CN116559986B - 一种点阵投射器装置及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明关于一种点阵投射器装置及其制备方法，涉及达曼光栅技术领域。包括：提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图；利用衍射点阵图，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件；复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。本发明双周期复合达曼光栅的特征尺寸和两个周期中周期较小的达曼光栅特征尺寸一致，在提供大视场点阵的情况下不会增加制作难度，且双周期复合达曼光栅是一个器件，相较于耦合达曼光栅，衍射效率有了大大的提升。
Description
技术领域
本发明涉及达曼光栅技术领域，具体为一种点阵投射器装置及其制备方法。
背景技术
达曼光栅是一种典型的二元光学元件(Bianry optical elements，BOE)，通过二元光学位相变化点的横向位置的调制来实现激光远场多级谱点等强度的光点阵列。达曼光栅作为一种可以产生均匀点阵的二元相位型光学器件，属于Fraunhofer型器件，其设计过程基于Fraunhofer衍射原理，如图1所示：单位振幅的平面光入射到达曼光栅上，入射光被衍射并分成多个平行光束，在由凸透镜聚焦之后，在透镜的后焦面上形成均匀分布的光斑阵列。后焦场点阵是入射光的傅立叶变换光谱，每一级光斑均具有相同的强度。
随着激光器的问世给光刻工艺提供了合适的光源，以及二元光学元件的最小线宽达到微米甚至亚微米量级，达曼光栅通常由微电子光刻工艺来制备。其制备工艺主要包括匀胶、曝光、显影和刻蚀等工艺步骤。达曼光栅往往特指具有二个位相台阶的二元光学元件，由于二台阶结构，一般只需采用一个掩模版经过单次光刻工艺就可以加工出来。
基于二维达曼光栅的三维轮廓测量技术基本原理是利用三角原理计算出物体表面每个激光点的三维坐标。其中产生达曼激光点阵的点阵投射器的核心光学元件是一片达曼光栅，通常此点阵投射器需要产生密集点阵比如传统达曼光栅产生64×64密集激光阵列、耦合达曼光栅(coupled Dammann gratings)产生192×192达曼光栅。周常河曾给出传统达曼光栅的2到32的全部数值解，包括64分束的数值解，使64×64传统达曼光栅的制作有所依据，但因为64×64达曼光栅的转折点在半个周期内高达34个和其特征尺寸仅有0.005，其复杂且细微的结构使得在制作上有一定的难度，尤其因为光栅方程d·Sinθ＝kλ可推出，想要在大视场上进行三维测量上，需要光栅周期足够的小，故进一步增加了制作难度。传统达曼光栅由于其设计和制作难度大的问题，难以产生比100×100更密集的光斑阵列，然而可以通过耦合达曼光栅得出更加密集的点阵，比如192×192耦合达曼光栅通过一个特殊设计的3×3达曼光栅和一个64×64达曼光栅耦合到一起，一束光通过耦合达曼光栅可以分散为192×192点阵。但其因为整体结构使用了两片达曼光栅，导致其制作工艺的难度提升和整个器件体积大增大。并且由于入射光接连通过了两片达曼光栅，衍射效率急剧下降。
因此，针对上述问题，本领域技术人员急需提供一种点阵投射器装置及其制备方法。
发明内容
本发明主要目的在于提供一种点阵投射器装置及其制备方法，通过将两个传统二维达曼光栅同相位叠加原理进行相位叠加形成一种双周期复合达曼光栅，复合达曼光栅的产生的点阵是两个不同周期点阵的卷积，可以形成密集点阵。双周期复合达曼光栅的特征尺寸和两个周期中周期较小的达曼光栅特征尺寸一致，在提供大视场点阵的情况下不会增加制作难度。因为双周期复合达曼光栅是一个器件，相较于耦合达曼光栅，衍射效率有了大大的提升。
为达上述目的，本发明提供了一种点阵投射器装置的制备方法，包括如下步骤：
S1，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图；
S2，利用衍射点阵图，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件；
S3，复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。
进一步的，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图的方法如下：首先绘制双周期复合达曼光栅的掩膜图，根据达曼光栅作为二元光学元件特性设定相位差，依据标量衍射理论对设定好的掩膜图案进行傅里叶变换，得到衍射点阵图。
进一步的，复合达曼周期的衍射结果看作为两个不同周期点阵的卷积，通过固定其中一个周期，对另一个周期大小进行调节，观察其衍射结果图，选取其中达到N4次方点阵密度的衍射点阵分布，即为衍射点阵图。
进一步的，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件的方法为：首先将光刻胶通过旋涂至玻璃衬底上，通过前烘去除光刻胶中的溶剂，增加光刻胶和衬底的粘附性，减小显影时暗腐蚀效应；再通过DMD将绘制好的图案投影到光刻胶上进行曝光，最后使用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，将光刻图案转移到光刻胶上，即为复合达曼光栅器件。
进一步的，通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量的方法为：激光器发射准直激光垂直入射到双周期复合达曼光栅上；通过双周期复合达曼光栅的相位调制将光束分成多束，经过傅里叶透镜聚焦，光束打到到衍射屏幕上，在衍射屏上观察衍射光光束的位置分布，并借助光功率计，收集衍射斑点的能量以测量光栅的衍射效率。
一种点阵投射器装置，采用上述任一种点阵投射器装置的制备方法制备而成。
本发明的有益效果在于：
本发明双周期复合达曼光栅形成的点阵为两个不同周期达曼光栅形成点阵的卷积，其特征尺寸为小周期达曼光栅的特征尺寸，可以在不增加制造难度的情况下生成密集点阵。
双周期复合达曼光栅相比于耦合达曼光栅需要分别制备两种达曼光栅，只需要单次制备出单个器件即可使用，其复杂的周期图形可由计算机直接生成，通过DMD投影光刻技术一步进行制备，减少了器件制备的复杂程度和难易程度。
双周期复合达曼光栅应用于三维测量技术，相比于耦合达曼光栅入射光需要经连续过两个达曼光栅，入射光只需要透过一块达曼光栅，其衍射效率大大的提高。
附图说明
图1为为达曼光栅分束原理图；
图2为本发明的一维达曼光栅及其相位分布图；
图3为本发明光栅掩膜图与相应的理论计算衍射斑点图；
图4为本发明maltab直接生成的可用于数字投影光刻的数字掩膜图；
图5为本发明双周期复合达曼光栅扫描电镜照片；
图6为本发明双周期复合达曼光栅的N4(N＝7)衍射点阵分布图；
图7为本发明的复合达曼光栅效果图。
具体实施方式
为达成上述目的及功效，本发明所采用的技术手段及构造，结合附图就本发明较佳实施例详加说明其特征与功能。
本发明提出一种新的复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅。复合达曼光栅的点阵分布可以看作是两个不同周期达曼光栅的卷积，可产生N4密集点阵，解决三维轮廓测量技术中产生密集点阵使用所达曼光栅特征尺寸小，制造工艺难度大的问题以及解决了三维测量中大视场需求的问题。大大简化其制造的工艺难度，为三维轮廓测量提供了大视场、高效率、低成本的点阵的新型二元光学元件。
本发明针对64×64传统达曼光栅制作难度大以及192×192耦合达曼光栅制作工艺复杂等问题，提出了两种周期卷积而成的复合达曼光栅。64×64传统达曼光栅的数值解已经被提出和其器件也已经被制备完成并应用与基于达曼光栅的三维轮廓测量，由64×64达曼光栅的数值解所知，在半个周期内其转折点为：0.01041，0.01743，0.02951，0.04058，0.04768，0.06088，0.07056，0.08398，0.09737，0.10275，0.12850，0.14324，0.21278，0.24661，0.26268，0.28020，0.28895，0.29665，0.31767，0.32416，0.33771，0.36176，0.38281，0.39622，0.41280，0.42374，0.43336，0.43816，0.44859，0.45944，0.4669，0.47427，0.48392，0.48935。64×64达曼光栅的特征尺寸为0.05，而72×72达曼光栅的特征尺寸仅为0.101，意味着制备同样为周期为10μm的达曼光栅，64×64达曼光栅需要的最小精度为50nm，72×72达曼光栅的特征尺寸只需要1μm。50nm的精度对于许多微电子光刻工艺技术都是巨大的挑战，因此大视场的64×64传统达曼光栅面临着极大的制备难度。192×192耦合达曼光栅是由一个特殊设计的3×3达曼光栅和一个64×64达曼光栅耦合到一起得到的，虽然其可以产生更为密集的点阵，但其中64×64达曼光栅的制作工艺难度仍面临挑战。两片达曼光栅的制备以及耦合的过程，无疑增加了制备的难度。另外由于入射光连续通过了两次达曼光栅，入射光每经过一次达曼光栅会发生一次衍射，导致部分光的损失，耦合达曼光栅的成像过程中存在两次衍射，对应的存在衍射效率低问题。
本发明提出了一种双周期复合达曼光栅，这是通过将两个传统二维达曼光栅同相位叠加原理进行相位叠加，复合达曼光栅的产生的点阵是两个不同周期点阵的卷积，可以形成密集点阵。双周期复合达曼光栅的特征尺寸和两个周期中周期较小的达曼光栅特征尺寸一致，在提供大视场点阵的情况下不会增加制作难度。因为双周期复合达曼光栅是一个器件，相较于耦合达曼光栅，衍射效率有了大大的提升。
本发明提供了一种点阵投射器装置的制备方法，包括如下步骤：
S1，提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅。
S2，复合达曼光栅衍射结果仿真：基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真。首先绘制双周期复合达曼光栅的掩膜图，根据达曼光栅作为二元光学元件特性(0和π相位)设定相位差，依据标量衍射理论对设定好的掩膜图案进行傅里叶变换，得到衍射点阵图。对于传统达曼光栅来说，标量衍射理论所计算的衍射结果和周期没有关系，但由于引入了第二个周期，两个周期的相对比例对衍射结果会产生决定性的影响，通过固定其中一个周期，对另一个周期大小进行调节，观察其衍射结果图，选取其中最为合适的衍射点阵分布(可以达到N4次方点阵密度)。
S3，DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件：双周期复合达曼光栅结构复杂，若使用传统光刻技术制备，其掩膜图案难以制备；若使用激光直写或电子束光刻技术，在对应软件上进行掩膜图案的绘制将十分复杂。DMD投影光刻中所使用的数字掩膜可以由matlab进行光栅衍射仿真时直接生成，省去了绘制的麻烦。DMD投影光刻制备流程如下，首先将光刻胶通过旋涂至玻璃衬底上，通过前烘去除光刻胶中的溶剂，增加光刻胶和衬底的粘附性，减小显影时暗腐蚀效应。再通过DMD将绘制好的图案投影到光刻胶上进行曝光，最后使用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，即可将光刻图案转移到光刻胶上，即为达曼光栅器件；无需很高的分辨率，制备工艺简单。
S4，复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所研制的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。激光器发射准直激光垂直入射到双周期复合达曼光栅上。通过双周期复合达曼光栅的相位调制将光束分成多束，经过傅里叶透镜聚焦，光束打到到衍射屏幕上，可在衍射屏上观察衍射光光束的位置分布，并借助光功率计，收集衍射斑点的能量以测量光栅的衍射效率。
本发明首先提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；其次是利用matlab仿真复合达曼光栅点阵分布，可以达到N4次方点阵密度，如图6所示；再利用DMD无掩膜光刻技术制备这种结构，无需很高的分辨率，制备工艺简单；再次成像实验和衍射效率的测量实验。该器件是在二维达曼光栅的基础上，通过相位叠加原理形成的一种新型的二元光学元件，在不增加制作工艺难度的基础上，可以形成大视场的密集点阵，为三维达曼测量技术提供了一种全新的密集点阵光源。更值得一提的是由于是一片二元光学元件成像，为三维达曼光栅测量技术提供密集点阵时，不增加器件的复杂程度，同时保留了较高的衍射效率。该方法为三维达曼光栅测量技术中的点阵光源提供了一种易制备、效率高、单片式的二元光学元件。
本发明还提供了一种点阵投射器装置，采用上述任一种点阵投射器装置的制备方法制备而成。
本发明双周期复合达曼光栅形成的点阵为两个不同周期达曼光栅形成点阵的卷积，其特征尺寸为小周期达曼光栅的特征尺寸，可以在不增加制造难度的情况下生成密集点阵。双周期复合达曼光栅相比于耦合达曼光栅需要分别制备两种达曼光栅，只需要单次制备出单个器件即可使用，其复杂的周期图形可由计算机直接生成，通过DMD投影光刻技术一步进行制备，减少了器件制备的复杂程度和难易程度。双周期复合达曼光栅应用于三维测量技术，相比于耦合达曼光栅入射光需要经连续过两个达曼光栅，入射光只需要透过一块达曼光栅，其衍射效率大大的提高。
实施例
本发明提供了一种点阵投射器装置的制备方法，包括如下步骤：
1.提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；
2.复合达曼光栅衍射结果仿真
首先绘制双周期复合达曼光栅的掩膜图，根据达曼光栅作为二元光学元件特性(0和π相位)设定相位差。从简单的思路证明此概念的可行，所选取结构简单的的基本单位一维达曼光栅为1×7点阵达曼光栅，其转折点仅有三个，为0.23191、0.42520、0.52571，特征尺寸0.101，具有转折点少、容易制备等优点。将转折点和相位信息通过matlab展示如图2所示，图2(a)为一维达曼光栅，图2(b)为其相位分布图。
其次，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真。对于传统达曼光栅来说，标量衍射理论所计算的衍射结果和周期没有关系，故此处横坐标没有具体意义。但由于引入了第二个周期，两个周期的相对比例对衍射结果会产生决定性的影响，复合达曼周期的衍射结果可以看作为两个不同周期点阵的卷积，通过固定其中一个周期，对另一个周期大小进行调节，观察其衍射结果图，选取其中最为合适的衍射点阵分布，图3(a)与图3(b)为二维达曼光栅掩膜图，图3(c)为复合达曼光栅掩膜图。在绘制好掩膜图的基础上，依据标量衍射理论对设定好的掩膜图案进行傅里叶变换，得到衍射点阵图，图3(d)与图3(e)分别为与图3(a)与图3(b)对应的理论计算衍射斑点图。经过模拟得到周期比为1：8时，得到的密集点阵效果最好，如图3(f)所示。
3.DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件
双周期复合达曼光栅结构复杂，若使用传统光刻技术制备，其掩膜图案难以制备；若使用激光直写或电子束光刻技术，在对应软件上进行掩膜图案的绘制将十分复杂。DMD投影光刻中所使用的数字掩膜可以由matlab进行光栅衍射仿真时直接生成，将之前用于仿真绘制的掩膜图保存为BMP格式，通过色位的修改使其满足DMD投影光刻设备的使用条件即可直接使用。图4为生成数字掩膜的一个周期单元。
DMD投影光刻制备流程如下，首先将光刻胶通过旋涂至玻璃衬底上，通过前烘去除光刻胶中的溶剂，增加光刻胶和衬底的粘附性，减小显影时暗腐蚀效应。再通过DMD将绘制好的图案投影到光刻胶上进行曝光，最后使用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，即可将光刻图案转移到光刻胶上，即为达曼光栅器件，如图5所示。
4.复合达曼光栅性能检测
通过成像实验评估所研制的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。激光器发射准直激光垂直入射到双周期复合达曼光栅上。通过双周期复合达曼光栅的相位调制将光束分成多束，经过傅里叶透镜聚焦，光束打到到衍射屏幕上，可在衍射屏上观察衍射光光束的位置分布，并借助光功率计，收集衍射斑点的能量以测量光栅的衍射效率，如图7所示。
以上所述，仅是本发明较佳实施例而已，并非对本发明的技术范围作任何限制，故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (3)
1.一种点阵投射器装置的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1，提出一种双周期复合达曼光栅，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；
S2，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图；
首先绘制双周期复合达曼光栅的掩膜图，根据达曼光栅作为二元光学元件特性设定相位差，依据标量衍射理论对设定好的掩膜图案进行傅里叶变换，得到衍射点阵图；
复合达曼周期的衍射结果看作为两个不同周期点阵的卷积，通过固定其中一个周期，对另一个周期大小进行调节，观察其衍射结果图，选取其中合适的衍射点阵分布，即为衍射点阵图；
S3，利用衍射点阵图，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件；
采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件的方法为：首先将光刻胶通过旋涂至玻璃衬底上，通过前烘去除光刻胶中的溶剂，增加光刻胶和衬底的粘附性，减小显影时暗腐蚀效应；再通过DMD将绘制好的图案投影到光刻胶上进行曝光，最后使用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，将光刻图案转移到光刻胶上，即为复合达曼光栅器件；
S4，复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。
2.如权利要求1所述的一种点阵投射器装置的制备方法，其特征在于，通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量的方法为：激光器发射准直激光垂直入射到双周期复合达曼光栅上；通过双周期复合达曼光栅的相位调制将光束分成多束，经过傅里叶透镜聚焦，光束打到到衍射屏幕上，在衍射屏上观察衍射光光束的位置分布，并借助光功率计，收集衍射斑点的能量以测量光栅的衍射效率。
3.一种点阵投射器装置，其特征在于，采用权利要求1-2任一项所述的一种点阵投射器装置的制备方法制备而成。
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| CN109739027A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-05-10 | 北京华捷艾米科技有限公司 | 光点阵投影模组和深度相机 |
| CN112557359A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-26 | 深圳大学 | 基于空间光调制器的双光子多焦点显微成像系统及方法 |
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102385169A (zh) * | 2011-11-29 | 2012-03-21 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 三维达曼阵列产生器 |
| CN102566056A (zh) * | 2012-01-06 | 2012-07-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 组合达曼光栅 |
| CN102565903A (zh) * | 2012-01-11 | 2012-07-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 随机达曼光栅的制备方法 |
| CN104280802A (zh) * | 2014-10-17 | 2015-01-14 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 复合达曼涡旋光栅 |
| CN109739027A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-05-10 | 北京华捷艾米科技有限公司 | 光点阵投影模组和深度相机 |
| CN112557359A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-26 | 深圳大学 | 基于空间光调制器的双光子多焦点显微成像系统及方法 |
| WO2022119446A1 (en) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | Technische Universiteit Delft | Fiber-bragg grating sensor |
Non-Patent Citations (1)
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| 达曼光栅的设计与制作方法探讨;王晓玲, 周哲海, 周丽;《激光杂志》;第43卷(第2期);第15-20页 * |
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