CN117506116A - 一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统，属于纳米光子学领域。该方法包括：将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片；基于加工参数，利用加工设备，将彩色图片和隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在基底上并进行处理，得到彩色图片和隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。通过采用的非线性聚合原理的激光加工设备增加了其颜色调控的可行性，降低了结构色材料的制备难度，另外本申请不需要使用化学颜料，避免了有害化学物质的使用，降低了对环境的负面影响，提高了生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及纳米光子学技术领域，具体地涉及一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统。
背景技术
目前使用最广泛的色彩是化学色，例如布料、颜料的颜色，但是化学染料会对环境造成污染，化学色也容易在高温、暴晒下漂白，而结构色是一种微纳米结构，是通过光在结构上的变化产生的，因而它具有高亮度、高保存度、高分辨率以及环保的特点。
结构色主要通过薄膜结构、光子晶体结构、金属纳米结构、介质纳米结构实现，其中薄膜结构、光子晶体结构可以通过原子层沉积法、化学气相沉积法、胶体颗粒组装法、旋涂法来实现，金属纳米结构和介质纳米结构主要通过电子束光刻实现。现有技术一种使用灰度光刻和气相沉积技术采用Ni/SiO2/Al结构制作结构色；设计了金属-绝缘层-金属的纳米尺度圆盘结构，可以实现单个纳米圆盘的彩色显示；使用自组装SiO2颗粒的方式制作结构色。
这些技术都存在一些难以克服的缺陷，如刻蚀工艺繁杂，成本昂贵，难以大面积普及使用；组装方法需要提前合成粒径均一的纳米胶体颗粒，而且由于组装过程的不稳定性，组装缺陷无法避免，降低了生产效率。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统，用于全部或至少部分的解决上述现有技术中存在的技术缺陷。
为了实现上述目的，本发明实施例提供一种双重隐藏彩色图案加工方法，包括：
将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数；
基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到所述彩色图片和所述隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
可选的，所述加工参数包括纳米结构的高度、线宽、形状、尺寸以及阵列周期性特征中的至少一种，其中，所述纳米结构形状包括点阵状、十字状、长条状、光栅状、网格状中的至少一种。
可选的，所述色彩库的配置过程包括：
设计多种尺寸结构及多种周期的阵列，利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色；
基于所述非线性聚合原理的激光加工设备，制作每种尺寸结构及每种周期阵列，分别获得各尺寸结构、各周期阵列对应颜色的色板；
对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库。
可选的，所述利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色，包括：利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色，并在白光照射下，产生可见光谱范围内的彩色效应。
可选的，若所述纳米结构的形状为点阵状和光栅状，对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库，包括：
将所述色板置于白光照射下，获取不同颜色的色板图片；
在图像分析软件中分析所述不同颜色的色板图片，并读取所述纳米结构对应的直径、高度、周期以及功率所对应的颜色，形成点阵颜色数据库和光栅颜色数据库。
可选的，将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，包括：
读取所述隐藏图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述光栅颜色数据库中查找该颜色对应的光栅参数；
读取所述彩色图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述点阵颜色数据库中查找该颜色对应的点阵参数。
可选的，在偏振光照明条件下，所述彩色图片的暗度增加。
可选的，在非偏振照明条件下，所述隐藏图片的颜色显示与背景光的颜色一致；在偏振光照明条件下，所述隐藏图片的颜色的亮度与偏振方向相关。
可选的，所述基底包括玻璃、金属、合金、介质薄膜、半导体、硅片、晶体或塑料。
另一方面，本发明还提供一种双重隐藏彩色图案加工系统，包括：
获取单元，用于将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，其中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片；
加工单元，用于基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到彩色图片和隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
通过上述技术方案，采用具备高精度、可编程控制和功率可调的特点的非线性聚合原理的激光加工设备，使得结构色材料的制备更加简便，提高了其颜色调控的精确性，降低了结构色材料的制备难度，另外与传统的颜料和色素制备方法不同，本申请不需要使用化学颜料或色素，从而避免了有害化学物质的使用，降低了对环境的负面影响，使用光刻胶的制备过程也更加精确和可控，减少了资源浪费，提高了生产效率。
本发明实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明实施例，但并不构成对本发明实施例的限制。在附图中：
图1是本发明实施例提供的一种双重隐藏彩色图案加工方法实施流程图；
图2是本发明实施例提供的一种采用非线性聚合原理的激光加工设备打印加工的示意图；
图3是本发明实施例提供的一种图案激光加工结构设计示意图；
图4是本发明实施例提供的一种彩色图案的实验效果图；
图5是本发明实施例提供的一种隐藏图案的实验效果图；
图6是本发明实施例提供的另一彩色图案的实验效果图；
图7是本发明实施例提供的与图6对应的一种隐藏图案的实验效果图；
图8是本发明实施例提供的一种双重隐藏彩色图案加工系统的结构示意图。
附图标记说明
1物镜 2超短激光脉冲光束
3纳米阵列结构 4聚焦光斑
5光刻胶 6基底
具体实施方式
以下结合附图对本发明实施例的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明实施例，并不用于限制本发明实施例。
参阅图1所示，为本发明实施例提供的一种双重隐藏彩色图案加工方法实施流程图，包括以下执行步骤：
步骤100：将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数。
其中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片。
在一些实施方式中，所述加工参数包括纳米结构的高度、线宽、形状、尺寸以及阵列周期性特征中的至少一种，其中，所述纳米结构的形状包括点阵状、十字状、长条状、光栅状、网格状中的至少一种。
在一些实施方式中，根据以下步骤预先配置所述色彩库：
S1：设计多种尺寸结构及多种周期的阵列，利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色。
在一些实施方式中，多种尺寸结构的阵列包括但不限于纳米级至微米级别的尺寸。
在一些实施方式中，所述利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色在白光照射下，产生可见光谱范围内的彩色效应。
S2：基于所述非线性聚合原理的激光加工设备，制作每种尺寸结构及每种周期阵列，分别获得各尺寸结构、各周期阵列对应颜色的色板。
S3：对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库。
在一些实施方式中，若所述纳米结构的形状为点阵状和光栅状，对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库，包括：
将所述色板置于白光照射下，获取不同颜色的色板图片；在图像分析软件中分析所述不同颜色的色板图片，并读取所述纳米结构对应的直径、周期以及功率所对应的颜色，形成点阵颜色数据库和光栅颜色数据库。在本实施例中点阵状结构其直径为300nm-1000nm，高度为800nm-1500nm，周期为500nm-3500nm；光栅状结构其线宽为200nm-800nm，高度为800nm-1500nm，周期为800nm-3500nm；这些结构的尺寸可以根据特定应用的需要在更广范围内变化，以适应各种不同的彩色图案制作要求。
在一些实施方式中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片，执行步骤100时，可以具体执行以下步骤：
S1000：读取所述隐藏图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述光栅颜色数据库中查找该颜色对应的光栅参数。
在一些实施方式中，在非偏振照明条件下，所述隐藏图片的颜色显示与背景光的颜色一致，实现隐藏，在偏振光照明条件下，所述隐藏图片的颜色的亮度与偏振方向相关。
S1001：读取所述彩色图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述点阵颜色数据库中查找该颜色对应的点阵参数。
在一些实施方式中，在偏振光照明条件下，所述彩色图片的暗度增加，在一些实际的应用场景中，在偏振光照明条件下，所述彩色图片的颜色变暗。
步骤101：基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到所述彩色图片和所述隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
在一些实施方式中，所述基底包括玻璃、金属、合金、介质薄膜、半导体、硅片、晶体或塑料。
在一些实施方式中，一种双重隐藏彩色图案加工方法，通过以下步骤来实现：
设计不同参数的纳米尺寸的结构及不同周期的阵列，利用不同参数的结构特性及其阵列特性产生不同颜色；其中纳米尺寸的结构具有纳米级至微米级尺寸大小，并且包括但不限于点阵状、十字状、长条状、光栅状、网格状等多种形状。在本实施例中设计参数选取点阵状结构其直径为300nm-1000nm，高度为800nm-1500nm，周期为500nm-3500nm；光栅状结构其线宽为200nm-800nm，高度为800nm-1500nm，周期为800nm-3500nm；这些结构的尺寸可以根据特定应用的需要在更广范围内变化，以适应各种不同的彩色图案制作要求。
根据设计的点阵和光栅阵列参数，制作加工设备可识别的加工路径参数。加工参数包括但不限于纳米结构的高度、线宽、结构尺寸、以及阵列周期性特征。这些加工参数的具体数值可以根据具体应用的需要进行调整和优化，以实现不同纳米结构及周期阵列的制备。
使用基于非线性聚合原理的激光加工设备制作这些纳米级结构及周期阵列，从而获得不同纳米结构及周期阵列与不同颜色相对应的色板。其中，激光加工设备为魔技纳米的PROME，该设备配有可调实时界面跟踪模块，借助先进的光学系统设计和自主研发的运动控制算法，可实现探测光与加工光同轴的原位测量，保证加工过程中位置精度。在界面跟踪的同时可调节物镜聚焦深度位置，满足不同加工高度结构的需求。配有光学实时校准、一键自动调平功能，无需担心长时间加工误差，有利于长时间稳定的加工。同时配有激光能量稳定系统，自动校准激光能量波动，保证激光能量恒定及加工一致性。
如图2所示，为本发明实施例提供的一种采用非线性聚合原理的激光加工设备打印加工的示意图，具体的加工过程为：取一片基底6，其基底6可包括各种材料，如玻璃、金属、合金、介质薄膜、半导体、硅片、晶体、塑料等，这些材料可以是透明或不透明的。在本实施例中取一片玻璃片或者硅片作为基底。然后，滴上ATP-DIP光刻胶5，其中光刻胶5要具有以下特性：适用于纳米结构制备的光学特性，以优化纳米结构的光学性能；具有适应激光加工设备的光刻胶固化特性；具有良好的化学显影特性，以便在制备过程中去除不需要的部分光刻胶5，从而形成期望的纳米结构；具有足够的化学和物理稳定性，以耐受化学显影处理过程，确保图案的质量和稳定性。
通过采用光刻胶在基底上形成的微纳结构阵列来实现，制得的结构色具有纯正的物理色，相对于现有的颜料和色素等制备方法，此方法具备绿色环保的明显优势。与传统的颜料和色素制备方法不同，此方法不需要使用化学颜料或色素，从而避免了有害化学物质的使用。这降低了对环境的负面影响，有助于减少有害废物的产生，符合绿色环保的原则。此外，使用光刻胶的制备过程也更加精确和可控，减少了资源浪费，提高了生产效率。
具体加工原理为多光子或双光子聚合，利用物镜1将超短激光脉冲光束2聚焦成光斑，促使光刻胶5在激光焦点处(聚焦光斑4)发生非线性多光子聚合吸收，使单次曝光体积达到普通物理极限以下，其聚焦光斑4在光刻胶里进行纳米级精度的三维移动，把任意设计的形状和结构在纳米尺寸上进行实现，最终达到纳米级精度的任意设计的三维材料、结构的生产(即纳米阵列结构3)。
通过采用双光子激光直写方法，能够实现对纳米阵列的高度精确的三维加工。通过准确控制双光子激光的参数，能够高效地管理结构色材料的颜色，从而满足多种应用需求。相较于传统方法，这种方法在颜色调控方面更为灵活，可实现更多样化的设计。其次，双光子激光直写系统具备高精度、可编程控制和功率可调的特点。相对于传统的光学晶体制备方法，这种方法在结构色材料的制备上具有显著优势。这一优势使得结构色材料的制备更加简便，并且增加了其颜色调控的可行性。
加工结束后使用对应的化学试剂进行显影，显影完后得到色板，其主要是利用非线性聚合原理的激光直写加工设备在基底材料上制作的功率渐变和周期渐变的纳米阵列结构，且每一个预设加工参数下的加工区域成一定规则的周期性排列。将色板置于显微镜白光照射下进行观察并将有不同颜色的图片保存到电脑中。在软件中分析色板照片，提取色板的颜色，读取对应直径、周期、功率所对应颜色，形成点阵颜色数据库和光栅颜色数据库，数据库中点阵结构有726种颜色对应726种参数，光栅结构有264种颜色对应264种参数，加工参数由直径、高度、周期、功率等参数构成。并且，点阵颜色数据库和光栅颜色数据库与加工参数一一对应。
将需要加工制作的彩色图案与色彩库进行对照，将所需颜色转换为对应于激光加工参数；设计需要加工的彩色图片和隐藏图片后，对隐藏图片部分读取其在彩色图片上对应像素应呈现的颜色，从光栅颜色数据库中查找该颜色对应的光栅参数，并将该部分替换为光栅图片，功率参数通过光栅图片的灰度表示；对于剩余的彩色部分，将该部分像素对应的颜色从点阵数据库中查找对应参数，替换为点阵。
通过加工软件读取处理后的加工图片，对图片上激光需要加工的路径进行规划。如图3所示为本发明实施例提供的一种图案激光加工结构设计示意图。基于对应的加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将图案加工在涂有光刻胶的基底上。通过对应光刻胶的化学处理后，得到具有彩色且隐藏有偏振光敏感的图案。如图4所示为本发明实施例提供的一种彩色图案的实验效果图。图5为本发明实施例提供的一种隐藏图案的实验效果图。如图6所示为本发明实施例提供的另一彩色图案的实验效果图。图7为本发明实施例提供的与图6对应的一种隐藏图案的实验效果图。其中，在白光照明下的彩色图案，除去需要加入隐藏信息的部分其余部分为在偏振光下图案变暗。隐藏图案为由偏振敏感结构阵列书写，在白光非偏振照明下显示与背景光一致的彩色，实现隐藏。但在偏振光照明条件下，其图案颜色与亮度与偏振方向相关。最终得到含有两种信息的光学加密彩色图片。
参阅图8所示，本发明实施例还提供一种双重隐藏彩色图案加工系统的结构示意图，包括：
获取单元800，用于将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，其中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片；
加工单元801，用于基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到所述彩色图片和所述隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
本领域内的技术人员应明白，本申请的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本申请可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本申请可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
本申请是参照根据本申请实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
在一个典型的配置中，计算设备包括一个或多个处理器(CPU)、输入/输出接口、网络接口和内存。
存储器可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flash RAM)。存储器是计算机可读介质的示例。
计算机可读介质包括永久性和非永久性、可移动和非可移动媒体可以由任何方法或技术来实现信息存储。信息可以是计算机可读指令、数据结构、程序的模块或其他数据。计算机的存储介质的例子包括，但不限于相变内存(PRAM)、静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)、其他类型的随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、快闪记忆体或其他内存技术、只读光盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能光盘(DVD)或其他光学存储、磁盒式磁带，磁带磁磁盘存储或其他磁性存储设备或任何其他非传输介质，可用于存储可以被计算设备访问的信息。按照本文中的界定，计算机可读介质不包括暂存电脑可读媒体(transitory media)，如调制的数据信号和载波。
还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的权利要求范围之内。
Claims (10)
1.一种双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，包括：
将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，其中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片；
基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到所述彩色图片和所述隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
2.根据权利要求1所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，所述加工参数包括纳米结构的高度、线宽、形状、尺寸以及阵列周期性特征中的至少一种，其中，所述纳米结构形状包括点阵状、十字状、长条状、光栅状、网格状中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，所述色彩库的配置过程包括：
设计多种尺寸结构及多种周期的阵列，利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色；
基于所述非线性聚合原理的激光加工设备，制作每种尺寸结构及每种周期阵列，分别获得各尺寸结构、各周期阵列对应颜色的色板；
对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库。
4.根据权利要求3所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，所述利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色，包括：
利用多种尺寸结构和多种周期的阵列特性产生不同的颜色，并在白光照射下，产生可见光谱范围内的彩色效应。
5.根据权利要求3所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，若所述纳米结构的形状为点阵状和光栅状，对所述色板进行处理，得到包含加工参数与颜色对应关系的色彩库，包括：
将所述色板置于白光照射下，获取不同颜色的色板图片；
在图像分析软件中分析所述不同颜色的色板图片，并读取所述纳米结构对应的直径、高度、周期以及功率所对应的颜色，形成点阵颜色数据库和光栅颜色数据库。
6.根据权利要求5所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，所述将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，包括：
读取所述隐藏图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述光栅颜色数据库中查找该颜色对应的光栅参数；
读取所述彩色图片在所述双重隐藏彩色图案上对应像素呈现的颜色，并从所述点阵颜色数据库中查找该颜色对应的点阵参数。
7.根据权利要求1所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，
在偏振光照明条件下，所述彩色图片的暗度增加。
8.根据权利要求1所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，
在非偏振照明条件下，所述隐藏图片的颜色显示与背景光的颜色一致；在偏振光照明条件下，所述隐藏图片的颜色的亮度与偏振方向相关。
9.根据权利要求1所述的双重隐藏彩色图案加工方法，其特征在于，
所述基底包括玻璃、金属、合金、介质薄膜、半导体、硅片、晶体或塑料。
10.一种双重隐藏彩色图案加工系统，其特征在于，包括：
获取单元，用于将待加工的彩色图案与预先配置的色彩库进行对照，根据所述预先配置的色彩库中加工参数与颜色之间的对应关系，获得所述待加工的彩色图案中每一种颜色对应的加工参数，其中，所述待加工的彩色图案包括彩色图片和隐藏图片；
加工单元，用于基于所述加工参数，利用基于非线性聚合原理的激光加工设备，将所述彩色图片和所述隐藏图片采用不同的纳米结构形状加工在涂有光刻胶的基底上，并对所述涂有光刻胶的基底进行处理，得到所述彩色图片和所述隐藏图片交织的双重隐藏彩色图案。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202311489821.1A CN117506116A (zh) | 2023-11-09 | 2023-11-09 | 一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| CN117506116A true CN117506116A (zh) | 2024-02-06 |
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ID=89759111
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202311489821.1A Pending CN117506116A (zh) | 2023-11-09 | 2023-11-09 | 一种双重隐藏彩色图案加工方法及系统 |
Country Status (1)
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|---|---|
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2023
- 2023-11-09 CN CN202311489821.1A patent/CN117506116A/zh active Pending
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