CN116669494A - 显示面板及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种显示面板及电子设备，通过在公共电极层上设置与触控检测电极位置对应的浮岛区域，可以避免公共电极层对触控检测电极产生信号屏蔽。如此，可以将触控检测电极集成在阵列基板中，从而在顶部发射类型的显示面板中实现In‑Cell类型的触控检测电极设置。

Description

显示面板及电子设备

技术领域

本申请涉及显示设备技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及电子设备。

背景技术

随着显示设备制造技术的发展，用户对显示设备厚度要求越来越高，为了尽可能减小显示设备的厚度，在一些显示设备中采触控检测电极集成在显示面板的阵列基板中，即，In-Cell技术。但是，针对顶部发射类型的有机发光二极管(Organic Light-EmittingDiode，OLED)显示面板，其阴极会覆盖整个面板，阴极会对触控检测电极形成屏蔽，导致触控检测电极无法感应形成触控信号。

发明内容

为了克服现有技术中的上述不足，本申请的目的在于提供一种显示面板，所述显示面板包括：

阵列基板；

位于所述阵列基板一侧的像素电极层，所述像素电极层包括像素驱动电极及至少一个触控检测电极；

位于所述像素电极层远离所述阵列基板一侧的像素界定层，所述像素界定层包括暴露出所述像素驱动电极和所述触控检测电极的多个开口；

位于与所述像素驱动电极对应的开口内的发光材料层；

位于所述触控检测电极层、发光材料层和所述像素界定层远离所述阵列基板一侧的公共电极层，所述公共电极层包括至少一个浮岛区域，所述浮岛区域与所述公共电极层的其他位置隔离，所述浮岛区域在所述阵列基板上的正投影与所述触控检测电极在所述阵列基板上的正投影存在至少部分重合。

在一些可能的实现方式中，所述阵列基板包括：

衬底；

位于所述衬底一侧的至少一个阵列金属层；

位于至少一个所述阵列金属层远离所述衬底一侧的第一中间电极层和第二中间电极层；所述阵列金属层、所述第一中间电极层、所述第二中间电极层及所述像素电极层通过绝缘层相互隔离；

其中，所述第一中间电极层包括至少一个第一基础电容极板，所述第二中间电极层包括至少一个第二基础电容极板，至少一个所述第一基础电容极板和至少一个所述第二基础电容极板在所述衬底上的正投影存在至少部分重合；

所述像素电极层包括至少一个触控电极单元，所述触控电极单元包括分别与所述第一基础电容极板和所述第二基础电容极板电性连接的所述触控检测电极。

在一些可能的实现方式中，所述触控电极单元中的两个所述触控电极沿第一方向排列，所述触控电极单元中的两个所述触控检测电极之间包括至少一个所述像素驱动电极，与该触控电极单元中的所述触控检测电极连接的所述第一基础电容极板和所述第二基础电容极板在所述衬底上的正投影与位于该触控电极单元中的所述触控检测电极之间的像素驱动电极在所述衬底上的正投影存在至少部分重合。

在一些可能的实现方式中，所述第一中间电极层包括多个第一冗余电容极板，所述第二中间电极层包括多个第二冗余电容极板，所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板在所述衬底上的正投影存在至少部分重合；

在第一方向上，相邻的所述触控电极单元之间包括至少一个所述像素驱动电极；所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板在所述衬底上的正投影与相邻的所述触控电极单元之间像素驱动电极在所述阵列基板上的正投影存在至少部分重合。

在一些可能的实现方式中，所述第一冗余电容极板与所述第一基础电容极板的形状和大小相同，所述第二冗余电容极板与所述第二基础电容极板的的形状和大小相同；和/或，所述第一冗余电容极板与所述第二基础电容极板的形状和大小相同，所述第二冗余电容极板与所述第一基础电容极板的形状和大小相同；

优选地，所述第一基础电容极板、所述第二基础电容极板、所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板的形状和大小均相同。

在一些可能的实现方式中，所述显示面板包括透光显示区域，所述第一中间电极层和所述第二中间电极层为透明电极层。

在一些可能的实现方式中，所述触控检测电极在所述阵列基板上的正投影位于所述浮岛区域在所述阵列基板上的正投影内。

在一些可能的实现方式中，所述显示面板还包括位于所述像素界定层远离所述阵列基板一侧的环形的环形隔离部，所述环形隔离部围绕暴露出所述触控检测电极的开口，所述环形隔离部用于断开所述公共电极层以形成所述浮岛区域；

优选地，所述环形隔离部靠近所述像素界定层的一侧在所述像素界定层上的正投影位于所述环形隔离部远离所述像素界定层的一端在所述像素界定层上的正投影内；所述公共电极层在所述环形隔离部处断开。

在一种可能的实现方式中，所述环形隔离部包括靠近所述像素电极层一侧的第一金属部和远离所述像素电极层一侧的第二金属部，所述第一金属部的耐腐蚀性小于所述第二金属部的耐腐蚀性。

本申请的另一目的在于提供一种电子设备，所述电子设备包括本申请提供的所述显示面板。

相对于现有技术而言，本申请具有以下有益效果：

本申请实施例提供一种显示面板及电子设备，通过在公共电极层上设置与触控检测电极位置对应的浮岛区域，可以避免公共电极层对触控检测电极产生信号屏蔽。如此，可以将触控检测电极集成在阵列基板中，从而在顶部发射类型的显示面板中实现In-Cell类型的触控检测电极设置。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本实施例提供的显示面板的示意图之一；

图2为本实施例提供的显示面板的示意图之二；

图3为本实施例提供的显示面板的示意图之三；

图4为本实施例提供的显示面板的触控检测电路示意图；

图5为本实施例提供的显示面板的示意图之四；

图6为本实施例提供的显示面板的示意图之五；

图7为本实施例提供的显示面板的示意图之六；

图8为本实施例提供的显示面板的示意图之七；

图9为本实施例提供的环形隔离部的示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。

请参见图1，图1为本实施例提供的一种显示面板，显示面板包括阵列基板100、像素电极层、像素界定层220、发光材料层230及公共电极层240。

阵列基板100可以包括由薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)形成的阵列。阵列基板100中可以包括多个用于驱动发光像素的像素驱动电路101，还可以包括多个触控检测电路102。

像素电极层位于阵列基板100的一侧，像素电极层包括多个像素驱动电极211及至少一个触控检测电极212。可选地，像素驱动电极211可以为发光像素的阳极，触控检测电极212与像素驱动电极211同层设置。进一步地，像素驱动电极211可以与阵列基板100中的像素驱动电路101电性连接，触控检测电极212可以与阵列基板100中的触控检测电路102电性连接。可选地，像素电极层包括多个像素驱动电极211及多个触控检测电极212，多个触控检测电极211用于感应多个不同位置的触控操作。

像素界定层220位于像素电极层远离阵列基板100的一侧，像素界定层220包括暴露出像素驱动电极211和触控检测电极212的多个开口。发光材料层230位于与像素驱动电极211对应的开口内。可选地，与触控检测电极212对应的开口中不需要蒸镀发光材料。

公共电极层240位于触控检测电极212层、发光材料层230和像素界定层220远离阵列基板100的一侧，公共电极层240包括至少一个浮岛区域241，浮岛区域241与公共电极层240的其他位置隔离，浮岛区域241在阵列基板100上的正投影与触控检测电极212在阵列基板100上的正投影存在至少部分重合。其中，公共电极层240可以为显示面板的阴极层，公共电极层240可由透明导电材料制成，例如，公共电极层240的材料可以包括氧化铟锡(IndiumTin Oxide，ITO)。

例如，请参照图2，公共电极层240上可以包括多个沟槽，沟槽合围将公共电极层240上的部分区域与其他区域隔离，形成浮岛区域241。在显示面板的厚度方向上，浮岛区域241的位置与触控检测电极212的位置对应。公共电极层240上除了浮岛区域241外的其他区域可以相互连通，作为各个发光像素的公共的电极，例如，可以作为阴极。

基于上述设计，一方面，针对浮岛区域241，浮岛区域241与公共电极层240的其他区域相互隔离，因此不会屏蔽位于其触控检测电极212感应触控信号。在一个例子中，在检测触控信号时，相邻的触控检测电极212可以形成互电容式检测模式中触控电容的两个极板以感应触控信号，例如，相邻两个触控检测电极212中，一个触控检测电极212可以作为发送激励信号的电容极板，另一个触控检测电极212可以作为接收激励信号的电容极板。在另一个例子中，一个触控检测电极212作为自电容式检测模式中的电容极板，或多个相邻的触控检测电极212可以相互连接形成自电容式检测模式中的电容极板。

另一方面，针对处浮岛区域241以外的其他区域，公共电极层240依然覆盖了各个发光像素，因此不会改变原有顶部发射模式发光像素的驱动方式。如此，可以在顶部发射模式的显示面板中实现In-Cell模式的触控检测电极212设置。

在一种可能的实现方式中，请参照图3，阵列基板100可以包括衬底110、至少一个阵列金属层、第一中间电极层、第二中间电极层及绝缘层等膜层。

衬底110可以为硬质衬底110或者柔性衬底110，在本实施例中不作具体限定。

至少一个阵列金属层位于衬底110的一侧。可选地，阵列基板100可以包括多个阵列金属层，多个阵列金属层之间可以通过绝缘层相互隔离。阵列金属层可以用于形成传递信号或电能的走线，也可以与其他膜层(如半导体有源层等)配合用于形成像素驱动电路101(未示出)或触控检测电路102。

第一中间电极层和第二中间电极层位于至少一个阵列金属层远离衬底110的一侧。阵列金属层、第一中间电极层、第二中间电极层及像素电极层通过绝缘层相互隔离。

在本实施例中，第一中间电极层包括至少一个第一基础电容极板151，第二中间电极层包括至少一个第二基础电容极板152，至少一个第一基础电容极板151和至少一个第二基础电容极板152在衬底110上的正投影存在至少部分重合。

像素电极层包括至少一个触控电极单元，触控电极单元包括分别与第一基础电容极板151和第二基础电容极板152电性连接的触控检测电极212。例如，触控电极单元包括两个触控检测电极212，两个触控检测电极212可以通过贯穿绝缘层的通孔和通过阵列金属层形成的连接部103分别与触控检测电极212与第一基础电容极板151或第二基础电容极板152的电性连接。

在一个示例中，请参照图4，一个触控电极单元可以包括触控检测电极212A和触控检测电极212B，触控检测电极212A和触控检测电极212B分别与一个第一基础电容极板151和一个第二基础电容极板152连接。其中，第一基础电容极板151和第二基础电容极板152交叠的部分可以形成触控检测中的基础电容来补偿触控检测电极212A和触控检测电极212B之间距离太远导致的基础电容太低的问题。触控检测电极212A和触控检测电极212B可以连接至不同的检测走线，从而形成投射式电容检测中的互电容触摸检测方式。

具体地，当用户手指触控覆盖触控检测电极212A和触控检测电极212B时，改变了触控检测电极212A和触控检测电极212B之间的互电容的电容值，通过触控检测电极212A所连接的检测走线(如图4中横向走线)和触控检测电极212B所连接的检测走线(如图4中纵向走线)进行电容检测，即可检测出用户的触控位置。

基于上述设计，通过设置第一基础电容极板151和一个第二基础电容极板152形成基础电容与触控检测电极212相互配合，可以使得在本实施例提供的显示面板中也可以使用常规的投射式电容检测中的互电容触摸检测方式进行触控检测。

在一些可能的实现方式中，所述阵列金属层可以包括第一金属层、第二金属层、第三金属层和第四金属层，绝缘层可以包括栅极绝缘层、电容绝缘层、层间绝缘层、平坦化层等。具体地，阵列基板100还可以包括依次层叠设置的衬底、缓冲层、半导体有源层、栅极绝缘层、第一金属层、电容绝缘层、第二金属层、层间绝缘层、第三金属层、第一平坦化层、第四金属层、第二平坦化层、第一中间电极层、第三平坦化层、第二中间电极层、第四平坦化层等。在本实施例中，由于第一中间电极层和第二中间电极层较薄，为了避免在蒸镀形成第一中间电极层和/或第二中间电极层的过程中，第四金属层中凸起的走线截断厚度较薄的第一中间电极层和/或第二中间电极层，在本实施例中，可以通过位于第三金属层中的连接部103连接触控检测电极212和第一基础电容极板151或第二基础电容极板152。

综上，在本实施例提供的显示面板中，针对发光像素而言，可以在保持常规顶部发射的驱动方式不变的情况下，实现In-Cell模式的触控检测。针对触控检测而言，通过设置第一基础电容极板151和一个第二基础电容极板152，可以在In-Cell模式的电极设置方案中使用常规的互电容检测方式进行触控检测。如此，提高了本实施例提供的显示面板对显示驱动和触控检测的普遍适应性，降低了显示驱动和触控检测的难度。

在一种可能的实现方式中，请参见图5，触控电极单元中的两个触控检测电极212沿第一方向D1排列，触控电极单元中的两个触控检测电极212之间包括至少一个像素驱动电极211，与该组触控电极单元中的触控检测电极212连接的第一基础电容极板151和第二基础电容极板152在衬底110上的正投影与位于该触控电极单元中的触控检测电极212之间的像素驱动电极211在衬底110上的正投影存在至少部分重合。

例如，请参见图6，在一种可能的实现方式中，每个像素包括对应于不同颜色发光子像素的多个像素驱动电极211及一个触控检测电极212，同一像素中的多个像素驱动电极211和触控检测电极212沿第一方向D1排列，如图6中虚线框所示。多个像素在第一方向D1和与第一方向D1垂直的第二方向D2上呈阵列分布。以第一方向上的一行向像素为例，第二方向上第I列像素中的触控检测电极212与第J列像素中的触控检测电极212为一个触控电极单元，第I列像素中的像素驱动电极211位于该触控电极单元的两个触控检测电极212之间，分别该触控电极单元的两个触控检测电极212连接的第一基础电容极板151和第二基础电容极板152在衬底110上的正投影与第I列像素中的像素驱动电极211在衬底110上的正投影存在至少部分重合。如此，可以避免第一基础电容极板151和第二基础电容极板152占用过多的面积，提高显示面板的集成度。

进一步地，在一种可能的实现方式中，

第一中间电极层包括至少一个第一冗余电容极板153，第二中间电极层包括至少一个第二冗余电容极板154，第一冗余电容极板153和第二冗余电容极板154在衬底110上的正投影存在至少部分重合。

在第一方向D1上，相邻两个触控电极单元之间包括至少一个像素驱动电极211。第一冗余电容极板153和第二冗余电容极板154在衬底110上的正投影与相邻两个触控电极单元之间像素驱动电极211在阵列基板100上的正投影存在至少部分重合。

例如，请再次参照图6，以第一方向上的一行向像素为例，第J列的触控检测电极212与第I列的触控检测电极212为一个触控电极单元，而第K列触控检测电极212与第L列的触控检测电极212为一个触控电极单元，因此，第J列的像素驱动电极211下方不需要形成用于提高基础电容的电容极板。但是为了提高整个显示面板整体的显示均一性，在本实施例中，可以在第J列的像素驱动电极211下方设置第一冗余电容极板153和第二冗余电容极板154，使得第一中间电极层和第二中间电极层中的电容极板分布更为均匀，从而避免反射时产生mura不良或产生反射摩尔纹路。

进一步地，在一种可能的实现方式中，第一冗余电容极板153与第一基础电容极板151的形状和大小相同，第二冗余电容极板154与第二基础电容极板152的形状和大小相同；和/或，第一冗余电容极板153与第二基础电容极板152的形状和大小相同，第二冗余电容极板154与第一基础电容极板151的形状和大小相同。

可选地，第一基础电容极板151、第二基础电容极板152、第一冗余电容极板153和第二冗余电容极板154的形状和大小均相同。

如此，可以使得第一中间电极层和第二中间电极层中的第一冗余电容极板153、第二冗余电容极板154与第一基础电容极板151、第二基础电容极板152之间的排列分布更均匀，从而使得电容基板的反射更加均匀，减少显示面板反射摩尔纹路。

在一种可能的实现方式中，显示面板包括透光显示区域，第一中间电极层和第二中间电极层为透明电极层。例如，显示面板可以为适配屏下摄像头(Under DisplayCamera，UDC)的显示面板，在本实施例中可以将显示面板中位于阵列金属层和像素电极层(阳极层)之间的两个透明电极层(ITO层)分别作为第一中间电极层和第二中间电极层的一部分。如此，可以避免增加过多的膜层结构，降低显示面板的整体厚度。

在一种可能的实现方式中，请再次参照图2，触控检测电极212在阵列基板100上的正投影位于浮岛区域241在阵列基板100上的正投影内。如此，可以使得浮岛区域241形成非电信号屏蔽区完整地覆盖触控检测电极212，使触控检测电极212能更好地感应触控信号。

在一种可能的实现方式中，蒸镀形成公共电极层240后，可以通过激光照射的方式对公共电极层240进行烧灼刻蚀形成图2所示的沟槽。

在另一种可能的实现方式中，请参照图7，显示面板还包括位于像素界定层220远离阵列基板100一侧的环形隔离部250，请参照图8，环形隔离部250围绕暴露出触控检测电极212的开口，环形隔离部250用于断开公共电极层240以形成浮岛区域241。

例如，在蒸镀形成公共电极层240时，由于环形隔离部250突出于像素界定层220，蒸镀在环形隔离部250远离像素界定层220一端的蒸镀材料会形成一断开区域242，断开区域242与蒸镀在像素界定层220表面的蒸镀材料断开，从而使得环形隔离部250合围内的公共电极层240和环形隔离部250合围之外的公共电极层240隔离开，形成位于环形隔离部250合围内的浮岛区域241。

可选地，在一种可能的实现方式中，环形隔离部250靠近像素界定层220的一侧在像素界定层220上的正投影位于环形隔离部250远离像素界定层220的一端在像素界定层220上的正投影内，公共电极层240在环形隔离部250处断开。如此，环形隔离部250形成一底切结构，在蒸镀过程中可以更好避免位于环形隔离部250上的断开区域242和位于像素界定层220上的公共电极层240接触，从而更好断开公共电极层240。

进一步地，在一种可能的实现方式中，请参照图9，环形隔离部250包括靠近像素电极层一侧的第一金属部251和远离像素电极层一侧的第二金属部252，第一金属部251的耐腐蚀性小于第二金属部252的耐腐蚀性。如此，刻蚀形成环形隔离部250时，第一金属部251相较于第二金属部252会受到更多刻蚀，从而对第一金属部251形成侧刻效果，形成底切结构。如此，在蒸镀形成公共电极的过程中，位于蒸镀至环形隔离部250上的蒸镀材料和蒸镀至像素界定层220上的蒸镀材料可以更好的断开。

本申请还提供一种电子设备，所述电子设备包括本申请提供的所述显示面板。

综上所述，本申请实施例提供一种显示面板及电子设备，通过在公共电极层上设置与触控检测电极位置对应的浮岛区域，可以避免公共电极层对触控检测电极产生信号屏蔽。如此，可以将触控检测电极集成在阵列基板中，从而在顶部发射类型的显示面板中实现In-Cell类型的触控检测电极设置。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板；

位于所述阵列基板一侧的像素电极层，所述像素电极层包括像素驱动电极及至少一个触控检测电极；

位于所述像素电极层远离所述阵列基板一侧的像素界定层，所述像素界定层包括暴露出所述像素驱动电极和所述触控检测电极的多个开口；

位于与所述像素驱动电极对应的开口内的发光材料层；

位于所述触控检测电极层、发光材料层和所述像素界定层远离所述阵列基板一侧的公共电极层，所述公共电极层包括至少一个浮岛区域，所述浮岛区域与所述公共电极层的其他位置隔离，所述浮岛区域在所述阵列基板上的正投影与所述触控检测电极在所述阵列基板上的正投影存在至少部分重合。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底；

位于所述衬底一侧的至少一个阵列金属层；

位于至少一个所述阵列金属层远离所述衬底一侧的第一中间电极层和第二中间电极层；所述阵列金属层、所述第一中间电极层、所述第二中间电极层及所述像素电极层通过绝缘层相互隔离；

其中，所述第一中间电极层包括至少一个第一基础电容极板，所述第二中间电极层包括至少一个第二基础电容极板，至少一个所述第一基础电容极板和至少一个所述第二基础电容极板在所述衬底上的正投影存在至少部分重合；

所述像素电极层包括至少一个触控电极单元，所述触控电极单元包括分别与所述第一基础电容极板和所述第二基础电容极板电性连接的所述触控检测电极。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极单元中的两个所述触控电极沿第一方向排列，所述触控电极单元中的两个所述触控检测电极之间包括至少一个所述像素驱动电极，与该触控电极单元中的所述触控检测电极连接的所述第一基础电容极板和所述第二基础电容极板在所述衬底上的正投影与位于该触控电极单元中的所述触控检测电极之间的像素驱动电极在所述衬底上的正投影存在至少部分重合。

4.根据权利要求2或3所述的显示面板，其特征在于，所述第一中间电极层包括多个第一冗余电容极板，所述第二中间电极层包括多个第二冗余电容极板，所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板在所述衬底上的正投影存在至少部分重合；

在第一方向上，相邻的所述触控电极单元之间包括至少一个所述像素驱动电极；所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板在所述衬底上的正投影与相邻的所述触控电极单元之间像素驱动电极在所述阵列基板上的正投影存在至少部分重合。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一冗余电容极板与所述第一基础电容极板的形状和大小相同，所述第二冗余电容极板与所述第二基础电容极板的的形状和大小相同；和/或，所述第一冗余电容极板与所述第二基础电容极板的形状和大小相同，所述第二冗余电容极板与所述第一基础电容极板的形状和大小相同；

优选地，所述第一基础电容极板、所述第二基础电容极板、所述第一冗余电容极板和所述第二冗余电容极板的形状和大小均相同。

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括透光显示区域，所述第一中间电极层和所述第二中间电极层为透明电极层。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控检测电极在所述阵列基板上的正投影位于所述浮岛区域在所述阵列基板上的正投影内。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述像素界定层远离所述阵列基板一侧的环形隔离部，所述环形隔离部围绕暴露出所述触控检测电极的开口，所述环形隔离部用于断开所述公共电极层以形成所述浮岛区域；

优选地，所述环形隔离部靠近所述像素界定层的一侧在所述像素界定层上的正投影位于所述环形隔离部远离所述像素界定层的一端在所述像素界定层上的正投影内；所述公共电极层在所述环形隔离部处断开。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述环形隔离部包括靠近所述像素电极层一侧的第一金属部和远离所述像素电极层一侧的第二金属部，所述第一金属部的耐腐蚀性小于所述第二金属部的耐腐蚀性。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-9任意一项所述的显示面板。