CN116594088A - 一类红外光场调控器件及其制备方法 - Google Patents
一类红外光场调控器件及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116594088A CN116594088A CN202310321162.4A CN202310321162A CN116594088A CN 116594088 A CN116594088 A CN 116594088A CN 202310321162 A CN202310321162 A CN 202310321162A CN 116594088 A CN116594088 A CN 116594088A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- sub
- infrared light
- infrared
- super
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 title claims abstract description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- -1 lithium chalcogenide Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000005387 chalcogenide glass Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 abstract description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000008204 material by function Substances 0.000 abstract description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical group [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/002—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
- G02B2207/101—Nanooptics
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
本发明公开了一类红外光场调控器件及其制备方法,属于光学功能材料及微纳器件领域。所述红外光场调控器件包括基于硫属化合物材料的超构表面,该超构表面包括基底和排布在所述基底上的亚波长结构单元,所述基底为硅基底、ZnSe/ZnS基底、硫属铌酸锂基底、硫系玻璃基底、ITO基底中的一种,所述亚波长结构单元是由硫属化学物材料组成,硫属化学物材料为Ge‑Sb‑S(GSS)、Ge‑As‑Se(GAS)、As‑Se(AS)、Ga‑La‑S(GLS)中的一种或多种。使用该硫属化学物材料制备而成的亚波长结构在可见光到红外波段这一长宽带范围内有极低的消光系数,具有优异的红外透过率,使其在光学超构表面器件、特别是红外光场调控器件中具有广阔的应用前景。
Description
技术领域
本发明涉及光学功能材料及微纳器件领域,特别涉及一类红外光场调控器件及其制备方法。
背景技术
与传统光学器件相比,由于超构表面的亚波长结构在调控电磁波的相位、频率、振幅等方面都充分展现了无与伦比的优势,超构表面具有体积更小、质量更轻、更易集成等优势,极大的满足在人工智能、5G通信以及高端芯片等信息技术飞速发展背景下人们对小型化、轻薄化、高集成、多功能光子器件的需求。这一概念一经提出即成为近年来相关学科的研究热点,截至现在,如超透镜、光束偏转器、起偏器、全息成像等多种基于超构表面器件已被演示,对传统的成像技术、光通信、显示等领域都展示出了颠覆性影响和推动作用。然而,目前用来制作认购结构单元的材料通常是金、硅、锗等金属或介质材料,由于具有不同程度的欧姆损耗或透光范围限制,器件不可避免得遇到了效率低及仅能在可见光、近红外波段工作等问题,同时,该类材料还具有较高得制备成本等,均在一定程度上限制了其实际应用。
基于以上问题,本发明提出采用硫属化合物材料构建超构表面器件的构思,能够同时解决现阶段超构表面器件低效率、窄宽带及高成本的问题。硫属化合物材料是以S、Se、Te等除氧以外的硫族元素为主,并结合Ge、As、Sb、Ga、La、CsCl等金属或非金属单质及化合物等形成的晶体或非晶态材料。依据材料组分,透光范围从可见光可达红外光(约为20μm),且在范围内都表现出较低的光线吸收损耗,特别是在红外波段有着近乎为零的消光系数,展现出极为优异的红外透光性能;此外,其良好的化学稳定性和热稳定性、高非线性、低成本等优势也为构建高效率低成本高品质光学超构表面器件提供了机遇,其在超构表面相关器件、特别是红外超构表面相关器件的实际应用成为可能。
发明内容
针对以上现有技术的不足,本发明基于硫属化合物材料具有较低的光纤吸收损耗、特别是在红外波段有着近乎为零的消光系数的特性,提出采用硫属化合物材料构建超构表面器件的构思,使其在红外光场调控器件的实际应用成为可能。
为了实现上述目的,具体通过以下技术实现:
本发明提供了一类红外光场调控器件,该红外光场调控器件包括基于硫属化合物材料的超构表面,该超构表面是由基底和排布在所述基底上的亚波长结构单元构成,所述亚波长结构单元是由所述硫属化学物材料组成,所述硫属化学物材料为Ge-Sb-S(GSS)、Ge-As-Se(GAS)、As-Se(AS)、Ga-La-S(GLS)中的一种或多种。
进一步地,上述基底为硅基底、ZnSe/ZnS基底、硫属铌酸锂基底、硫属化学物基底、ITO基底中的一种。
进一步地,所述亚波长结构单元的形状为纳米圆柱形结构、工字结构形状、十字架纳米柱状结构形状、椭圆状纳米天线结构形状中的一种,且若干个所述亚波长结构单元在所述基底上呈阵列周期性排布,所述亚波长结构的尺寸小于作用光波波长的周期结构。
优选地,上述硫属化学物材料为Ge25Sb10S65、Ge12As24Se64、As2Se3、30Ga2S3-70La2S3中的一种。
本发明还提供上述红外光场调控器件的制备方法,包括以下步骤:
S1、将基底清洗并烘干;
S2、采用热蒸镀或磁控溅射等方法在所述基底上生长硫属化学物材料薄膜
S3、采用干法或湿法在步骤S2的薄膜上刻蚀出亚波长结构单元的阵列。
进一步地,上述红外光场调控器件为红外光束偏转器、红外超透镜、中红外光偏振分束器、中红外全息成像器等微纳器件中的一种。
与现有技术相比,本发明的有益之处在于:
本发明提供的红外光场调控器件,包括了基于硫属化合物材料的超构表面结构,该超构表面的亚波长结构单元由硫属化学物材料组成,从而使该超构表面表现出较低的吸收损耗,特别是在红外波段有着近乎为零的消光系数,展现出极为优异的红外透光性能,此外,其良好的化学稳定性和热稳定性、高非线性、低成本等优势也为构建高效率低成本高品质光学超构表面器件提供了机遇,特别是在红外超构表面相关器件中具有广阔的应用前景。
附图说明
图1为实施例1中的红外光束偏转器的示意图;
图2为实施例1中的红外光束偏转器的超构表面的示意图;
图3为实施例1中的红外光束偏转器的光场剖面相位图。
具体实施方式
下面将对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,如未特别说明,均为常规技术,所用试剂如未特别说明,均来源于商业化渠道。所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动条件下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
以下实施例中超构表面的制备方法无特殊说明时都包括以下步骤:
S1、将基底清洗并烘干;
S2、采用热蒸镀或磁控溅射的方法在所述基底上生长硫属化学物材料薄膜
S3、采用干法或湿法在步骤S2的薄膜上刻蚀出亚波长结构单元的阵列。
实施例1
如图1、图2和图3所示,本实例提供了一种高偏转效率的红外光束偏转器,该红外光束偏转器包括基于硫属化合物材料的超构表面结构,该超表面包括基底和排布在所述基底上的阵列周期性分布的若干亚波长结构单元,所述亚波长结构单元能够对光进行较大角度地偏转和实现较高的偏转效率。
具体地,如图1和图2所示,该红外光束偏转器的超构表面的基底为硅基底(Si),亚波长结构单元是由属于硫系材料的Ge25Sb10S65(GSS)组成的纳米圆柱形结构。入射光波长选取为中红外波段下的3μm单波长,由于GSS具有优异的红外透过率,使得入射光在经过超构表面结构时不会出现部分光被材料吸收、损耗的情况。本实施中超构表面的基底的晶格常数为1-2μm,每个结构单元GSS高度为2μm,结构单元半径为200nm-600nm构成一个周期,则周期为12μm,使透射光得以在预定角度下偏转并同时保持着高偏转效率,即入射光功率近似等于透射光功率,从而实现高效率的光束偏转功能,即实现了如图3所示的光束偏转效果。
本实例在设计结构单元结构尺寸和周期性时,通过FDTD数值仿真获得了光场的剖面相位图,由图3我们可以看到入射光在经过超构表面结构后波前产生了一个倾斜的角度,且偏转效率较高,有利于该全硫系超表面光束偏转器在实际中的应用。
实施例2
本实例提供了一种高聚焦效率的红外超透镜,该红外超透镜包括基于硫属化合物材料的超构表面结构,该超表面包括基底和排布在所述基底上的阵列周期性分布的若干亚波长结构单元,所述亚波长结构单元能够实现红外波段的聚焦效果。
具体地,该超表面的基底为ITO基底,亚波长结构单元是由属于硫系材料的Ge12As24Se64(GAS)组成的椭圆状纳米天线结构。由于GAS具有具有优异的红外透过率,使得入射光在经过超构表面结构时不会出现部分光被材料吸收、损耗的情况。通过合理设计该结构单元的周期性、GAS高度、GAS长度、GAS宽度、GAS倾斜角度等,使得透射光得以在预定焦距下偏转并同时保持着高偏转效率,从而实现红外光的聚焦功能。
本实例通过设计结构单元结构尺寸和周期性,从而实现红外光的聚焦功能,且效率较高,有利于该全硫系超透镜在实际中的应用。
实施例3
本实例提供了一种高起偏效率的中红外光偏振分束器,该中红外光偏振分束器包括基于硫属化合物材料的超构表面结构,该超表面包括基底和排布在所述基底上的阵列周期性分布的若干亚波长结构单元,所述亚波长结构单元能够实现中红外波段的起偏功能。
具体地,该超表面的基底和亚波长结构单元均是由属于硫系材料的As2Se3(AS)组成,且亚波长结构为“十字架”纳米柱状结构。由于AS具有优异的红外透过率,使得入射光在经过超构表面结构时不会出现部分光被材料吸收、损耗的情况。通过合理设计该结构单元的周期性、AS高度、AS长度、AS宽度等,使得入射光通过该超构表面结构后分出两束偏振光,一束为沿x轴的偏振光,另一束为沿y轴的偏振光,且两束光的功率能量相等,近似为入射光功率的二分之一,从而实现中红外光的偏振分束功能。
本实例通过设计结构单元结构尺寸和周期性,从而实现中红外光的偏振功能,且效率较高,有利于该全硫系偏振分束器在实际中的应用。
实施例4
本实例提供了一种高清晰度的中红外全息成像器,该中红外全息成像器包括基于硫属化合物材料的超构表面结构,该超表面包括基底和排布在所述基底上的阵列周期性分布的若干亚波长结构单元,所述亚波长结构单元能够实现中红外波段的全息成像功能。
具体地,该超表面的基底为铌酸锂基底,亚波长结构单元是由属于硫系材料的30Ga2S3-70La2S3(GLS)组成的“工”字结构。由于GLS具有优异的红外透过率,使得入射光在经过超构表面结构时不会出现部分光被材料吸收、损耗的情况。通过合理设计该结构单元的周期性、GLS高度、GLS长度、GLS宽度等,从而实现中红外的全息成像功能。
本实例通过设计结构单元结构尺寸和周期性,从而实现中红外的全息成像功能,且效率较高,有利于该全硫系全息成像在实际中的应用。
以上具体实施方式详细描述了本发明的实施,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节。在本发明的权利要求书和技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单改型和改变,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一类红外光场调控器件,其特征在于,包括基于硫属化合物材料的超构表面,所述超构表面是由基底和排布在所述基底上的亚波长结构单元构成,所述亚波长结构单元是由所述硫属化学物材料组成,所述硫属化学物材料为Ge-Sb-S(GSS)、Ge-As-Se(GAS)、As-Se(AS)、Ga-La-S(GLS)中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的红外光场调控器件,其特征在于,所述基底为硅基底、ZnSe/ZnS基底、硫属铌酸锂基底、硫系玻璃基底、ITO基底中的一种。
3.根据权利要求1所述的红外光场调控器件,其特征在于,所述亚波长结构单元的形状为纳米圆柱形结构、工字结构形状、十字架纳米柱状结构形状、椭圆状纳米天线结构形状中的一种。
4.根据权利要求1所述的红外光场调控器件,其特征在于,若干个所述亚波长结构单元在所述基底上呈阵列周期性排布。
5.根据权利要求1-4任一项所述的红外光场调控器件,其特征在于,所述红外光场调控器件为红外光束偏转器、红外超透镜、中红外光偏振分束器、中红外全息成像器等微纳器件中的一种。
6.权利要求1-4任一项所述的红外光场调控器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将基底清洗并烘干;
S2、采用热蒸镀或磁控溅射等方法在所述基底上生长硫属化学物材料薄膜;
S3、采用干法或湿法在步骤S2的薄膜上刻蚀出亚波长结构单元的阵列。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310321162.4A CN116594088A (zh) | 2023-03-29 | 2023-03-29 | 一类红外光场调控器件及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310321162.4A CN116594088A (zh) | 2023-03-29 | 2023-03-29 | 一类红外光场调控器件及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116594088A true CN116594088A (zh) | 2023-08-15 |
Family
ID=87588757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310321162.4A Pending CN116594088A (zh) | 2023-03-29 | 2023-03-29 | 一类红外光场调控器件及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116594088A (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108793737A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-11-13 | 清远聚航光学材料有限公司 | 一种硫系玻璃及其制备方法 |
CN110673242A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-10 | 江西师范大学 | 一种偏振可调谐硅基光学吸波器及其制备方法 |
CN112596234A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-04-02 | 无锡光隐科技发展有限公司 | 一种双片混合式红外光学成像系统及制备方法 |
US20210337140A1 (en) * | 2020-04-27 | 2021-10-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical device for a thermal sensor and a hybrid thermal sensor |
CN113912289A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-01-11 | 宁波海洋研究院 | 多元高折射率硫系玻璃及其制备方法 |
CN113929300A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-01-14 | 宁波海洋研究院 | 一种高压原位合成技术制备硫系玻璃 |
CN114764156A (zh) * | 2021-01-11 | 2022-07-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种红外全介质正交柱面超透镜 |
CN116107100A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-05-12 | 暨南大学 | 一种基于全硫系材料的可调谐超构表面及其构造方法 |
-
2023
- 2023-03-29 CN CN202310321162.4A patent/CN116594088A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108793737A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-11-13 | 清远聚航光学材料有限公司 | 一种硫系玻璃及其制备方法 |
CN110673242A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-10 | 江西师范大学 | 一种偏振可调谐硅基光学吸波器及其制备方法 |
US20210337140A1 (en) * | 2020-04-27 | 2021-10-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical device for a thermal sensor and a hybrid thermal sensor |
CN112596234A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-04-02 | 无锡光隐科技发展有限公司 | 一种双片混合式红外光学成像系统及制备方法 |
CN114764156A (zh) * | 2021-01-11 | 2022-07-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种红外全介质正交柱面超透镜 |
CN113912289A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-01-11 | 宁波海洋研究院 | 多元高折射率硫系玻璃及其制备方法 |
CN113929300A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-01-14 | 宁波海洋研究院 | 一种高压原位合成技术制备硫系玻璃 |
CN116107100A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-05-12 | 暨南大学 | 一种基于全硫系材料的可调谐超构表面及其构造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102751586B (zh) | 一种基于相变材料的可调谐左手超材料 | |
CN109901257B (zh) | 一种可见光超材料偏振转换器 | |
CN110333560A (zh) | 一种基于介质超表面的宽带消色差器件 | |
US11454739B2 (en) | Method of fabricating all-dielectric flat lens with low refractive index | |
CN112379514B (zh) | 一种偏振无关的超透镜及其设计方法 | |
CN114815074B (zh) | 一种光调制的微环谐振腔及制备方法 | |
CN110346854A (zh) | 一种与偏振无关的超窄多频带可调谐完美吸收器 | |
CN113690624B (zh) | 一种基于几何相位超表面的涡旋光空间调制器 | |
CN112130245A (zh) | 宽带高透过非对称超材料偏振调控器及其制造方法 | |
CN112350071A (zh) | 一种反射式太赫兹偏振转换器 | |
CN111610649B (zh) | 一种窄带超表面器件 | |
CN111258001A (zh) | 基于Si-Ge2Sb2Te5混合波导的片上光子多级开关 | |
Hong et al. | Ultracompact nanophotonics: light emission and manipulation with metasurfaces | |
Wang et al. | Electrically and thermally tunable multifunctional terahertz metasurface array | |
Wang et al. | Programmable manipulation of terahertz beams by hybrid graphene-metal coding metasurfaces | |
CN116594088A (zh) | 一类红外光场调控器件及其制备方法 | |
CN116598790A (zh) | 基于椭圆环形镂空石墨烯的宽带效率可调超透镜 | |
Li et al. | Active metasurfaces based on phase transition material vanadium dioxide | |
CN113514905A (zh) | 一种等离子体超表面标准具结构的相位调制器 | |
Shoujun et al. | Progress on reconfigurable terahertz metasurface devices based on sulfide phase change materials | |
Xu | Single-band tunable metasurface for thermal emitters in 5G bands | |
CN214954178U (zh) | 一种等离子体超表面标准具结构的相位调制器 | |
Qiao et al. | A simple structured and homo-frequency point mode switchable THz full-space metasurface based on temperature-controlled vanadium dioxide | |
Lv et al. | Broadband programmable metasurface for multifunctional control of THz waves | |
Kumar et al. | Vanadium Oxide as a Key Constituent in Reconfigurable Metamaterials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |