进行开合，而第二浮块301调节高度也能够调节堵块204开合的时间，以调节放置箱101内的溶液量。

如图1和图9所示，还包括有用于固定工件的固定机构，固定机构包括有移动架4、绳索401、支撑架402、导向杆403和弹性件404，盛放板103上侧的前后两部均固定连接有左右对称的支撑架402，支撑架402上固定连接有两个导向杆403，两个导向杆403之间滑动式连接有移动架4，前后对称的移动架4之间连接有三个等距分布的绳索401，绳索401为弹性绳，移动架4与相邻的支撑架402之间连接有弹性件404，弹性件404为弹片。

通过设置固定机构能够将工件固定在盛放板103上，避免在进行表面处理时，工件位移影响处理效果，具体操作如下，工作人员推动左右两侧的移动架4背向滑动，弹性件404发生形变，移动架4背向滑动带动绳索401背向移动，当左右两侧的绳索401背向移动张开后，工作人员将工件放在盛放板103上，放好后，工作人员松开移动架4，在弹性件404复位的作用下，移动架4随之带动绳索401相向移动夹住工件，由于绳索401为弹性绳，能够更好的贴合工件表面，提高固定效果。

如图1、图10、图11和图12所示，还包括有用于防止溶液飞溅的遮挡机构，遮挡机构包括有转板5、压板501、顶板502、滑杆503、推动组件和扭簧507，放置箱101内上部的左右前后四侧均转动式连接有转板5，放置箱101内左右前后四侧均滑动式连接有上下对称的两组滑杆503，滑杆503一组为四个，相邻的两组滑杆503之间固定连接有压板501，转板5下侧固定连接有顶板502，顶板502与相邻的压板501挤压配合，盛放板103上设有用于推动压板501向外移动的推动组件，转板5与放置箱101之间连接有扭簧507。

如图10、图11和图12所示，推动组件包括有放置板504、摆杆505和顶块506，盛放板103上滑动式连接有放置板504，盛放板103内滑动式连接有等距分布的四个顶块506，顶块506与相邻的压板501挤压配合，顶块506与放置板504之间转动式连接有对称设置的摆杆505。

在工件进行表面加工时，放置箱101内溶液容易出现波动，通过设置遮挡机构能够对向上飞溅的溶液进行遮挡，进一步减少溶液的消耗，具体操作如下：工作人员在将工件放在盛放板103上时会挤压放置板504向下移动，放置板504向下移动通过摆杆505推动顶块506向外滑动，顶块506向外滑动推动压板501向外移动，压板501向外移动挤压顶板502转动，顶板502转动带动转板5向下转动成水平状态，扭簧507发生形变，转板5向下转动成水平状态后，顺着放置箱101内壁向上飞溅的溶液便可被转板5挡住，避免溶液溅出造成损耗，当工件表面处理完成后，工件取出不再挤压放置板504，在扭簧507复位的作用下，转板5随之带动顶板502反转复位，顶板502反转推动压板501和顶块506向内滑动复位，顶块506向内滑动通过摆杆505推动放置板504向上滑动复位，如此，能够在工件放好后自动控制转板5向下转动成水平状态，以便对顺着放置箱101内壁向上飞溅的溶液进行遮挡，防止溶液溅出造成损耗。

如图1、图13和图14所示，还包括有用于减缓溶液波动的消减机构，消减机构包括有导向轨6，浮架601、推架602和浮绳架603，盛放板103左右两部均固定连接有前后对称的导向轨6，导向轨6上滑动式连接有浮架601，前后对称的两个浮架601之间滑动式连接有推架602，推架602与相邻的压板501滑动式连接，前后对称的两个浮架601之间转动式连接有浮绳架603，推架602与相邻的浮绳架603挤压配合。

通过设置消减机构能够减缓溶液水面的波动，以减小溶液飞溅的概率，具体操作如下：在浮架601的作用下，浮绳架603会跟随浮架601一起漂浮在水面上，在水面产生的波动移动至浮绳架603处时，通过浮绳架603减缓溶液水面的波动，同时，浮架601、推架602和浮绳架603也会跟随液位的升降进行上下移动，当压板501向外移动时，推架602也会在浮架601上向外滑动，推架602向外滑动推动浮绳架603转动，浮绳架603转动成倾斜状态后，能够更好的阻挡水波，提高波纹消减的效果，以减小溶液飞溅的概率。

以上结合具体实施例描述了本发明实施例的技术原理。这些描述只是为了解释本发明实施例的原理，而不能以任何方式解释为对本发明实施例保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明实施例的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明实施例的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于等离子表面处理的加热装置，包括有机架（1），机架（1）固定连接有放置箱（101），放置箱（101）固定连接有等距分布的第一加热元件（102），放置箱（101）内滑动式连接有盛放板（103），其特征是，还包括有电动推杆（104），电动推杆（104）固定连接于放置箱（101）内，放置箱（101）内固定连接有安装板架（105），盛放板（103）固定连接有对称设置的第二加热元件（106），安装板架（105）滑动式连接有推动架（107），推动架（107）与电动推杆（104）的伸缩端连接，推动架（107）、安装板架（105）和盛放板（103）之间转动式连接有转动架（108），放置箱（101）设有用于添加溶液的添液机构；

添液机构包括有储放箱（2），储放箱（2）固定连接于机架（1），储放箱（2）连通有对称设置导流管（201），放置箱（101）固定连接有对称设置的喷板（202），喷板（202）与相邻的导流管（201）连通，喷板（202）和导流管（201）的连通处滑动式连接有堵块（204），堵块（204）固定连接有第一浮块（203）。

2.按照权利要求1所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，储放箱（2）安装有盖子。

3.按照权利要求2所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于调节堵块（204）打开时间的调节机构，调节机构设置于第一浮块（203），调节机构包括有连接架（3），连接架（3）滑动式连接于第一浮块（203），连接架（3）固定连接有第二浮块（301），第一浮块（203）套有丝杆（302），丝杆（302）通过螺纹连接有轴套（303），连接架（3）与轴套（303）转动式连接。

4.按照权利要求3所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于固定工件的固定机构，固定机构设置于盛放板（103），固定机构包括有对称设置的移动架（4），对称设置的移动架（4）固定连接于盛放板（103），支撑架（402）固定连接有对称设置的导向杆（403），导向杆（403）滑动式连接有移动架（4），对称设置的移动架（4）之间连接有等距分布的绳索（401），移动架（4）与相邻的支撑架（402）之间连接有弹性件（404）。

5.按照权利要求4所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，绳索（401）为弹性绳。

6.按照权利要求5所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，弹性件（404）为弹片。

7.按照权利要求6所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于防止溶液飞溅的遮挡机构，遮挡机构设置于放置箱（101），遮挡机构包括有对称设置的转板（5），对称设置的转板（5）转动式连接于放置箱（101）内，放置箱（101）内滑动式连接有对称设置的滑杆（503），滑杆（503）固定连接有压板（501），转板（5）底端固定连接有顶板（502），顶板（502）与相邻的压板（501）挤压配合，盛放板（103）设有用于推动压板（501）向外移动的推动组件，转板（5）与放置箱（101）之间连接有扭簧（507）。

8.按照权利要求7所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，推动组件包括有放置板（504），放置板（504）滑动式连接于盛放板（103），盛放板（103）滑动式连接有等距分布的顶块（506），顶块（506）与相邻的压板（501）挤压配合，顶块（506）与放置板（504）之间转动式连接有对称设置的摆杆（505）。

9.按照权利要求8所述的一种用于等离子表面处理的加热装置，其特征是，还包括有用于减缓溶液波动的消减机构，消减机构设置于盛放板（103），消减机构包括有对称设置的导向轨（6），对称设置的导向轨（6）固定连接于盛放板（103），导向轨（6）滑动式连接有浮架（601），对称设置的浮架（601）之间滑动式连接有推架（602），推架（602）上套设有压板（501），对称设置的浮架（601）之间转动式连接有浮绳架（603），推架（602）与相邻的浮绳架（603）挤压配合。