CN117270327A - 一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 - Google Patents
一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117270327A CN117270327A CN202311100405.8A CN202311100405A CN117270327A CN 117270327 A CN117270327 A CN 117270327A CN 202311100405 A CN202311100405 A CN 202311100405A CN 117270327 A CN117270327 A CN 117270327A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light valve
- grating light
- glv
- grating
- femtosecond laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 27
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 14
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 12
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 18
- 101100068890 Arabidopsis thaliana GLV6 gene Proteins 0.000 description 30
- 101100068887 Arabidopsis thaliana GLV3 gene Proteins 0.000 description 24
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 1
- 108010001267 Protein Subunits Proteins 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
Abstract
本发明涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法，所述装置包括按光路依次设置的飞秒激光光源、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦置样品处进行扫描刻写。与现有技术相比，本发明具有兼具高效率、任意复杂结构及灰度结构灵活刻写的优点。
Description
技术领域
本发明涉及微纳光学及光学元件加工制造技术领域，尤其是涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法。
背景技术
基于数字微镜阵列(Digital Micromirror Devices,DMD)或空间光调制器件(Spatial Light Modulator,SLM)的飞秒激光面曝光刻写方式具有较高的刻写通量。
但面曝光因为均匀性差等原因，在大面积曝光的时候只能实现微米量级的刻写精度，高精度和高通量刻写往往难以同时兼顾。
目前的刻写方式在灰度刻写功能上均存在不足，Nanoscribe最新推出的QuantumX无掩模光刻系统是目前世界上第一个双光子灰度光刻系统，该系统通过调节刻写光束的激光功率来实现灰度刻写，但只采用一束光，刻写效率较低。
因此，亟需设计一种兼具高效率和灰度刻写能力的飞秒激光直写装置及方法。
发明内容
本发明的目的就是为了提供一种兼具高效率和灰度刻写能力的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：
根据本发明的第一方面，提供了一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，包括按光路依次设置的飞秒激光光源、光斑整形系统、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；
所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦至样品处进行扫描刻写。
优选地，所述4F光学系统包括光学参数一致且沿光路依次设置的第一透镜和第二透镜，用以对第一光栅光阀GLV和第二光栅光阀GLV的角色散进行互补；
所述第一光栅光阀GLV和第二光栅光阀GLV的表面分别位于第一透镜和第二透镜的焦面，结构和光路均关于第一透镜和第二透镜的中线对称；
不同波长从所述第一光栅光阀GLV以不同角度出射后，到第二光栅光阀GLV重新汇聚，以相同角度从第二光栅光阀GLV出射为无角色散飞秒激光。
优选地，所述第一光栅光阀GLV和第二光栅光阀GLV参数一致，且具有衍射光栅属性；所述第一光栅光阀GLV和第二光栅光阀GLV均包括多个周期排列成线性阵列的相同单元，每个单元包括多个与周期排列方向垂直排布的条状结构，所述条状结构分为固定条和可动条，所述可动条向下位移时，对应单元处于衍射状态。
优选地，所述第二光栅光阀GLV各单元可独立控制，工作模式包括：
数字工作模式：控制可动条不动或下移设定距离，分别对应一级衍射光的暗状态、衍射光的亮状态；
连续可变的模拟调制工作模式：控制驱动电压使可动条下移距离在设定范围之间连续变化，以控制反射光和一级衍射光的强度比例，进行灰度刻写。
优选地，所述第一光栅光阀GLV的可动条始终处于下移λ/4距离的状态；所述第二光栅光阀GLV在数字工作模式下的可动条下移设定距离为λ/4，连续可变的模拟调制工作模式下的可动条下移距离范围为0～λ/4；其中，λ为激光波长。
优选地，所述光斑整形系统为扩束系统，或任意对光斑强度、形状进行整形的光学器件。
优选地，所述成像系统包括依次沿光路设置的套筒透镜和物镜，将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光经设有的反射镜反射后，依次经过套筒透镜和物镜后聚焦至所述物镜的焦面进行刻写。
根据本发明的第二方面，提供了一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写方法，该方法包括：
搭建所述的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置；
根据实际结构需求，控制第二光栅光阀GLV调控所覆盖子光斑的开关和强度，结合位移台进行飞秒激光直写。
优选地，所述飞秒激光直写包括：
调节第二光栅光阀GLV各单元输出的一级衍射光斑光强一致，进行均匀刻写；
采用第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光进行刻写，通过第二光栅光阀GLV各单元的亮暗状态切换，得到任意结构的线光场分布，进行复杂结构刻写。
优选地，所述飞秒激光直写还包括利用第二光栅光阀GLV的连续可变的模拟调制工作模式进行灰度刻写，具体为：在单次曝光时控制第二光栅光阀GLV各单元输出光强一致，逐次曝光过程中整体切换第二光栅光阀GLV所有单元的调制强度，或在单次曝光时使各单元的灰度不一致。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
本发明结合飞秒激光和光栅光阀GLV进行线曝光扫描刻写，在对飞秒激光入射GLV产生的角色散进行补偿后，通过GLV各单元对覆盖子光斑的高速独立开关，结合位移台的高速扫描，实现复杂结构大面积高速扫描刻写，利用光栅光阀GLV各单元对覆盖子光斑的强度调控，实现大面积高均匀性、高精度快速刻写或高效率灰度曝光。
附图说明
图1为本发明的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置结构示意图；
图2为实施例中的光栅光阀GLV器件的结构示意图；
图3为实施例中的基于两个光栅光阀GLV的角色散互补模块的光路示意图；
图4为实施例中的光栅光阀GLV对光进行相位调制的方法示意图；
图5为实施例中的利用光栅光阀GLV产生结构光场进行复杂结构刻写的示意图；
图6为实施例中的利用光栅光阀进行两种灰度刻写的示意图；
图7为实施例中的利用基于光栅光阀GLV的线扫描刻写装置加工闪耀光栅的方法示意图；
附图标记：1-飞秒激光光源，2-光斑整形系统，3-第一光栅光阀GLV，4-第一透镜，5-第二透镜，6-第二光栅光阀GLV，7-套筒透镜，8-反射镜，9-物镜，10-位移台。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。本实施例以本发明技术方案为前提进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
实施例1
本实施例给出了一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，包括按光路依次设置的飞秒激光光源1、第一光栅光阀GLV3、4F光学系统、第二光栅光阀GLV6、成像系统、以及放置有样本的位移台10；
飞秒激光光源1入射到第一光栅光阀GLV3上，第一光栅光阀GLV3出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV6表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV6出射的一级衍射光聚焦至样品处进行扫描刻写。
进一步地，本实施例中的第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6均为参数一致的二维衍射光栅；第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6均包括多个周期排列成线性阵列的相同单元，每个单元包括多个与周期排列方向垂直排布的条状结构，条状结构分为固定条和可动条，可动条向下位移时，对应单元处于衍射状态。
如图2所示，光栅光阀GLV可能包含上千个子单元，一般1080个单元最为常见，每个单元也称为一个像素，各单元横向周期排布，横向上具有衍射光栅属性，由于光栅光阀GLV每个单元内又包含多个条状结构，该条状结构在竖直(y)方向上平行周期排布，因此光栅光阀GLV在竖直方向上也具有衍射光栅属性。飞秒激光入射将产生角色散，即不同波长出射的角度不一致。
对于第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6的角色散互相补偿模块，如图3所示。飞秒激光入射第一光栅光阀GLV 3后，产生带角色散的一级衍射光，该一级衍射光再依次通过由第一透镜4和第二透镜5组成的4F系统，并随后入射第二光栅光阀GLV 6表面。第一透镜4和第二透镜5相同，第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6相同，第一光栅光阀GLV3和第二光栅光阀GLV 6分别位于第一透镜4和第二透镜5的焦面，第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6关于第一透镜4和第二透镜5的中轴线对称，该模块内的结构和光路也关于该中轴线对称。由光路的可逆性可知，从第二光栅光阀GLV 6出射的飞秒激光必定恢复到入射第一光栅光阀GLV 3前无角色散的状态。
第一透镜4和第二透镜5构成4F光学系统，光学参数一致，用以对第一光栅光阀GLV3和第二光栅光阀GLV 6的角色散进行互补，形成角色散补偿互相模块，具体如图3所示；第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6的表面分别位于第一透镜4和第二透镜5的焦面，结构和光路均关于第一透镜4和第二透镜5的中线对称；不同波长从第一光栅光阀GLV 3以不同角度出射后，到第二光栅光阀GLV 6重新汇聚，以相同角度从第二光栅光阀GLV 6出射为无角色散飞秒激光。
如图4所示，光栅光阀GLV每个单元一般包含数个条状结构中，最常见为6个镀铝条带，3个固定条和3个可动条，两者间隔排布。
对3个可动条施加驱动电压，可使其向下移动。不加电压时可动条处于绷紧状态，下移距离为0，整个单元作为平面反射镜将垂直入射的激光原路反射回去，一级衍射光处于暗状态。对可动条施加驱动电压，使三个交替相间的可动条向下移动，单元表面成为一个相位光栅，各单元处于衍射状态。
套筒透镜8和物镜9形成成像系统，将第二光栅光阀GLV 6出射的一级衍射光经设有的反射镜7反射后，依次经过套筒透镜8和物镜9后聚焦至物镜9的焦面进行刻写。
第二光栅光阀GLV6各单元可独立控制，工作模式包括：
1)数字工作模式：控制可动条不动或下移设定距离，分别对应一级衍射光的暗状态和亮状态；
2)连续可变的模拟调制工作模式：控制驱动电压使可动条下移距离在设定范围之间连续变化，以控制反射光和衍射光的强度比例，进行灰度刻写。
本实施例还给出了一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写方法，该方法包括：
搭建上述的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置；
根据实际结构需求，控制第二光栅光阀GLV 6各单元调控所覆盖子光斑的开关和强度，结合位移台10进行扫描刻写；其中，刻写方式包括：
均匀刻写：调节第二光栅光阀GLV 6各单元输出的一级衍射光斑光强一致，进行均匀刻写；
复杂结构刻写：采用第二光栅光阀GLV 6出射的一级衍射光进行刻写，通过第二光栅光阀GLV 6各单元的亮暗状态切换，得到任意结构的线光场分布，进行复杂结构刻写。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于：第一光栅光阀GLV 3的可动条始终处于下移λ/4距离的状态；第二光栅光阀GLV 6在数字工作模式下的可动条下移设定距离为λ/4，连续可变的模拟调制工作模式下的可动条下移距离范围为0～λ/4；其中，λ为激光波长。
具体推导过程如下：
飞秒激光经第一光栅光阀GLV 3衍射，满足光栅衍射方程：
dG(sinθiG+sinθmG)＝kGλ,kG＝0,±1,±2…
其中，λ为飞秒激光波长，第一光栅光阀GLV 3采用1级衍射光，即kG＝1，第一光栅光阀GLV 3的光栅常数dG和光栅入射角θiG不随波长发生变化，只有衍射角θmG随波长发生变化。
由于飞秒激光包含一定带宽的光谱，不同波长经第一光栅光阀GLV 3后会存在角色散，对光栅衍射方程两边求微分，即：
第二光栅光阀GLV 6衍射方程满足：
dv(sinθiv+sinθmv)＝kvλ,kv＝0,±1,±2…
其中，θiv为光到第二光栅光阀GLV 6的入射角，dv为第二光栅光阀GLV 6的光栅常数dG。
在第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6的角色散互补后，从第二光栅光阀GLV 6出射的飞秒光，其不同波长的出射角一致，即θmv相同，采用第二光栅光阀GLV 6的一级衍射光进行刻写，即kv＝1。
对第二光栅光阀GLV 6衍射方程求微分，即：
第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6的角色散通过第一透镜和第二透镜组成的4F系统实现互补，满足：
即
其中，fL1和fL2分别为第一透镜和第二透镜的焦距，由于fL1＝fL2，dv＝dG，θiG＝θmv，因此两个光栅光阀GLV的角色散必然互补。
在衍射状态下，固定条和可动条反射出来的光波前之间产生相位差，在θ角度产生衍射峰：
θm＝arcsin(mλ/av)
其中，av为可动条之间的距离，λ为激光波长，m为衍射级次，θm为衍射角；
一级衍射光强I1和光栅深度σ的关系为：
可看出，当可动条下移λ/4距离，一级衍射光最强。
为使激光效率最高，本实施例中设置第一光栅光阀GLV 3可动条始终下移λ/4距离，一直处于衍射光最强状态。
第二光栅光阀GLV 6各单元处于以下两种工作模式：
1)数字工作模式，即可动条下移距离只能为0和λ/4，分别对应于一级衍射光的暗和亮状态。由于采用一级衍射光进行刻写，且各单元独立控制，因此可得到任意图形的光场结构分布，结合光栅光阀GLV的超高响应速度，可快速切换光场结构，配合位移台扫描，可用于大面积复杂结构的灵活加工。如图5所示，加工一个中空“回字形”结构，在扫过“回”字左侧外围的实心区域时，第二光栅光阀GLV所有单元将一级衍射光调至最亮状态，对应产生一维连续线光场，在扫过“回”字中间的空心区域时，第二光栅光阀GLV中间对应单元将一级衍射光调至暗态，使“回”字中间空心区域不被光场覆盖。
2)连续可变的模拟调制工作模式，可动条下移距离精确控制在0至λ/4之间，从而控制反射光和一级衍射光的强度比例，即使一级衍射光的强度连续可调。由于飞秒激光光源本身呈高斯分布，因此扩束后一维线光场的强度在空间分布上仍存在差异，通过模拟调制模式使各单元所出射的一级衍射光强一致，得到高均匀性分布的线光场，可提升刻写结构的均匀性和精度；
此外，连续可变的模拟调制工作模式还可根据加工需求，实现灰度刻写。如图6所示，在进行灰度刻写时，可以在每个x位置控制各单元输出光强均匀分布的线光场，在x维度上扫描，逐次曝光过程中切换所有单元的调制强度，使下一x位置的线光场整体切换到另一强度，该方法尤其适用于加工如图7所示的闪耀光栅结构；也可以在每个x位置曝光时，就使各单元出射的一级衍射光强度不一致，即在z维度上具有任意设计的光强分布，可同时实现x方向和z方向的灰度刻写，本装置在实现灰度刻写过程中具有极高的调制灵活度。
实施例3
本实施例与实施例1的区别在于：本实施例的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置中还包括光斑整形系统2，设置在飞秒激光光源1和第一光栅光阀GLV 3之间。
一般飞秒激光光源为强度高斯分布的圆形轮廓(口径小时，类似于点状)激光，较难覆盖GLV长线性窗口的结构，须对初始的飞秒激光光源进行整形。
进一步地，本实施例中的光斑整形系统2可为扩束系统，或任意对光斑强度、形状进行整形的光学器件；对于扩束系统，如由两个圆柱透镜组合而成的4F系统，对入射飞秒激光高斯光束进行扩束，以有效利用第一光栅光阀GLV 3和第二光栅光阀GLV 6的窗口。
飞秒激光光源1经过光斑整形系统2进行整形，即视情况而定对光斑进行一维扩束、强度匀化、光斑轮廓整形等，整形后的光斑入射到第一光栅光阀GLV 3上，该第一光栅光阀GLV 3用于预补偿第二光栅光阀GLV6的角色散。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，包括按光路依次设置的飞秒激光光源(1)、光斑整形系统(2)、第一光栅光阀GLV(3)、4F光学系统、第二光栅光阀GLV(6)、成像系统、以及放置有样本的位移台(10)；
所述飞秒激光光源(1)入射到第一光栅光阀GLV(3)上，第一光栅光阀GLV(3)出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV(6)表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV(6)出射的一级衍射光聚焦至样品处进行扫描刻写。
2.根据权利要求1所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述4F光学系统包括光学参数一致且沿光路依次设置的第一透镜(4)和第二透镜(5)，用以对第一光栅光阀GLV(3)和第二光栅光阀GLV(6)的角色散进行互补；
所述第一光栅光阀GLV(3)和第二光栅光阀GLV(6)的表面分别位于第一透镜(4)和第二透镜(5)的焦面，结构和光路均关于第一透镜(4)和第二透镜(5)的中线对称；
不同波长从所述第一光栅光阀GLV(3)以不同角度出射后，到第二光栅光阀GLV(6)重新汇聚，以相同角度从第二光栅光阀GLV(6)出射为无角色散飞秒激光。
3.根据权利要求1所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述第一光栅光阀GLV(3)和第二光栅光阀GLV(6)参数一致，且具有衍射光栅属性；所述第一光栅光阀GLV(3)和第二光栅光阀GLV(6)均包括多个周期排列成线性阵列的相同单元，每个单元包括多个与周期排列方向垂直排布的条状结构，所述条状结构分为固定条和可动条，所述可动条向下位移时，对应单元处于衍射状态。
4.根据权利要求3所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述第二光栅光阀GLV(6)各单元可独立控制，工作模式包括：
数字工作模式：控制可动条不动或下移设定距离，分别对应一级衍射光的暗状态、衍射光的亮状态；
连续可变的模拟调制工作模式：控制驱动电压使可动条下移距离在设定范围之间连续变化，以控制反射光和一级衍射光的强度比例，进行灰度刻写。
5.根据权利要求4所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述第一光栅光阀GLV(3)的可动条始终处于下移λ/4距离的状态；所述第二光栅光阀GLV(6)在数字工作模式下的可动条下移设定距离为λ/4，连续可变的模拟调制工作模式下的可动条下移距离范围为0～λ/4；其中，λ为激光波长。
6.根据权利要求1所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述光斑整形系统(2)为扩束系统，或任意对光斑强度、形状进行整形的光学器件。
7.根据权利要求1所述的一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置，其特征在于，所述成像系统包括依次沿光路设置的套筒透镜(8)和物镜(9)，将第二光栅光阀GLV(6)出射的一级衍射光经设有的反射镜(7)反射后，依次经过套筒透镜(8)和物镜(9)后聚焦至所述物镜(9)的焦面进行刻写。
8.一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写方法，其特征在于，该方法包括：
搭建如权利要求4所述的基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置；
根据实际结构需求，控制第二光栅光阀GLV(6)调控所覆盖子光斑的开关和强度，结合位移台(10)进行飞秒激光直写。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述飞秒激光直写包括：
调节第二光栅光阀GLV(6)各单元输出的一级衍射光斑光强一致，进行均匀刻写；
采用第二光栅光阀GLV(6)出射的一级衍射光进行刻写，通过第二光栅光阀GLV(6)各单元的亮暗状态切换，得到任意结构的线光场分布，进行复杂结构刻写。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述飞秒激光直写还包括利用第二光栅光阀GLV(6)的连续可变的模拟调制工作模式进行灰度刻写，具体为：在单次曝光时控制第二光栅光阀GLV(6)各单元输出光强一致，逐次曝光过程中整体切换第二光栅光阀GLV(6)所有单元的调制强度，或在单次曝光时使各单元的灰度不一致。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311100405.8A CN117270327A (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311100405.8A CN117270327A (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117270327A true CN117270327A (zh) | 2023-12-22 |
Family
ID=89201748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202311100405.8A Pending CN117270327A (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117270327A (zh) |
-
2023
- 2023-08-30 CN CN202311100405.8A patent/CN117270327A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6741768B2 (en) | Optical switch | |
| KR20200127976A (ko) | 직접적인 레이저 간섭 구조를 위한 광학 배열 | |
| US20220376461A1 (en) | Device, laser system and method for combining coherent laser beams | |
| US5392157A (en) | Line-of-sight steering system for high power laser beams and method using same | |
| WO2003010588A1 (en) | Diffractive shaping of the intensity distribution of a spatially partially coherent light beam | |
| US11067953B2 (en) | Apparatus and method for generating an optical pattern from image points in an image plane | |
| US20210237199A1 (en) | Adaptive Laser Beam Shaping | |
| CN113960892A (zh) | 可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置 | |
| US9036262B2 (en) | Beam shaping and control apparatus | |
| CN113568279B (zh) | 基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统 | |
| CN108227063B (zh) | 一种集成偏振光栅制备系统及方法 | |
| CN113985708A (zh) | 可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置 | |
| CN117270327A (zh) | 一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法 | |
| US20220360036A1 (en) | Apparatus, laser system and method for combining coherent laser beams | |
| CN113267899B (zh) | 一种一次产生多个同轴轨道轨道角动量态的方法 | |
| KR20170012446A (ko) | 회절 소자에 의한 초단 레이저 펄스들의 공간 재결합을 위한 시스템 | |
| CN113059807B (zh) | 基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置 | |
| US20230069985A1 (en) | Variable-pulse-width flat-top laser device and operating method therefor | |
| CN210281088U (zh) | 一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统 | |
| CN210690999U (zh) | 具有相位补偿功能的图案化液晶光取向装置 | |
| US10921582B2 (en) | Apparatus for deflecting and/or modulating laser radiation | |
| CN116685434A (zh) | 用于激光射束的射束影响的设备 | |
| CN111596464B (zh) | 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法 | |
| CN114019763B (zh) | 一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置 | |
| CN117031884A (zh) | 基于飞秒激光时空同步聚焦的线光场扫描刻写装置和方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |