CN116968199B - 用于晶圆切割的气浮转台 - Google Patents

Abstract

本发明公开了用于晶圆切割的气浮转台，属于精密加工技术领域，本气浮转台包括气浮轴及套设于气浮轴外的气浮套，气浮套的表面配置有出气孔，多个出气孔与气浮轴的外壁相对设置，气浮套的内部配置有第一导气通道，出气孔与第一导气通道相连通；气浮套的外部配置有辅助导气结构，辅助导气结构的内部设有第二导气通道，第二导气通道的出口端与气浮轴的外表面相对设置；第一导气通道、第二导气通道均与外部气泵连接。本发明可以实现气浮轴及其他部件稳定升降，保证工作精度并延长使用寿命。

Description

用于晶圆切割的气浮转台

技术领域

本发明属于精密加工技术领域，具体涉及一种用于晶圆切割的气浮转台。

背景技术

在对工件进行加工的过程中，通常需要利用转台来带动工件转动，在精密数控机床以及精密计量仪器中，需要实现纳米级的回转运动。气浮转台的技术越来越成熟，被广泛的运用于高精度测量和加工技术领域。气浮转台通过向轴承腔内导入空气并利用轴承腔内高压空气的冲击力将气浮轴撑起，具有高精度、高转速、无摩擦且无需润滑、无噪音、速度控制性能卓越等优点。

公开号为US4076339A的发明专利涉及一种改进的空气轴承组件，用于将机器的旋转台可旋转地支撑在固定的基座上。轴承组件包括具有上表面和下表面的固定环形轴承构件。上表面具有大于下表面的表面积。可旋转的环形轴承构件被定位成与固定轴承构件成嵌套和旋转关系。可旋转的轴承构件具有上表面和下表面，下表面具有比上表面更大的表面积。轴承构件可操作地定位并容纳在设置在基座和可旋转工作台之间的空间中。空气管道被设置用于在可旋转构件和基座之间施加加压空气，使得空气压力的力向上提升可旋转的轴承构件，由此在可旋转的轴承构件的上表面之间限定空气轴承，承载构件强制地向上抵靠在可旋转工作台的下表面上，同时在提升时与其一起移动。空气管道还设置在固定环形构件中，用于在固定环形构件的上表面和旋转工作台之间连通加压空气，使得空气压力限定了工作台和固定环形轴承构件之间的空气轴承。

授权号为CN102011918B的发明专利涉及一种高精度直驱式气浮转台，包括：支撑座、吊环螺钉、手柄、密封环、轴向节流器、径向节流器、安装基座、径向轴承外圈、O形橡胶密封圈I、气浮面组件、O形橡胶密封圈II、压块、电机安装座、插头座、插头I、插头II、力矩电机定子、力矩电机转子、小压圈、光栅盘、读数头、读数头支架、压盖、封板和大压圈；该转台分度精度高，解决了大负载情况下的精确分度问题。

目前市面上存在的气浮转台在使用结束后立刻停止向轴承腔内供气，致使气浮转台停止工作时主轴迅速降落，容易对内部零件造成损坏，影响气浮转台的工作精度并降低气浮轴等气浮升降部件的寿命。此外，现有的气浮转台，存在平台端面跳动与径向跳动受轴承局限的问题，无法做到更高精度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于晶圆切割的气浮转台，可以实现气浮轴及其他部件稳定升降，提高气浮轴运作过程中的同轴度，保证工作精度并延长使用寿命。

本发明为实现上述目的所采取的技术方案为：

用于晶圆切割的气浮转台，包括气浮轴及套设于气浮轴外部的气浮套，

气浮套的表面配置有出气孔，多个出气孔与气浮轴的外壁相对设置，气浮套的内部配置有第一导气通道，多个出气孔均与第一导气通道相连通；

气浮套的外部配置有辅助导气结构，辅助导气结构的内部设有第二导气通道，第二导气通道的出口端配置有出气组件，出气组件与气浮轴的外表面相对设置；第一导气通道、第二导气通道均与外部气泵连接。

具体的，气浮轴的顶端配置有凸缘，凸缘与气浮轴的上端面活动配合。在第一导气通道内部不充气的情况下，气浮轴处于初始位置，凸缘的下端面能够与气浮套的上端面抵接；第一导气通道内部充气后，气浮轴相对于气浮套向上悬浮，凸缘的下端面脱落气浮套的上端面。与第一导气通道向连通的多个出气孔中，部分出气孔与凸缘的下端面相对设置，部分出气孔与套设在气浮套内部的气浮轴的侧壁相对设置。

采用上述技术方案，通过辅助导气结构利用气流对气浮轴的浮动起到平稳效果。来自外部气泵的部分气流通过第一导气通道后经由出气孔排出，作用于气浮轴的侧壁以及凸缘的下端面，促使气浮轴向上悬浮。来自外部气泵的另一部分气流通过第二导气通道后从其出气端排出，作用于气浮轴凸缘的外侧壁以及上端面，从而利用该部分气流对气浮轴的侧面以及上表面起到吹气稳定的效果。

根据本发明的一种实施方式，辅助导气结构包括环形件和延伸件，延伸件的一端与环形件相连，环形件套设在气浮套的外侧，多个延伸件环绕布设在气浮轴的外部，并且延伸件由环形件向气浮轴的顶部延伸。

第二导气通道包括设于环形件内部的第一导气槽与设于延伸件内部的第二导气槽，第一导气槽与第二导气槽相连通，外部气泵与第一导气槽相连，第二导气通道的出口端与第二导气槽相连，并且第二导气通道的出口端与气浮轴的侧面或顶面相对设置。

由此，利用圆周阵列分布的多个延伸件可将第二导气槽内部的气流均匀的分散到气浮轴顶部凸缘的外侧壁以及顶面，从而保证气浮轴受力平衡，有助于保证气浮轴在上浮过程中的稳定性，并可防止处于悬浮状态的气浮轴出现倾斜，避免运作过程中因气浮轴端面不稳而影响加工精度。

根据本发明的一种实施方式，第二导气通道的出口端配置有出气组件，出气组件包括壳体，壳体的进气端与第二导气通道相连，壳体的出气端与气浮轴的外壁相对设置。

壳体的进气端配置有过滤件，壳体的出气端配置有引流件，过滤件与引流件之间配置有导流板，导流板的外缘朝向引流件弯曲设置。

由此，经由第二导气通道吹向气浮轴顶部凸缘的气流要先经过过滤件的过滤才能排出，从而能够除去气流中的尘粒等杂质，避免因气流洁净度而影响气浮转台的精度，防止气浮转台内部结构出现积尘，从而保证气浮转台的正常运作。而经过过滤件排出的气流经过导流板的弧形表面引导，可在脱离壳体出口端时向四周流动，有助于扩大气浮轴的受力表面积，可防止气浮轴因单侧受力过重或因多位点受力不平衡而导致的端面跳动与径向跳动，从而提高其运作过程中的平稳性。

并且，过滤件与导流板的配合，能够实现对气体的整流，通过过滤件对气流的拦截，可提高气流流速的均衡性，再经由导流板的配合调整气流流向，可防止气浮轴单点受力过重。

根据本发明的一种实施方式，过滤件包括过滤柱，过滤柱的外部套设有多个过滤板，相邻两个过滤板之间设有第一弹簧。如此，相邻两个过滤板之间留有间隙。

过滤柱与过滤板的配合，可拦截进入壳体内部气流中裹挟的颗粒物或水体等杂质，提高气流的洁净度。此外，利用过滤柱与过滤板的配合对进入壳体内部的气流进行过滤，还能够提高对气流的整流效果。利用过滤柱与过滤板内外套设的结构形式，分别对壳体中心的气流以及外缘的气流进行拦截，由于所受阻力的不同，可促使壳体内部气流的混合，尤其是过滤板件之间设置间距，有助于气流的横向流动，如此，能够延长过滤路径、提高过滤效果，还可提高气流的均衡性，使得壳体内部气流的流速趋于一致。第一弹簧的设置使得相邻两个过滤板之间的间距可变，从而不仅可以避免过滤板堵塞，还可以增强气体混合效果。

根据本发明的一种实施方式，引流件包括前后相连的第一引流套和第二引流套，第二引流套靠近壳体的出口端设置；第一引流套为圆筒状结构，第二引流套为喇叭状结构，第二引流套的扩口端朝向壳体的出口端设置。

进一步的，第二引流套的外缘与壳体的内壁之间设有间隙。

由此，在第一引流套、第二引流套的作用下，可进一步驱使外排的气流向四周扩散。通过与过滤件、导流板的配合，可避免气流从出气组件排出时直接冲击与之正对的气浮轴，如此，通过使气体外排的方式在确保对气浮轴施加气体压力的同时，还扩大了施压面积且施压的气流分散分布均匀，可以确保气浮轴的旋转稳定性，提高旋转过程中的同轴度。

延伸件上设置出气组件有助于对气浮轴外侧面以及下方的气浮套等部件提供向下流动的气流，有助于促进气浮转台侧方气体的混合，实现对装置外部的散热。

延伸件与出气组件配合，在气浮轴侧方提供气流。第二引流套呈喇叭状，使得壳体出口端正对方向的气流压强较弱，而从第二引流套外壁与壳体的内壁之间的间隙排出的气流，在该弱流区域的外围流动，并且因引流套外壁的引导作用下，该部分气流倾斜着吹向气浮轴的表面，由于气浮轴旋转的时候出气组件排出的气流与气浮轴并不是正向接触，不会干扰或影响气浮轴的旋转。

根据本发明的一种实施方式，第一引流套的外部环绕布设多个分流板，分流板的两端分别与第一引流套以及壳体的内壁抵接。

进一步的，分流板倾斜设置。

由此，利用圆周阵列分布的多个分流板能够实现对气流的分割，分流板倾斜设置也有助于促使气流向壳体四周扩散。

根据本发明的一种实施方式，第一导气通道靠近出气孔的末端配置有导气组件，导气组件能够沿第一导气通道的气流流向往返移动。

导气组件包括沿气流流向前后连通的过滤基体和引流罩体；引流罩体远离过滤基体的一端配置有开口，引流罩体的内部配置有过滤叶片。

进一步的，过滤基体远离引流罩体的一端配置有第一滑移环，引流罩体的靠近第一滑移环的一端设有第二滑移环，第一滑移环与第二滑移环均与第一导气通道的内壁抵接。

进一步的，第一滑移环与过滤基体之间连接有第一连杆。过滤基体的侧方配置有辅助滤板，辅助滤板的底部通过第二连杆与第一连杆相连。

由此，进入第一导气通道的气流经由导气组件的引导，并被过滤基体以及其侧方的辅助滤板以及引流罩体内部的过滤叶片过滤后排出，一方面能够滤除气流中的颗粒物或水体，另一方面还能促进气流的混合。而且，多个辅助滤板与多个过滤叶片配合有助于气体形成旋流，使得第一导气通道内部的高压气流从多角度吹向气浮轴的表面，气浮轴受力均衡，上浮过程更加平稳，从而使其在抵达工作位置后可尽快进入平衡状态，缩短调整时间。

相对于现有技术而言，本发明具有如下有益效果：

1. 通过第一导气通道与第二导气通道的配合，确保气浮轴正常悬浮并提高其悬浮的平稳性；利用第二导气通道对能够对气浮轴顶部凸缘的侧面输送气体，提高气浮轴旋转的过程中与气浮套等部件的同轴度，避免气浮轴侧方的碰撞与磨损；

2. 出气组件设置过滤件、导流板和引流件，实现对气体的整流，通过过滤件对气流的拦截，可提高气流流速的均衡性，有助于扩大气浮轴的受力表面积，可防止气浮轴因单侧受力过重或因多位点受力不平衡而导致的端面跳动与径向跳动；

3. 过滤件中过滤柱与过滤板的配合，可拦截进入壳体内部气流中裹挟的颗粒物或水体等杂质，提高气流的洁净度，还能够延长过滤路径、提高过滤效果，还可提高气流的均衡性，使得壳体内部气流的流速趋于一致；

4. 第一导气通道设置导气组件，不仅实现对气流的过滤，还有助于气体形成旋流，使得气浮轴受力均衡，上浮过程更加平稳，从而使其在抵达工作位置后可尽快进入平衡状态，缩短调整时间。

因此，本发明的用于晶圆切割的气浮转台，可以实现气浮轴及其他部件稳定升降，提高气浮轴运作过程中的同轴度，保证工作精度并延长使用寿命。

附图说明

图1为根据本发明实施例1的用于晶圆切割的气浮转台的主体结构示意图；

图2为图1所示气浮转台的内部结构示意图；

图3为图2中A部的局部放大示意图；

图4为图2所示出气组件的结构示意图；

图5为图4所示出气组件的内部结构示意图；

图6为图5所示过滤件的结构示意图；

图7为根据本发明实施例2的用于晶圆切割的气浮转台的导气组件的结构示意图。

附图标号：气浮轴10；凸缘11；气浮套12；第一导气通道13；出气孔14；底座15；环形件21；延伸件22；第一导气槽23；第二导气槽24；出气组件30；壳体31；过滤件32；过滤柱321；过滤板322；第一弹簧323；导流板33；引流件34；第一引流套341；第二引流套342；分流板35；过滤基体41；辅助滤板42；引流罩体43；第二弹簧44；过滤叶片45；弹性件46；引流锥套47；第一滑移环51；第二滑移环52；第一连杆61；第二连杆62；第三连杆63。

具体实施方式

以下结合具体实施方式和附图对本发明的技术方案作进一步详细描述。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1

图1~图6示意性的显示了根据本发明一实施方式的用于晶圆切割的气浮转台。如图所示，本装置包括底座15，底座15的上方配置有气浮轴10及气浮套12，气浮套12套设在气浮轴10的外部。底座15与力矩电机相配合，力矩电机与气浮轴10连接，并可驱动气浮轴10相对于气浮套12转动。力矩电机包括定子和转子，定子与底座15的底部相连，转子与气浮轴10的底部相连。气浮套12通气时，力矩电机的转子可随气浮轴10一同相对于气浮套12向上浮动并实现旋转。

具体的，气浮轴10的顶端配置有凸缘11，凸缘11与气浮轴10的上端面活动配合。气浮套12的表面配置有出气孔14，多个出气孔14与气浮轴10的外壁相对设置，气浮套12的内部配置有第一导气通道13，多个出气孔14均与第一导气通道13相连通；气浮套12的外部配置有辅助导气结构，辅助导气结构的内部设有第二导气通道，第二导气通道的出口端配置有出气组件30，出气组件30与气浮轴10的外表面相对设置；第一导气通道13、第二导气通道均与外部气泵连接。在第一导气通道13内部不充气的情况下，气浮轴10处于初始位置，凸缘11的下端面能够与气浮套12的上端面抵接；第一导气通道13内部充气后，气浮轴10相对于气浮套12向上悬浮，凸缘11的下端面脱落气浮套12的上端面。与第一导气通道13向连通的多个出气孔14中，部分出气孔14与凸缘11的下端面相对设置，部分出气孔14与套设在气浮套12内部的气浮轴10的侧壁相对设置。

来自外部气泵的部分气流通过第一导气通道13后经由出气孔14排出，作用于气浮轴10的侧壁以及凸缘11的下端面，促使气浮轴10向上悬浮。来自外部气泵的另一部分气流通过第二导气通道后从其出气端排出，作用于气浮轴10凸缘11的外侧壁以及上端面，从而利用该部分气流对气浮轴10的侧面以及上表面起到吹气稳定的效果。即利用向下流动的气流对气浮轴10提供向下的压力，与气浮轴10向上浮移的浮力形成相对的力，确保气浮轴10正常悬浮并提高其悬浮的平稳性。利用第二导气通道对能够对气浮轴10顶部凸缘11的侧面输送气体，能够进一步提高气浮轴10旋转的过程中与气浮套12等部件的同轴度，避免气浮轴10侧方的碰撞与磨损。因此，通过第一导气通道13与第二导气通道的配合能够提高气浮转台的工作精度并延长使用寿命。

具体的，辅助导气结构包括环形件21和延伸件22，延伸件22的一端与环形件21相连，环形件21套设在气浮套12的外侧，多个延伸件22环绕布设在气浮轴10的外部，并且延伸件22由环形件21向气浮轴10的顶部延伸。第二导气通道包括设于环形件21内部的第一导气槽23与设于延伸件22内部的第二导气槽24，第一导气槽23与第二导气槽24相连通，外部气泵可通过导管与第一导气槽23相连，第二导气通道的出口端与第二导气槽24相连，并与气浮轴10的侧面或顶面相对设置。

利用圆周阵列分布的多个延伸件22可将第二导气槽内部的气流均匀的分散到气浮轴10顶部凸缘11的外侧壁以及顶面，从而保证气浮轴10受力平衡，有助于保证气浮轴10在上浮过程中的稳定性，并可防止处于悬浮状态的气浮轴10出现倾斜，避免运作过程中因气浮轴10端面不稳而影响加工精度。

第二导气通道的出口端配置有出气组件30，用于对辅助导气结构排出的气流进行整流。出气组件30包括壳体31，壳体31的进气端与第二导气通道相连，壳体31的出气端与气浮轴10的外壁相对设置。

壳体31的进气端配置有过滤件32，壳体31的出气端配置有引流件34，过滤件32与引流件34之间配置有导流板33，导流板33的外缘朝向引流件34弯曲设置。过滤件32包括过滤柱321，过滤柱321的外部套设有多个过滤板322，相邻两个过滤板322之间设有第一弹簧323。如此，相邻两个过滤板322之间留有间隙。引流件34包括前后相连的第一引流套341和第二引流套342，第二引流套342靠近壳体31的出口端设置；第一引流套341为圆筒状结构，第二引流套342为喇叭状结构，第二引流套342的扩口端朝向壳体31的出口端设置。第一引流套341的外部环绕布设多个分流板35，分流板35的两端分别与第一引流套341以及壳体31的内壁抵接，并且分流板35倾斜设置。

经由第二导气通道吹向气浮轴10顶部凸缘11的气流要先经过过滤件32的过滤才能排出，过滤柱321与过滤板322的配合，可拦截进入壳体31内部气流中裹挟的颗粒物或水体等杂质，提高气流的洁净度，防止气浮转台内部结构出现积尘，从而保证气浮转台的正常运作。

利用过滤柱321与过滤板322的配合对进入壳体31内部的气流进行过滤，还能够提高对气流的整流效果。利用过滤柱321与过滤板322内外套设的结构形式，分别对壳体31中心的气流以及外缘的气流进行拦截，由于所受阻力的不同，可促使壳体31内部气流的混合，尤其是过滤板322件之间设置间距，有助于气流的横向流动，如此，能够延长过滤路径、提高过滤效果，还可提高气流的均衡性，使得壳体31内部气流的流速趋于一致。第一弹簧323的设置使得相邻两个过滤板322之间的间距可变，从而不仅可以避免过滤板322堵塞，还可以增强气体混合效果。

过滤件32与导流板33的配合，能够实现对气体的整流，通过过滤件32对气流的拦截，可提高气流流速的均衡性，再经由导流板33的配合调整气流流向，可防止气浮轴10单点受力过重。

经过过滤件32排出的气流经过导流板33的弧形表面引导，可在脱离壳体31出口端时向四周流动，有助于扩大气浮轴10的受力表面积，可防止气浮轴10因单侧受力过重或因多位点受力不平衡而导致的端面跳动与径向跳动，从而提高其运作过程中的平稳性。

第二引流套342的外缘与壳体31的内壁之间设有间隙。由此，在第一引流套341、第二引流套342的作用下，可进一步驱使外排的气流向四周扩散。通过与过滤件32、导流板33的配合，使得壳体31出口端正对方向的气流压强较弱，可避免气流从出气组件30排出时直接冲击与之正对的气浮轴10，因为这种直接冲击容易造成气浮轴10的晃动，通过使气体外排的方式在确保对气浮轴10施加气体压力的同时，还扩大了施压面积且施压的气流分散分布均匀，可以确保气浮轴10的旋转稳定性，提高旋转过程中的同轴度。

延伸件22上设置出气组件30有助于对气浮轴10外侧面以及下方的气浮套12等部件提供向下流动的气流，有助于促进气浮转台侧方气体的混合，实现对装置外部的散热。

延伸件22与出气组件30配合，在气浮轴10侧方提供气流。第二引流套342呈喇叭状，使得壳体31出口端正对方向的气流压强较弱，而从第二引流套342外壁与壳体31的内壁之间的间隙排出的气流，在该弱流区域的外围流动，并且因引流套外壁的引导作用下，该部分气流倾斜着吹向气浮轴10的表面，由于气浮轴10旋转的时候出气组件30排出的气流与气浮轴10并不是正向接触，不会干扰或影响气浮轴10的旋转。

实施例2

图7示意性的显示了根据本发明另一实施方式的用于晶圆切割的气浮转台，与实施例1的不同之处在于：

第一导气通道13靠近出气孔14的末端配置有导气组件，导气组件能够沿第一导气通道13的气流流向往返移动。导气组件包括沿气流流向前后连通的过滤基体41和引流罩体43；引流罩体43远离过滤基体41的一端配置有开口，引流罩体43的内部配置有过滤叶片45。过滤基体41与引流罩体43同轴设置，并且本实施例中，过滤基体41的直径小于引流罩体43的内径。

过滤基体41远离引流罩体43的一端配置有第一滑移环51，引流罩体43的靠近第一滑移环51的一端设有第二滑移环52，第一滑移环51与第二滑移环52均与第一导气通道13的内壁抵接。进一步的，引流罩体43远离过滤基体41的一端配置有第二弹簧44。如此，在第一导气通道13内部充气的状态下，高压气流冲击导气组件，使之滑移，第一滑移环51、第二滑移环52与第一导气通道13的内壁之间接触面积小，摩擦力小，磨损度小。为进一步降低磨损，第一滑移环51、第二滑移环52可设置弧形侧壁。第二弹簧44的设置，可在导气组件在高压气体冲击力下与第一导气通道13的出气端或拐角端抵接时形成缓冲，加强对导气组件内部结构的保护，降低磨损，延长使用寿命。

第一滑移环51与过滤基体41之间连接有第一连杆61。过滤基体41的侧方配置有辅助滤板42，辅助滤板42的底部通过第二连杆62与第一连杆61相连。辅助滤板42的设置一方面能够对过滤基体41侧方的气流进行辅助过滤，另一方面还可在气流冲击下摆动，加强气体的混合效果，提高气流的均衡性，并且辅助滤板42的摆动能够向过滤基体41传递振动能量，可防止堵塞，并带动导气组件整体的振动，进一步提高气体混合效果。

引流罩体43的内部套设有弹性件46，弹性件46为圆形，设于过滤基体41的顶部，并且弹性件46的直径小于过滤基体41的直径。第二滑移环52与弹性件46的外壁之间连接有第三连杆63。

引流基体的内部设有引流锥套47，引流锥套47设于弹性件46的上方。多个过滤叶片45圆周阵列分布在引流锥套47的外侧，过滤叶片45的一端与引流锥套47的外壁抵接，另一端与引流罩体43的内壁抵接。在一些实施例中，弹性件46内部中空且与下方的过滤基体41以及上方的引流锥套47均相连通，中空的弹性件46内部可填充滤材，对流经的气体进行二次过滤。

弹性件46的设置，可实现与第二弹簧44相同的对高压气体冲击力的缓冲。并且，第二弹簧44、弹性件46在气流冲击以及辅助滤板42振动的影响下发生形变时，一般是沿气流的流向伸缩。弹性件46伸缩可通过第三连杆63带动第二滑移环52以及引流罩体43等在一定幅度内振动，进而带动过滤叶片45等产生摆动，可防止堵塞，还有助于扩大过滤叶片45与气体的接触面，并可利用多部件的振动加强附近气体的混合，从而提高气流的均衡度。这样有助于气体中夹带的水体粒径进一步减小，如此即使排出的气体中仍然存在水体，由于水体粒径较小也容易在高压气流下气化，可避免水体在气浮轴10表面残留，从而保证气浮转台的正常使用。

本发明的操作步骤中的常规操作为本领域技术人员所熟知，在此不进行赘述。

以上所述的实施例对本发明的技术方案进行了详细说明，应理解的是以上所述仅为本发明的具体实施例，并不用于限制本发明，凡在本发明的原则范围内所做的任何修改、补充或类似方式替代等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.用于晶圆切割的气浮转台，包括气浮轴（10）及套设于气浮轴（10）外部的气浮套（12），其特征在于，

所述气浮套（12）的表面配置有出气孔（14），多个所述出气孔（14）与所述气浮轴（10）的外壁相对设置，所述气浮套（12）的内部配置有第一导气通道（13），所述出气孔（14）与所述第一导气通道（13）相连通；

所述气浮套（12）的外部配置有辅助导气结构，所述辅助导气结构的内部设有第二导气通道，所述第二导气通道的出口端与所述气浮轴（10）的侧面或顶面相对设置；所述第一导气通道（13）、所述第二导气通道均与外部气泵连接；

所述第一导气通道（13）配置有导气组件，所述导气组件包括沿气流流向前后连通的过滤基体（41）和引流罩体（43）；所述引流罩体（43）远离所述过滤基体（41）的一端配置有开口，所述引流罩体（43）的内部配置有过滤叶片（45）；

过滤基体（41）远离引流罩体（43）的一端配置有第一滑移环（51），引流罩体（43）的靠近第一滑移环（51）的一端设有第二滑移环（52），第一滑移环（51）与第二滑移环（52）均与第一导气通道（13）的内壁抵接；

引流罩体（43）的内部套设有弹性件（46），弹性件（46）设于过滤基体（41）的顶部；第二滑移环（52）与弹性件（46）的外壁之间连接有第三连杆（63）；弹性件（46）的上方设有引流锥套（47），过滤叶片（45）的一端与引流锥套（47）的外壁抵接，另一端与引流罩体（43）的内壁抵接。

2.根据权利要求1所述的用于晶圆切割的气浮转台，其特征在于，

所述辅助导气结构包括环形件（21）和延伸件（22），所述延伸件（22）的一端与所述环形件（21）相连，所述环形件（21）套设在所述气浮套（12）的外侧，多个所述延伸件（22）环绕布设在所述气浮轴（10）的外部；

所述第二导气通道包括设于所述环形件（21）内部的第一导气槽（23）与设于所述延伸件（22）内部的第二导气槽（24），所述第一导气槽（23）与所述第二导气槽（24）相连通，所述外部气泵与所述第一导气槽（23）相连，所述第二导气通道的出口端与所述第二导气槽（24）相连。

3.根据权利要求1所述的用于晶圆切割的气浮转台，其特征在于，

所述第二导气通道的出口端配置有出气组件（30），所述出气组件（30）包括壳体（31），所述壳体（31）的进气端与所述第二导气通道相连，所述壳体（31）的出气端与所述气浮轴（10）的外壁相对设置；

所述壳体（31）的进气端配置有过滤件（32），所述壳体（31）的出气端配置有引流件（34），所述过滤件（32）与所述引流件（34）之间配置有导流板（33），所述导流板（33）的外缘朝向所述引流件（34）弯曲设置。

4.根据权利要求3所述的用于晶圆切割的气浮转台，其特征在于，

所述过滤件（32）包括过滤柱（321），所述过滤柱（321）的外部套设有多个过滤板（322），相邻两个所述过滤板（322）之间设有第一弹簧（323）。

5.根据权利要求3所述的用于晶圆切割的气浮转台，其特征在于，

所述引流件（34）包括前后相连的第一引流套（341）和第二引流套（342）；

所述第一引流套（341）为圆筒状结构，所述第二引流套（342）为喇叭状结构，所述第二引流套（342）的扩口端朝向所述壳体（31）的出口端设置。

6.根据权利要求5所述的用于晶圆切割的气浮转台，其特征在于，

所述第一引流套（341）的外部环绕布设多个分流板（35），所述分流板（35）的两端分别与所述第一引流套（341）以及所述壳体（31）的内壁抵接。