CN117340692A - 金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置 - Google Patents

金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置 Download PDF

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Abstract

本发明属于增材制造表面处理领域,涉及一种金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置;可以强化液体射流束的空化动能,保持射流束的稳定性,进而提高金属增材制造零件的表面质量和加工效率。技术方案包括:液体喷射抛光单元、超声场聚焦单元和永磁场抑溃单元。液体喷射抛光单元包括:抛光液发泡空间和喷嘴,抛光液发泡空间与供应抛光液的上级设备连通,喷嘴固定于抛光液发泡空间下方。超声场聚焦单元包括超声波传导件,超声波传导件部分结构设置于抛光液发泡空间中。永磁场抑溃单元包括:第一永磁组和第二永磁组,第一永磁组设置于抛光液发泡空间外壁且位于超声波传导件下方,第二永磁组设置于抛光液发泡空间外壁且位于喷嘴上方。

Description

金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置
技术领域
本发明属于增材制造表面处理领域,涉及一种金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置。
背景技术
金属增材制造零件在航空航天、生物医学、模具及热交换等领域应用广泛。然而,金属经过增材制造后表面几何精度和表面质量无法满足高性能零件的应用要求,仍需进行抛光处理。液体喷射抛光是一种无刀具磨损的柔性抛光工艺,利用液体射流束对工件表面进行纳米级抛光,可以无视工件表面的复杂几何形状,特别适合于复杂增材制造零件的精密加工。然而,传统液体射流束必需具备足够的射流压力和磨料粒度才能实现零件表面的完整性,不但抛光时间长,而且射流束不稳定,严重影响金属增材制造零件的表面质量和加工效率。
目前,液体喷射抛光技术主要借助超声、空化和电磁等多能场辅助手段进行强化。例如,天津大学公开的超声空化辅助射流抛光系统(CN201910362390.X)将超声波产生的空化泡聚焦于喷嘴进行磨料射流抛光,但是空化泡在射流系统内运动复杂,振荡周期极短,容易在射流系统内提前溃灭,从而未能起到强化磨料运动的作用。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所公开了一种磁射流抛光装置(CN202111507836.7),利用电磁场控制磁性液体中的磁性颗粒进行定向射流抛光,但是磁性液体在供料系统循环中容易出现颗粒凝聚和沉降,从而降低了磨料利用率。在此基础上,太原理工大学公开了一种声磁耦合空化辅助液体喷射抛光装置(CN202010948099.3),提出利用超声场和电磁场进行液体喷射抛光,以避免空化泡提前溃灭,提高超声空化辅助液体喷射的抛光效率,然而电磁场产生的磁场强度通常较低,对空化泡的控制作用有限,同时有限的空化能量使得磁性抛光液固体颗粒凝聚和沉降问题难以得到有效解决。
发明内容
为克服上述相关技术中的缺陷,本发明提供一种金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,可以强化液体射流束的空化动能,保持射流束的稳定性,进而提高金属增材制造零件的表面质量和加工效率。
本发明提供的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置包括:液体喷射抛光单元、超声场聚焦单元和永磁场抑溃单元。其中,所述液体喷射抛光单元至少包括:抛光液发泡空间和喷嘴,所述抛光液发泡空间与供应抛光液的上级设备连通,所述喷嘴固定于所述抛光液发泡空间下方,且所述喷嘴与所述抛光液发泡空间连通。所述超声场聚焦单元至少包括超声波传导件,所述超声波传导件的部分结构设置于所述抛光液发泡空间中,所述超声波传导件被配置为:接收超声波,并传导至所述抛光液发泡空间内,使所述抛光液在超声波作用下空泡化。所述永磁场抑溃单元包括:第一永磁组和第二永磁组,所述第一永磁组设置于所述抛光液发泡空间外壁且位于所述超声波传导件下方,所述第一永磁组被配置为将所述超声波传导件周围的空泡化的所述抛光液向远离所述超声波传导件方向牵引;所述第二永磁组设置于所述抛光液发泡空间外壁且位于所述喷嘴上方;所述第二永磁组被配置为将所述抛光液发泡空间内的空泡化的所述抛光液向所述喷嘴方向牵引。
所述抛光液发泡空间包括:锥形壳体、振动架。其中,锥形壳体的上下两端开口,且下端开口直径小于上端开口直径,所述喷嘴固定于所述锥形壳体的下端开口内。振动架为阶梯状板件,所述振动架包括:上阶梯板和下阶梯板,所述上阶梯板固定于所述下阶梯板上方,且所述上阶梯板在所述下阶梯板上的正投影,位于所述下阶梯板的中部,所述振动架固定于所述锥形壳体的上端开口内,且所述振动架、锥形壳体之间形成的空间为所述抛光液发泡空间。
所述上阶梯板和下阶梯板之间通过倾斜面连接。所述超声波传导件与超声波发生器连接,所述超声波传导器包括:压电换能器和变幅杆。其中,多组所述压电换能器与所述超声波发生器连接。每组压电换能器与对应的所述变幅杆固定连接,且所述变幅杆贯穿所述倾斜面,所述变幅杆的下端面位于所述抛光液发泡空间内。
三组所述压电换能器和三个所述变幅杆一一对应连接。且自三个所述变幅杆的下端,以其轴向延伸后的交点位于所述抛光液发泡空间内,所述交点和三个所述变幅杆的上端点处于正四面体的顶点处。
所述第一永磁组包括多个第一永磁体,所述多个第一永磁体沿所述锥形壳体的外侧壁上部均匀布置;所述第二永磁组包括多个第二永磁体,所述多个第二永磁体沿所述锥形壳体的外侧壁下部均匀布置。
所述供应抛光液的上级设备包括:混合室、输送管路和真空泵;其中,所述混合室内设置有搅拌机构。输送管路一端与所述混合室连通,另一端与所述抛光液发泡空间连通。真空泵设置于所述输送管路上。
所述喷嘴下方还设置有工作台,工作台上端面为工作台面,所述工作台上部固定有载物台,所述工作台面下方设置有抛光液收集腔,所述抛光液收集腔贯穿所述工作台面与外界连通。
所述金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置还包括机械手臂,所述机械手臂末端与所述液体喷射抛光单元固定连接,所述机械手臂被配置为调整所述液体喷射抛光单元的喷嘴喷射抛光液的位置和方向。
所述搅拌机构包括:电机、主轴、从动齿轮;其中,所述主轴主体设置于所述混合室内,且与所述混合室的侧壁通过轴承连接,所述主轴与所述电机输出轴连接。所述主轴上固定有主动锥齿轮,所述从动齿轮为锥齿轮,所述从动齿轮与所述主动锥齿轮啮合,所述从动齿轮远离所述主轴的一侧设置有搅拌叶片,且所述从动齿轮和所述搅拌叶片之间通过中轴连接。
本发明的有益效果在于:
本发明采用多组压电换能器、变幅杆,可以将多路超声叠加并聚焦于喷嘴附近,可以实现对抛光液发泡空间内抛光液快速泡沫化,可以提高对金属增材的抛光效率。
本发明采用三个变幅杆,且按照正四面体的结构进行布置,再未改变压电换能器、变幅杆的机械结构和性能的前提下,超声场量可以提升1.225倍。
本发明采用上永磁体和下永磁体,其中,上永磁体可以将抛光液发泡空间上部泡沫化的抛光液向下牵引,如此不断拉扯,可以提升变幅杆附近的抛光液不断空泡化,同时避免空泡化溃灭;下永磁体牵引泡沫化抛光液向喷嘴方向运行,使得泡沫化的抛光液在喷嘴出口处不断挤压和溃灭,从而产生更高的空化射流能量,提高对工件表面的抛光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或相关技术中的技术方案,下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明的结构图;
图2为本发明的振动架的结构图;
图3为本发明的振动架的俯视图;
图4为本发明的超声波传导件的布置示意图;
图5为本发明的第一永磁组中的一个第一永磁体的安装结构图;
图6为本发明的第二永磁组中的一个第二永磁体的安装结构图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,均属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
下面通过实施例,对本申请所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置做详细阐述。
如图1所示,本发明一些实施例提供的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置包括:液体喷射抛光单元1、超声场聚焦单元和永磁场抑溃单元3。其中,所述液体喷射抛光单元1至少包括:抛光液发泡空间11和喷嘴12,所述抛光液发泡空间11与供应抛光液的上级设备连通,所述喷嘴12固定于所述抛光液发泡空间11下方,且所述喷嘴12与所述抛光液发泡空间11连通。所述超声场聚焦单元至少包括超声波传导件21,所述超声波传导件21的部分结构设置于所述抛光液发泡空间11中,所述超声波传导件21被配置为:接收超声波,并传导至所述抛光液发泡空间11内,使所述抛光液在超声波作用下空泡化。所述永磁场抑溃单元3包括:第一永磁组31和第二永磁组32,所述第一永磁组31设置于所述抛光液发泡空间11外壁且位于所述超声波传导件21下方,所述第一永磁组31被配置为将所述超声波传导件21周围的空泡化的所述抛光液向远离所述超声波传导件21方向牵引。所述第二永磁组32设置于所述抛光液发泡空间11外壁且位于所述喷嘴12上方,所述第二永磁组32被配置为将所述抛光液发泡空间11内的空泡化的所述抛光液向所述喷嘴12方向牵引。
在一些实施例中,所述金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置还包括机械手臂4,所述机械手臂4末端与所述液体喷射抛光单元1固定连接,所述机械手臂4被配置为调整所述液体喷射抛光单元1的喷嘴12喷射抛光液的位置和方向。
在一些示例中,一种金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置可以包括:机械手臂4和工具头,机械手臂4可以是六自由度机械手,机械手臂4底座与地面相对固定,机械手臂4末端可以固定工具头。其中,工具头可以包括工具头外壳51,工具头外壳51与机械手臂4末端固定连接,工具头还包括液体喷射抛光单元1,液体喷射抛光单元1固定于工具头外壳51下方,即液体喷射抛光单元1可以被机械手臂4操纵在空间中的位置和角度。
液体喷射抛光单元1至少包括:抛光液发泡空间11和喷嘴12,抛光液发泡空间11相对工具头固定,在抛光液发泡空间11下方设置喷嘴12,也就是说,机械手臂4可以通过控制喷嘴12在空间中的位置以及喷嘴12的喷射抛光液的角度,如此,可以适应复杂零件,实现从不同位置、不同角度向待抛光零件喷射抛光液的目的。
在抛光液发泡空间11中具有超声波传导件21,超声波传导件21可以将接收超声波并传导至抛光液发泡空间11内,抛光液在超声波作用下泡沫化。
在本申请中,抛光液含有纳米磁性颗粒。抛光液经过发泡填充抛光液发泡空间11内,在抛光液发泡空间11外壁且位于所述超声波传导件21下方设置有第一永磁组31,在磁场作用下,第一永磁组31可以对泡沫化的抛光液向下牵引,使超声波传导件21附近的泡沫化的抛光液受到向下的拉扯作用,如此可以提升抛光液的泡沫化速度、加大泡沫直径以及避免抛光液泡沫坍塌溃灭。在所述抛光液发泡空间11外壁且位于所述喷嘴12上方设置第二永磁组32,在磁场作用下,可以将抛光液发泡空间11内泡沫化的抛光液向下牵引,即泡沫化的抛光液向喷嘴12方向移动,可以使泡沫化的抛光液不断挤压至喷嘴12,进而将空化泡在喷嘴12处不断挤压和溃灭,使喷嘴12处产生更高的空化射流能量。
在一些实施例中,如图1至图3所示,所述抛光液发泡空间11包括:锥形壳体111、振动架112。其中,锥形壳体111的上下两端开口,且下端开口直径小于上端开口直径,所述喷嘴12固定于所述锥形壳体111的下端开口内。振动架112为阶梯状板件,所述振动架112包括:上阶梯板113和下阶梯板114,所述上阶梯板113固定于所述下阶梯板114上方,且所述上阶梯板113在所述下阶梯板114上的正投影,位于所述下阶梯板114的中部,所述振动架112固定于所述锥形壳体111的上端开口内,且所述振动架112、锥形壳体111之间形成的空间为所述抛光液发泡空间11。
在一些示例中,工具头外壳51下部可以设置有开口,振动架112边缘与工具头外壳51下部开口固定连接,其中,工具头外壳51和振动架112组成工具头空间。工具头外壳51下方固定有锥形壳体111,锥形壳体111可以是圆锥壳体,可以理解的是,锥形壳体111同时与振动架112组成的空间为抛光液发泡空间11。
其中,超声波传导件21可以设置于工具头空间内,并贯穿振动架112延伸至抛光液发泡空间11中,另一方面,为使抛光液在抛光液发泡空间11内均匀填充,供应抛光液的上级设备可以贯穿振动架112中部,将抛光液添加至抛光液发泡空间11内。
在本申请中,为使抛光液可以经过超声波场,因此,抛光液的上级设备的出口端应高于超声波传导件21的末端。振动架112可以包括上阶梯板113和下阶梯板114,也就是说,供应抛光液的上级设备可以贯穿上阶梯板113向抛光液发泡空间11填充抛光液,而超声波传导件21的末端可以贯穿振动架112除上阶梯板113之外的其它位置,如此确保抛光液的上级设备的出口端应高于超声波传导件21的末端。
在一些实施例中,所述上阶梯板113和下阶梯板114之间通过倾斜面连接。所述超声波传导件21与超声波发生器6连接,所述超声波传导件包括:压电换能器211和变幅杆212。其中,多组所述压电换能器211与所述超声波发生器6连接。每组压电换能器211与对应的所述变幅杆212固定连接,且所述变幅杆212贯穿所述倾斜面,所述变幅杆212的下端面位于所述抛光液发泡空间11内。
在一些示例中,上阶梯板113可以是圆形板材,下阶梯板114可以是环形板材,上阶梯板113设置于下阶梯板114的内圈上方,且上阶梯板113和下阶梯板114通过板材固定连接。可以理解的是,下阶梯板114的边缘与工具头外壳51、锥形壳体111固定连接;超声波传导件可以固定于下阶梯板114或上阶梯板113、下阶梯板114之间的板材上,超声波发生器6可以设置于机械手臂4一侧,超声波发生器6与超声波传导件21可以通过钢丝软轴连接,具体地,超声波发生器6可以通过钢丝软轴与多个压电换能器211并接,即钢丝软轴一端仅一个端头,与超声波发生器6连接,另一端具有多个端头,多个端头一一对应地于多个压电换能器211连接,实现超声波的传递。
为使多个变幅杆212在抛光液发泡空间11内形成的超声场可以聚焦于喷嘴12上方,以对喷嘴12上方的抛光液高效发泡,可以使上阶梯板113、下阶梯板114之间的板材倾斜设置,多个变幅杆212设置于上阶梯板113、下阶梯板114之间的板材上,如此多个变幅杆212倾斜设置,使抛光液发泡空间11内形成的超声场聚焦于喷嘴12上方。
在一些实施例中,如图4所示,三组所述压电换能器211和三个所述变幅杆212一一对应连接。且自三个所述变幅杆212的下端,以其轴向延伸后的交点位于所述抛光液发泡空间11内,所述交点和三个所述变幅杆212的上端点处于正四面体的顶点处。
在一些示例中,根据惠更斯原理,每组压电换能器211和变幅杆212产生超声场可以通过如下公式表示:
式中,为声源到点波源的距离,/>为点波源的面积,/>为超声波角频率,/>为波数,为初始声压幅值。
当将三个变幅杆212沿着正四面体的三条棱边一一对应的布置,且三个变幅杆212的轴向延伸相交为一点的前提下,超声场可以通过如下公式表示:
需要解释的是,在本申请中,点波源具体指:三个所述变幅杆212的下端以其轴向延伸后形成的交点位置处。0.816r是指:三个声源所在平面距离点波源的距离。
即通过上述布置方式,在压电换能器211与变幅杆212不改变其机械结构下的前提下,可以将超声场量值提升至1.225倍。同时变幅杆212的轴向延伸方向相交点即是超声场聚焦点,且通过控制变幅杆212的安装角度和位置可以使超声场聚焦点位于喷嘴12正上方,如此使超声波场能够最大效率地对抛光液发泡空间内的抛光液发泡化。
在一些实施例中,如图1、图5和图6所示,所述第一永磁组31包括多个第一永磁体,所述多个第一永磁体沿所述锥形壳体111的外侧壁上部均匀布置;所述第二永磁组32包括多个第二永磁体,所述多个第二永磁体沿所述锥形壳体111的外侧壁下部均匀布置。
在一些示例中,锥形壳体111外部还设置有磁屏蔽外壳115,磁屏蔽外壳115与锥形壳体111形成永磁体安装空间,第一永磁组31和第二永磁组32设置于永磁体安装空间内,其中,第一永磁组31设置于第二永磁组32上方。第一永磁组31中的多个第一永磁体在永磁体安装空间内均匀布置,第一永磁体可以将N级贴合锥形壳体111外表面。第二永磁组32中的多个第二永磁体在永磁体安装空间内均匀布置,第二永磁体可以将S级贴合锥形壳体111外表面。
在一些示例中,第一永磁体或第二永磁体可以是一个完整永磁体,或者是多个永磁体吸合后组成,多个永磁体吸合后组成的第一永磁体或第二永磁体可以通过永磁体数量来控制在抛光液发泡空间11中磁场强度,具体地,在抛光液发泡空间11中心的磁场强度间于10mT~100mT。
在一些实施例中,如图1所示,所述喷嘴12下方还设置有工作台7,工作台7上端面为工作台面,所述工作台7上部固定有载物台71,所述工作台面下方设置有抛光液收集腔72,所述抛光液收集腔72贯穿所述工作台面与外界连通。
在一些示例中,工作台7与地面固定连接,工作台7上方设置载物台71,载物台71可以是夹具,载物台71用于固定待抛光的零件。工作台7内设置有抛光液收集腔72,即抛光液收集腔72位于工作台面下方,且抛光液收集腔72贯穿工作台面与外界连通,便于抛光液自工作台面流入抛光液收集腔72内。
在一些实施例中,所述供应抛光液的上级设备包括:混合室73、输送管路74和真空泵75;其中,所述混合室73内设置有搅拌机构。输送管路74一端与所述混合室73连通,另一端与所述抛光液发泡空间11连通。真空泵75设置于所述输送管路74上。
在一些示例中,供应抛光液的上级设备的混合室73可以设置于机械手臂4或工作台7一侧,或者设置于工作台7内。混合室73内填充磨料和基液,并在混合室73内经过充分混合为抛光液。
混合室73的下部与输送管路74的一端连通,输送管路74的另一端与注液管连通,其中,输送管路74上设置真空泵75,真空泵75可以是负压真空泵75,真空泵75可以设置于工具头外壳51内,输送管路74可以采用柔性软管,便于跟随工具头移动。
在一些实施例中,所述搅拌机构包括:电机76、主轴77、从动齿轮78;其中,所述主轴77主体设置于所述混合室73内,且与所述混合室73的侧壁通过轴承连接,所述主轴77与所述电机76输出轴通过带传动连接。所述主轴77上固定有主动锥齿轮,所述从动齿轮78为锥齿轮,所述从动齿轮78与所述主动锥齿轮啮合,所述从动齿轮78远离所述主轴77的一侧固定有搅拌叶片79,且所述从动齿轮78和所述搅拌叶片79之间通过中轴连接。
在一些示例中,搅拌机构还包括固定杆710和行星架711,固定杆710可以与主轴77同轴设置,且固定杆710一端固定于混合室73的侧壁上。行星架711可以固定于固定杆710上,行星架711的另一端可以与从动齿轮78活动连接。示例性地,行星架711可以是L形结构,即行星架711的一端与固定杆710固定连接,行星架711的另一端与从动齿轮78活动连接,从动齿轮78可以与主动锥齿轮啮合,当电机76驱动主轴77转动时,可以驱动从动齿轮78转动,进而驱动搅拌叶片79旋转。
在另一些示例中,搅拌机构还包括固定杆710和行星架711,固定杆710可以与主轴77同轴设置,且固定杆710一端固定于混合室73的侧壁上。行星架711可以是U形结构,即行星架711的中部与固定杆710固定连接,行星架711的两端均设置有一个从动齿轮78,且两个从动齿轮78可以与主动锥齿轮啮合,当电机76驱动主轴77转动时,可以驱动从动齿轮78转动,进而驱动两个搅拌叶片79旋转。
在又一些示例中,搅拌机构还包括固定杆710和行星架711,固定杆710可以与主轴77同轴设置,且固定杆710一端固定于混合室73的侧壁上,固定杆710的另一端固定有定锥齿轮。行星架711可以是U形结构,即行星架711的中部与固定杆710活动连接,即行星架711可以绕固定杆710旋转,行星架711的两端均设置有一个从动齿轮78,且两个从动齿轮78可以与主动锥齿轮、定锥齿轮啮合,当电机76驱动主轴77转动时,可以驱动从动齿轮78转动,进而驱动两个搅拌叶片79旋转。
电机76驱动主轴77转动时,主动锥齿轮驱动从动齿轮78转动,同时从动齿轮78在定锥齿轮的作用下,实现从动齿轮78自转的同时绕固定轴的轴向转动,即搅拌叶片79可以绕主轴77的轴向旋转,同时绕其中心线转动,实现对混合室73内的磨料和基液充分混合的目的。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,包括:
液体喷射抛光单元,所述液体喷射抛光单元至少包括:抛光液发泡空间和喷嘴,所述抛光液发泡空间与供应抛光液的上级设备连通,所述喷嘴固定于所述抛光液发泡空间下方,且所述喷嘴与所述抛光液发泡空间连通;
超声场聚焦单元,所述超声场聚焦单元至少包括超声波传导件,所述超声波传导件的部分结构设置于所述抛光液发泡空间中,所述超声波传导件被配置为:接收超声波,并传导至所述抛光液发泡空间内,使所述抛光液在超声波作用下空泡化;
永磁场抑溃单元,所述永磁场抑溃单元包括:第一永磁组和第二永磁组,所述第一永磁组设置于所述抛光液发泡空间外壁且位于所述超声波传导件下方,所述第一永磁组被配置为将所述超声波传导件周围的空泡化的所述抛光液向远离所述超声波传导件方向牵引;所述第二永磁组设置于所述抛光液发泡空间外壁且位于所述喷嘴上方,所述第二永磁组被配置为将所述抛光液发泡空间内的空泡化的所述抛光液向所述喷嘴方向牵引。
2.根据权利要求1所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述抛光液发泡空间包括:
锥形壳体,上下两端开口,且下端开口直径小于上端开口直径,所述喷嘴固定于所述锥形壳体的下端开口内;
振动架,阶梯状板件,所述振动架包括:上阶梯板和下阶梯板,所述上阶梯板固定于所述下阶梯板上方,且所述上阶梯板在所述下阶梯板上的正投影,位于所述下阶梯板的中部,所述振动架固定于所述锥形壳体的上端开口内,且所述振动架、锥形壳体之间形成的空间为所述抛光液发泡空间。
3.根据权利要求2所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述上阶梯板和下阶梯板之间通过倾斜面连接;
所述超声波传导件与超声波发生器连接,所述超声波传导器包括:
压电换能器,多组所述压电换能器与所述超声波发生器连接,
变幅杆,每组压电换能器与对应的所述变幅杆固定连接,且所述变幅杆贯穿所述倾斜面,所述变幅杆的下端面位于所述抛光液发泡空间内。
4.根据权利要求3所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,三组所述压电换能器和三个所述变幅杆一一对应连接;
且自三个所述变幅杆的下端,以其轴向延伸后的交点位于所述抛光液发泡空间内,所述交点和三个所述变幅杆的上端点处于正四面体的顶点处。
5.根据权利要求2或3所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述第一永磁组包括多个第一永磁体,所述多个第一永磁体沿所述锥形壳体的外侧壁上部均匀布置;
所述第二永磁组包括多个第二永磁体,所述多个第二永磁体沿所述锥形壳体的外侧壁下部均匀布置。
6.根据权利要求1所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述供应抛光液的上级设备包括:
混合室,所述混合室内设置有搅拌机构;
输送管路,一端与所述混合室连通,另一端与所述抛光液发泡空间连通;
真空泵,设置于所述输送管路上。
7.根据权利要求1所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述喷嘴下方还设置有工作台,工作台上端面为工作台面,所述工作台上部固定有载物台,所述工作台面下方设置有抛光液收集腔,所述抛光液收集腔贯穿所述工作台面与外界连通。
8.根据权利要求1所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置还包括机械手臂,所述机械手臂末端与所述液体喷射抛光单元固定连接,所述机械手臂被配置为调整所述液体喷射抛光单元的喷嘴喷射抛光液的位置和方向。
9.根据权利要求6所述的金属增材制造零件声磁耦合场辅助液体喷射抛光装置,其特征在于,所述搅拌机构包括:
电机,
主轴,所述主轴主体设置于所述混合室内,且与所述混合室的侧壁通过轴承连接,所述主轴与所述电机输出轴连接;
从动齿轮,所述主轴上固定有主动锥齿轮,所述从动齿轮为锥齿轮,所述从动齿轮与所述主动锥齿轮啮合,所述从动齿轮远离所述主轴的一侧设置有搅拌叶片,且所述从动齿轮和所述搅拌叶片之间通过中轴连接。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005018469A1 (en) * 2003-08-14 2005-03-03 Duke University Apparatus for improved shock-wave lithotripsy (swl) using a piezoelectric annular array (peaa) shock-wave generator in combination with a primary shock wave
JP2010253639A (ja) * 2009-04-27 2010-11-11 Tokyo Univ Of Science 表面加工装置
CN102962776A (zh) * 2012-12-17 2013-03-13 北京理工大学 电场致流变射流抛光装置
CN104858726A (zh) * 2015-01-23 2015-08-26 嘉兴学院 磁控作用下双频声空化纳米流体超精抛光装置及抛光方法
CN108381305A (zh) * 2018-03-08 2018-08-10 天津大学 一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统
CN109531431A (zh) * 2019-01-14 2019-03-29 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种磁流变抛光液的循环装置
CN111941158A (zh) * 2020-08-18 2020-11-17 南京航空航天大学 一种应用于研抛的径向振动换能器
CN112059924A (zh) * 2020-09-18 2020-12-11 香港理工大学 一种流体线射流抛光装置及其应用方法
CN112157596A (zh) * 2020-09-10 2021-01-01 太原理工大学 声磁耦合空化辅助液体喷射抛光装置及使用方法
US20220161387A1 (en) * 2019-04-12 2022-05-26 Rolls-Royce Plc A method and apparatus for finishing a surface of a component
CN114952635A (zh) * 2022-05-30 2022-08-30 西南交通大学 超声空化辅助淹没脉动气射流抛光系统

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005018469A1 (en) * 2003-08-14 2005-03-03 Duke University Apparatus for improved shock-wave lithotripsy (swl) using a piezoelectric annular array (peaa) shock-wave generator in combination with a primary shock wave
JP2010253639A (ja) * 2009-04-27 2010-11-11 Tokyo Univ Of Science 表面加工装置
CN102962776A (zh) * 2012-12-17 2013-03-13 北京理工大学 电场致流变射流抛光装置
CN104858726A (zh) * 2015-01-23 2015-08-26 嘉兴学院 磁控作用下双频声空化纳米流体超精抛光装置及抛光方法
CN108381305A (zh) * 2018-03-08 2018-08-10 天津大学 一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统
CN109531431A (zh) * 2019-01-14 2019-03-29 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种磁流变抛光液的循环装置
US20220161387A1 (en) * 2019-04-12 2022-05-26 Rolls-Royce Plc A method and apparatus for finishing a surface of a component
CN111941158A (zh) * 2020-08-18 2020-11-17 南京航空航天大学 一种应用于研抛的径向振动换能器
CN112157596A (zh) * 2020-09-10 2021-01-01 太原理工大学 声磁耦合空化辅助液体喷射抛光装置及使用方法
CN112059924A (zh) * 2020-09-18 2020-12-11 香港理工大学 一种流体线射流抛光装置及其应用方法
CN114952635A (zh) * 2022-05-30 2022-08-30 西南交通大学 超声空化辅助淹没脉动气射流抛光系统

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
刘竞: "超声磁场空化辅助液体喷射抛光装置设计及实验研究", 中国优秀硕士学位论文全文数据库工程科技Ⅰ辑, pages 17 - 59 *
郭策等: "磁流变抛光液制备过程中的气泡动力学模型", 太原理工大学学报, vol. 53, no. 03, pages 531 - 537 *

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