CN1174752A - 用于雾化的方法和设备 - Google Patents

Abstract

一种雾化方法和雾化设备,可以良好特性对各种材料进行雾化,有高清洁性,使设备更加紧凑,并可使各种成本保持较低的水平。使待雾化材料和液体通过一具有较大横截面面积的气室构件到达一设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件,通过气室构件和该部分与液体共振来产生超声波振动在待雾化材料上反复施加应力。方法的步骤:使待雾化材料和液体通过具有较大横截面面积的气室构件和到达设置有具有非常小的横截面面积通道的通道构件。

Description

用于雾化的方法和设备

本发明涉及一种用于散布、乳化、混合、压碎和其他加工领域的雾化方法和设备。

众所周知，一旦各种材料例如在散布、乳化、混合和压碎领域中雾化后，其固有的各种功效就可以得到充分地发挥，从而可以得到非常满意的结果。因此迫切要求开发一种用于雾化各种材料的方法和设备。

至于雾化设备，由于材料的纯化(没有污染)要求相当高的等级，存在经雾化的颗粒的零件应该能够得以充分地清洁。

而且，由于常规的雾化设备必须产生高压，因此不可避免地会使设备变大并且会更加昂贵。这样，对于常规雾化设备而言，熟悉现有技术的人一直以来强烈要求尺寸减小和改善清洁度。

在日本专利公开2-261525中公开了一种通过液体的碰撞、扰动、湍流、流道的扩宽或收窄产生气穴的方式使液体中的材料雾化的方法，该专利公开了在振荡器中的喷嘴盘上提供孔和通道的技术，该振荡器是用于待雾化材料的雾化零件。在美国专利说明书第4533254号中，公开了一种喷嘴孔和薄膜室的结合结构。雾化可以通过这样的现有技术得到。

但是，根据现有技术，用于一种材料/多种材料雾化的构件是由在腔室中的盘和/或喷嘴上形成槽或薄膜空间的通道构成的。

而且，上述雾化构件与待雾化的液体或材料的较大的接触区域(接触表面区)可能会导致清洁度降低。

另外，由于用于压缩液体的设备是压缩机或泵，在要求规定雾化所需的压力的情况下，该设备可以扩大。

此外，低的清洁度需要高的维护成本，为了与高的压力匹配而放大或提供高的性能所需要的高的制造成本，常规雾化设备所需的各种成本可能是相当昂贵的。

据说，如果雾化材料的颗粒尺寸可以按要求设计(所谓的“颗粒尺寸设计”)则是最理想的，但是，这对现有技术来说是不可能的。

考虑到现有技术中所存在的上述缺点，本发明提出了一种雾化方法和设备，本发明对于各种材料都具有良好的雾化能力并且具有较高的清洁度，设备易于安排得紧凑并且可将各种成本维持在较低的水平上。

在进行了各种研究之后，本发明人发现了一种基于声学理论或共振理论的雾化方法，该雾化方法完全不同于基于气穴理论的常规雾化方法，并且发现了这种基于声学理论或共振理论的雾化方法可导致非常好的结果。本发明涉及一种用于基于这种理论(完全不同于常规的气穴雾化理论)的雾化的方法和设备。

根据本发明，用于混合和雾化与一种液体一起雾化的材料的雾化方法包括下列步骤：使待雾化的材料和液体通过一个具有较大横截面的气室件到达一个设置有多个横截面非常小的部分的构件；通过使气室构件、所述具有非常小的横截面的部分和所述液体共振产生超声波振动；在待雾化的材料上反复施加应力。

而且，根据本发明，用于将一种待雾化的材料与一种液体一起混合和雾化的雾化设备包括：一个具有较大的横截面的气室构件；一个设置有多个横截面非常小的部分的构件；和将待雾化的材料和该液体提供给所述气室构件和所述设置有多个横截面非常小的部分的构件的供应管系统。所述气室构件和所述设置有多个横截面非常小的部分的构件装配成能够通过使所述气室构件、所述横截面非常小的部分和所述液体共振的方式产生超声波振动，以便在待雾化的材料上反复施加应力。

为了应用该方法和/或设备来进行雾化，根据本发明，对于设置有非常小的横截面面积的部分的构件最好是具有内表面的圆筒形状。而且，象注射针这样的直径较小的金属圆筒构件适合于具有内表面的圆筒形状。

为了应用该方法和/或设备来进行雾化，根据本发明，该构件最好设置有具有非常小的横截面面积的部分以便具有多条直的通道。对于具有多条直的通道的上述构件，多个由多个直径较小的金属圆筒形构件构成的捆扎构件，或多个用合金粉末烧结在一起的直径较小的圆筒形捆扎构件，或通过使用电火花加工技术形成的具有多个通孔的实心圆筒形构件是最理想的。

根据按上述那样构成的本发明的用于雾化的方法或设备，当待雾化的材料和液体通过气室构件和设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件时，通过气室构件和具有非常小的横截面面积的部分与液体一起共振的方式产生超声波振动。换句话说，当待雾化材料和液体通过设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件时，产生对应于所谓的“流动噪声”的振动。具有通过上述振动和气室构件产生的振动的共振频率的振动在气室中传播。这样，就产生了超声波，因为在气室和具有非常小的横截面面积的部分中与液体共振的振动频率是非常高的。

当待雾化的材料和液体通过气室构件和设置有具有非常小的的横截面面积的部分的构件时，通过在侧壁上的气穴现象或撞击可在(待雾化的)材料上施加弯曲应力和/或剪切应力。此处，本发明要解释的是，由于产生了超声波振动，在材料上反复施加弯曲应力和/或剪切应力的次数就变得如此得多以致用常规的雾化设备是绝对达不到的。

由于在待雾化材料上施加的弯曲应力(弯曲应力和/或剪切应力是通过气穴现象，与侧壁的撞击和其他因素导致的)的频率大大地增加，就使材料获得了理想的雾化。

在本发明中，设置有非常小的横截面面积的部分的构件的内径，长度和液体压力要适当地设定，在附图中示出的经雾化的材料的颗粒尺寸的分布特性曲线就变得很陡，并且在附图中示出的颗粒尺寸的分布有非常急剧的变化。因此，经雾化的材料的颗粒尺寸是均匀的。

换句话说，借助本发明，在雾化过程中是理想但是利用现有技术又不可能实现的“颗粒尺寸设计”变得可能的了。通过适当地设定设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件的内径和通过该构件的液体的压力，就可以获得具有规定的颗粒尺寸的经雾化的材料。

设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件的长度和尺寸是长的和/或大的，在附图中示出的颗粒尺寸分布特性曲线将是急剧变化的。这样就获得了精确的颗粒尺寸设计。

此处，本发明的用于雾化的方法和设备中，需要清洁并且与经雾化的材料接触的部件只有气室构件和设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件。因此，只有两个部件在雾化后需要进行清洁，这样，清洁的能力和清洁的效率都要比现有技术的清洁能力和清洁效率好得多。

对于设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件，使用的是非常小的构件，如后面将提及的那样，该构件与经雾化的材料的接触面积是相当小的，清洁的能力就得以改善。

此外，在本发明的用于雾化的方法和设备中，一旦设定形状、尺寸和其他各种参数以便通过气室构件、具有非常小的的横截面面积的部分和液体的共振产生超声波振动，就不再需要在常规设备中要求的任何超高压。因此，整个设备的尺寸的减小就很容易实现。

本发明的超声波振动发生器是由具有非常小的横截面面积的构件和用于将液体供应给该构件的供应管系统构成的。设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件被构造成能通过具有非常小的横截面面积的构件与液体的共振来产生超声波振动。因此，一旦设定气室构件构件和设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件的形状、尺寸，流过的液体的压力和其他的各种参数，就可以非常容易得到合适的超声波振动。考虑到在目前阶段要得到超声波振动压电元件和高频交流电是必不可少的，因此，本发明在超声波应用的领域中也是非常有用的。

根据本发明的雾化方法，在用于将待雾化的材料与液体混合并且进行雾化的雾化方法中，其特征在于：该雾化方法包括使待雾化的材料和液体通过具有较小的横截面面积的气室构件到达设置有具有非常小的横截面面积的通路的精致较小的通道构件；和在使液体通过具有非常大的横截面面积和多个具有非常小的横截面面积的通道部件时，对材料进行雾化。具有非常小的横截面面积的通道构件是由多个直的的通道构造的并且所述多个直的的通道的每个横截面面积要选择得使对应于经雾化的材料的规定的颗粒尺寸的分布。

在将待雾化的材料与液体混合并进行雾化的雾化设备中，本发明的设备包括一个用于将待雾化的材料进行雾化的发生器和一个用于供应待雾化的材料和液体的供应管系统。该发生器具有一个具有较大的横截面面积的的气室构件和设置有具有非常小的横截面面积的通路的直径较小的通道构件。在使液体通过具有非常小的横截面面积的构件时，就对材料进行了雾化。具有非常小的横截面面积的直径较小的通道构件的通路包括多个直的通道，每个通道的横截面面积对应于经雾化的材料规定的颗粒尺寸的分布。

在本发明的雾化设备中，最好是直径较小的通道安置在与发生器相关的位置上，该通道可以分成两个隔开的部分，并且该通道构件分别在前侧和后侧与直径较小的通道构件啮合。

根据其结构在上面已经说明的本发明，由于超声波振动是通过具有较大的横截面面积的构件和多个具有非常小的横截面面积的通道构件的共振产生的，各种应力会反复施加到待雾化的材料上。在多个具有非常小的横截面面积的通道中，一旦导致气穴现象，气穴的效应就会散布到通道的横截面的所有面积上，使得由气穴导致的剪切应力可以正确地作用在待雾化的材料上。

在剪切应力作用在该材料上时，依赖于选择直径较小的通道构件的多个直的通道的每个横截面面积可以使颗粒尺寸达到规定的颗粒尺寸的分布，这样就使“颗粒尺寸设计”成为可能。

简而言之，本发明包括下列步骤：使待雾化的材料与液体混合；将压力传递给振荡器；以及通过气室构件中具有较大横截面面积的构件和多个具有非常小的横截面面积的直径较小的直的通道与液体共振产生超声波并且通过反复地在待雾化的材料上施加应力而使其雾化。此处，每个直的的通道的横截面面积要选择得使待雾化的材料对应于规定的颗粒尺寸的分布。

此处，可以分隔成两个部分的直径较小的通道构件相对于振荡器安装就位，并且该些通道构件分别在前侧和后侧与所述的直径较小的通道构件啮合。对中可以实现清洁，达到雾化技术中要求的可清洁性。

本发明的实施例

下面参照附图对本发明的实施例进行说明。

图1是示出本发明的第一实施例的方框图。

图2是与图1不同的实施例的透视图，示出了带有多个具有非常小的横截面面积的部分的构件。

图3是带有多个具有非常小的横截面面积的部分但是不同于图1和图2所示的构件的另一个透视图。

图4是模仿第一实例的设备的示意图。

图5是在图4所示的设备中制成的各种通道的数值表。

图6是一幅侧视图，示出了用在第二实例中的构件或注射所需要的构件，该构件具有非常小的横截面面积。

图7是从本发明的第二实例测量得到的颗粒尺寸分布图。

图8是从本发明的第三实例的实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图9是从本发明的第三实例的另一个实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图10是从本发明的第三实例的又一个实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图11是从本发明的第四实例的一个实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图12是从本发明的第四实例的另一个实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图13是从本发明的第四实例的又一个实施例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图14是从本发明的第五实例测量得到的颗粒尺寸的分布图。

图15是一幅方框图，示出了本发明的第二实例的结构。

图16是一幅分解侧视图，示出了图15所示的振荡器的结构。

图17是颗粒尺寸分布的说明图。

在图1中，标号10标示的是本发明的用于雾化的设备(雾化设备)。设备10具有一个将待雾化的材料和水(液体)供应到其内的储存器12，一个流量和排放压力可调泵，和是一个雾化该材料的构件的雾化构件20，上面所提及的构件在管线L1中串联对中。

从一个供应源16通过管道L2将待雾化的材料(例如油)供应给一个储存器12。从水供应源18通过管道L3供应作为液体的水。管道系统是由管线L1，L2和L3构成的。

雾化构件20具有一个气室构件22和一个具有内表面24的直径较小的圆筒形金属件(一个设置有多个具有非常小的的横截面面积的部分的构件)。从图1可以清楚地看到，气室构件22具有一个较大的横截面面积，或气室构件22的横截面面积大于构件24的横截面面积。

在图1中，符号DD表示将雾化构件20内经雾化的材料和水的混合物施加到所有类型的处理系统。在图1所示的实施例中，在进行雾化过程中，从供应源16通过管道L2将待雾化的材料供应给储存器12并且从水源18供应水。供应给储存器12的材料和水由一个泵14给予水位差并且通过管道L1供应给雾化构件20。

在雾化构件20处，具有内表面的圆筒形构件24(即设置有非常小的横截面面积的构件)在喷流形成的过程中成为所谓的流动噪声的发生源。换句话说，具有内表面的圆筒形构件24是作为一个声音源工作的。

在气室22中与具有内表面的圆筒形构件共振的频率是如此得高，以致相当于一种超声波振动(参见后面的实例)。因此，一旦具有内表面的圆筒形构件24作为声源工作，它就会与气室构件22和具有内表面的圆筒形构件中的液体一起共振并且是以象超声波振动那样高的频率共振的。

由于是以高的振动频率共振，因此，供应给雾化构件20的材料通过与构件22，24的撞击或通过气穴效应反复地被施加弯曲应力或剪切应力从而可以得到非常理想的雾化。

在图1中，具有内表面的圆筒形构件24只是作为一个直径较小的金属管示出，但是，在图2中，雾化构件可以是由多个用带子26捆扎起来的具有内表面的直径较小的金属圆筒形构件24和气室22(图中用标号20A表示)组合构成的雾化构件。

或者如图3中所示的构件24B，雾化构件可以由其直径大于具有内表面的直径较小的金属圆筒形构件24，24A…圆筒形构件27得到，这些构件24，24A…设置有多个通孔28…。此处，推荐利用多个通孔28。

在图3中同样示出了多个通孔28的内径，在待雾化的材料要求具有多种颗粒尺寸的情况下，可以使通孔的内径具有多种不同的数量。例如，当圆筒形构件27是用所谓的连续多孔结构的高纯度的氧化铝陶瓷构成时，圆筒形构件可以具有多个约0.01mm尺寸的小孔。当陶瓷圆筒形构件27是用电火花加工机加工时，内径约为0.3mm，圆筒形构件可以具有两种内径(0.01mm，0.03mm)的孔。

图4涉及的是本发明的第一实例，该图示出了作为一个示范例的用于雾化的方法和设备。

所示出的总的用标号100表示的雾化设备设置由流动侧I，水(液体)和待雾化的材料(磷酸钙10％，一种乳化剂pyrroli sisannarium0.2％：流入颗粒尺寸是5.13μm)通过没有示出的管道系统供应，连接构件J设置在流动侧I，对应于气室构件C1，C2，C3的三个气室和两个(对应于设置由具有较小的横截面面积的部分的构件的)喷嘴安装在气室N1，N2和一个用于待雾化的材料和水的混合物流出的出口OL(流出侧O)之间。

喷嘴N1和N2的内径d是0.2mm，而气室C1，C2，和C3的内径D是7mm(参见图5)。喷嘴N1和N2的长度(在图4中的箭头L方向上的长度)总长是0.5mm(虽然没有在图4中示出)，而气室C2的长度是20mm。

如图5所示那样，在喷嘴N1和N2中的流动速率是64米/每秒，而在气室C1，C2，和C3中的流动速率从横截面面积的比值计算出是0.05米/每秒。

采用上面提及的设备，可以获得理想的结果。如果这样进行雾化，基于常规的气穴理论，施加有弯曲应力或剪切应力的部位不只是N1和N2处。而在颗粒上施加弯曲应力或剪切应力的次数的频率N可以从下式计算出：

N＝T/ΔT…………式(1)

在式(1)中，T是颗粒通过喷嘴的所需的时间，使用LN来表示喷嘴N1和N2的长度，用U表示材料通过的速率，T＝LN/U。将以上数值代入该式得到：

T＝0.5×10-3(米)/64(米/每秒)。

而ΔT是施加到颗粒上的振动的周期，并且是与共振频率(＝150KHz)的倒数相一致的。将数值代入(1)式，得到：

N＝T/ΔT

 ＝(0.5×10-3/64)/(1/150×10-3)

 ＝1.2(次数)

假设本发明的雾化是基于常规的气穴理论，就意味着材料的每个颗粒通过在颗粒上施加弯曲应力或剪切应力平均次数1.2次就可以粉碎和雾化。换句话说，鉴于次数N＝1.2对于颗粒的雾化是太少了，因而只能断定本发明的雾化不是基于常规的气穴理论。

相反，假定通过气室和具有非常小的横截面面积的部分与液体的共振导致的超声波振动可以实现本发明的雾化，就可以获得次数N。在将图4所示的设备应用到模型上时，它可以被认为由气室C1和喷嘴N1构成的装置与由气室C2和喷嘴N1，N2构成的装置的结合。

如上面所提及的那样，LC或气室C2的长度(图4中箭头L方向的长度)是0.02m，声速的代表速度是1500米/秒，这样，基础频率F就是1500/0.02＝75KHz。而上面所提及的两个装置(由气室C1和喷嘴N1构成的装置，以及由气室C2和喷嘴N1，N2构成的装置)的共振频率就是2F＝150KHz(谐振频率)。

因此，就从该式中得到了通过共振频率150KHz在气室C2内的颗粒上施加弯曲应力或剪切应力的次数N。

N＝T/ΔT

颗粒通过气室C2所需的时间T(＝LC/U，其中气室C2的长度为LC，流速为U)就是T＝20.0×10-3(米)/0.05(米/秒)(参见图5)，而在颗粒上的振动周期ΔT是共振频率150KHz的倒数。

将数值代入式(1)，次数N就如下式：

N＝T/ΔT

＝(20.0×10-3/0.05)/(1/150×10-3)

＝6×10-4(次数)

次数的数值要是足以获得理想的雾化的数值。而从此例中可以理解到，本发明涉及的雾化是基于声响效应或共振理论。

而且，本发明的经雾化的材料的颗粒尺寸的分布是如此的急剧变化以致常规的技术从没有见到过，这与在颗粒上施加弯曲应力或剪切应力的次数相当多的情况是一致的。

图2涉及本发明的第二实例，其中进行了使用图1所示的雾化设备将20％的油与80％的水混合或乳化的试验。作为具有内表面的直径较小的金属圆筒形构件24(设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件)，使用了一个长度为25mm，内径为0.5mm的注射针。针24E的针尖以这样的方式安置使得其倾斜的表面30面朝下如图6所示那样。

在图7中示出了在用泵14以排放压力10个大气压搅动3秒和循环3秒后用一个衍射/散射型颗粒尺寸分布测量仪(在此例中使用的是由Horiba Manufacturing Company生产的商标为“LA-910”型：图中没有示出该颗粒尺寸分布测量仪)测得的颗粒尺寸分布。

图7中所示的测量结果示出颗粒的分布是急剧变化的并且颗粒直径为3至5μm的颗粒总是处在正态尺寸分布曲线中心区，雾化的效果是相当理想的。

作为本发明的第三实例，进行了与第二实例相同的测量，使用的是与第二实例相同的测量仪来对与第二实例相同的样品进行测量，其中，压力为1个大气压，排放时间为1分钟，内径为1.2mm，长度为38mm。测量的结果示于图8中。从图中可以看出，经雾化的样品的颗粒尺寸形成了具有两个非常尖形的蜂顶的正态分布曲线。

与图8所示的结果相比，图9中示出了除了压力为3个大气压力外是在相同的状态下测得的结果，而图10中是除了压力为10个大气压外相同的状态下测得的结果。在图8至图10所示的情况下，供应给雾化设备的样品和液体的压力影响着颗粒直径或颗粒尺寸的分布。

作为本发明的实例4，示出了使用内径为0.55mm，长度为25mm的针以及在除了压力不同外相同的参数下进行试验的测量结果。图11中示出了压力为60kgf/cm²的结果，图12中示出了压力为70kgf/cm²的结果，而图13中示出了压力为90kgf/cm²的结果。在上面提及的情况中，压力不会对颗粒直径或颗粒尺寸分布有影响，但是，在所有的情况下，应该理解到，它们都具有变化非常急剧的颗粒尺寸分布。

作为本发明的第五实例，图14中示出了使用二氧化钛作为样品的测量结果。与使用油的情况一样，以变化非常急剧的尺寸分布曲线获得了非常理想的雾化。

在图15中，示出了使用标号110表示整个设备的本发明的用于实例2的雾化设备。该设备110具有用于供应待雾化的材料和水(液体)的储料容器101，一个由一个电机103驱动的流量和排放压力可变泵102，一个用来释放过高压力的减压阀104，一个压力表105，一个用于将空气排放到管道中的放气活门106，和一个用于进行雾化的振荡器107，并且所有构件都串联在管道系统L中。

如图16的分解视图所示那样，振荡器107的主要部件是由分成具有直径非常小的通道的两段111，111的直径较小构件，一个套管113，气室构件112，112，和外套螺帽114，114构成的。直径较小的通道件穿透有多个直的通道H1，H2……，这些通道的横截面面积要选择得能够获得规定的颗粒尺寸分布，并且通过将一个定位销115插入定位孔116中的方式使左右两个构件正确地对中放置。然后将它们插入在两侧的圆周表面上具有螺纹113a的圆筒形套管113内。在套管113的左右两侧处，气室构件112以这样的方式连接使得一个在一侧处的突出构件112a插入到套管113内并且与直径较小的通道构件111接触。气室112的内径具有较大的横截面面积并且气室112的另一侧经一个螺钉连接到一个未在附图中示出的管上。在气室112的周边上的直径较大部分112b与外套螺帽114固定，其一侧用螺纹构件113a固定到套管113的边缘上，这样就将气室构件112固定住。在本发明的实施中，可以通过将多个具有通道的构件捆扎起来制成直径较小的通道构件，并且通道H1，H2可以制成有多个，并且通道的直径可以按需要选择。

在雾化过程中，待雾化的材料和水(油)可以从储存容器101通过泵102提供给振荡器107，同时，减压阀104降低过高的压力，并且排气活门106将管道中的混入空气排出。在振荡器107中，横截面面积从气室构件112处的较大面积，变化到在直径较小通道构件处的非常小的面积，然后在另一个气室构件112处再次变化到较大的面积，其中雾化是通过由共振导致的超声波振动产生的气穴现象实现的。

用这种方法得到的颗粒尺寸分布被发现处在一个非常窄的分布范围内，该范围的中心是随象构件的横截面面积那样的各种参数而变化的。这样，通过适当地选择每个直的的通道H1，H2……的横截面面积，就可以获得具有规定的颗粒尺寸分布，例如象图17所示那样，的雾化，该雾化具有根据每个直的通道的横截面面积的颗粒尺寸分布。

当直径小的通道构件111分成两个构件并且使用定位销115对中时，通道的清洁就比较容易并且在制造该设备时直的通道H1，H2的加工也容易并且较精确。

本发明的第一实例的效果和/或应用如下面所述：

(1)可以得到良好的雾化和范围非常窄的颗粒尺寸分布；

(2)提出了基于全新的原理的雾化方法和设备，不仅注意到一般的气穴产生，而且还考虑到声响效应和/或共振效应；

(3)可以设计颗粒尺寸的分布(颗粒尺寸设计)；

(4)具有高的清洁能力和/或高的清洁效率；

(5)通过将与经雾化的材料接触的接触面积减至最小的方式降低了清洁工作费用；

(6)特别容易促使整个设备紧凑；

(7)可以将制造成本保持在非常低的水平，因为没有必要使用任何高压装置或象钻石那样的昂贵材料；

(8)无需使用任何压电元件或高频交流电，就能非常容易地获得超声波振动，只要形状，尺寸和其他参数经适当地选定即可；

(9)使用范围广阔，例如可用于散布，乳化，混合，搅拌和粉碎。对这样宽的使用范围具有较高的实用性。

本发明的第二实施例的效果和/或应用如下所述：

(10)用较简单的设备可以很容易得到雾化，而无需使用任何较大尺寸的装置和/或高压装置；

(11)通过选择通道的横截面面积可以按需要得到具有任何颗粒尺寸分布的雾化。设置有横截面面积非常小的通道的构件可以很容易替换，使得可以很容易将材料雾化成具有任何规定的颗粒尺寸分布；和

(12)易于拆卸构件以便使清洁工作容易进行。

Claims (10)

1.一种用于将待雾化的材料与液体混合并且使该材料雾化的雾化方法，该方法包括下列步骤：

使待雾化的材料和液体通过具有较大的横截面面积的气室构件到达一个设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件；

在所述通过步骤中，通过该气室构件和具有非常小的横截面面积的部分与液体共振，并且在待雾化的材料上反复地施加应力的方式产生超声波振动。

2.如权利要求1所述的雾化方法，其特征在于：设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件是一个具有内表面的圆筒形构件。

3.如权利要求1和2中任一项所述的雾化方法，其特征在于：设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件具有多个直的通道。

4.一种用于将待雾化的材料与液体混合并且使该材料雾化的雾化设备，该设备包括：

一个具有较大横截面面积的气室构件；

一个设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件；和

一个用于将待雾化材料和该液体供应给所述气室构件和所述具有非常小的横截面面积的部分的构件的供应管道系统；

所述气室构件和所述设置有具有非常小的横截面面积部分的构件组装成能通过所述气室构件和该具有非常小的横截面面积的部分共振产生超声波振动，以便在待雾化的材料上反复地施加应力。

5.如权利要求4所述的雾化设备，其特征在于：所述设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件是一个具有内表面的圆筒形构件。

6.如权利要求4和5中任一项所述的雾化设备，其特征在于：设置有具有非常小的横截面面积的部分的所述构件具有多个直的通道。

7.一种产生超声波振动的设备，该设备包括：

一个具有较大横截面面积的气室构件；

一个设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件；和

一个将液体供应给所述气室构件和所述设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件的供应管系统；

所述气室构件和所述设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件组装成通过使所述气室构件和具有非常小的横截面面积的部分与所述液体共振产生超声波振动。

8.一种用于将待雾化的材料与液体混合并且使该材料雾化的雾化方法，该方法包括下列步骤：

使待雾化材料和液体通过一个具有较大横截面面积的气室构件到达一个具有非常小的横截面面积的通道的直径较小的气室构件，使得当该液体通过具有较大横截面面积的构件和多个具有非常小的横截面面积的通道时，该材料得到雾化；

在直径较小的气室构件中的横截面面积非常小的通道是由多个直的通道构成的；和

多个直的通道的每个横截面面积要选择得对应于规定的颗粒尺寸分布。

9.一种用于将待雾化材料与液体混合并且使其雾化的设备，该设备包括：

一个用于使待雾化的材料雾化的振荡器；和

一个用于将待雾化的材料和液体供应给所述振荡器的供应管系统；

所述振荡器包括一个具有较大横截面面积的气室构件和一个具有非常小的横截面面积的通道的直径较小的气室构件；

当该液体通过具有较大横截面面积的构件和多个具有非常小的横截面面积的通道时，所述材料得以雾化；

在该直径较小的通道构件中的具有非常小的的横截面面积的通道是由多个直的的通道构成的；和

所述多个直的通道的每个横截面面积对应于经雾化的材料的规定的颗粒尺寸分布。

10.如权利要求9所述的雾化设备，其特征在于：所述振荡器包括两个可分开的直径较小的通道构件，所述通道构件相互对中，所述气室构件分别在前侧和后侧与该直径较小的通道构件啮合。

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