CN116438477A

CN116438477A - 具有色移减少的阻挡层的可热处理涂层

Info

Publication number: CN116438477A
Application number: CN202180072070.6A
Authority: CN
Inventors: S·纳拉亚南; A·甘卓; A·D·波尔辛
Original assignee: Vitro SAB de CV
Current assignee: Vitro SAB de CV
Priority date: 2020-10-21
Filing date: 2021-10-20
Publication date: 2023-07-14
Also published as: AU2021364661A1; KR20230091954A; MX2023004459A; WO2022087100A1; CA3196314A1; US20220119934A1; JP2023547100A; EP4232853A1; CO2023006488A2

Abstract

一种涂覆的制品包括具有第一表面和第二表面的基材以及施加在第一表面或第二表面上的功能涂层。所述功能涂层包括在所述基材的至少一部分的上方的阻挡层、在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层、以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层。涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.5的光学色移。

Description

具有色移减少的阻挡层的可热处理涂层

相关申请的交叉引用

本申请要求2021年10月19日提交的美国专利申请No.17/504968的权益，所述美国专利申请No.17/504968要求了2020年10月21日提交的美国临时申请No.63/094584的权益，所述申请的公开内容都以引用方式全部并入。

技术领域

本发明涉及一种阻挡层，更具体地，涉及一种阻止碱金属、碱土金属离子和金属离子(如钠离子)从玻璃基材扩散到介质(例如涂层，如阳光控制涂层)中或从介质(例如涂层，如阳光控制涂层)扩散到玻璃基材中的阻挡层。

背景技术

阳光控制涂层在建筑和交通工具的透明件领域是已知的。这些阳光控制涂层阻挡或过滤选定范围的电磁辐射，例如在阳光红外辐射或太阳能紫外辐射范围内的电磁辐射，以减少进入交通工具或建筑物的太阳能量。这种太阳能透射率的降低有助于降低所述交通工具或建筑物的制冷单元的负荷。

这些阳光控制涂层通常包括一个或多个连续的金属层，以提供太阳能反射，特别是在阳光红外区域。以低于临界厚度沉积的金属层(本文称为“亚临界层”)形成不连续的区域或岛，而不是连续的层。这些不连续的层通过被称为表面等离子体(Plasmon)共振的效应而吸收电磁辐射。这些亚临界层通常在可见光区域中具有比相同材料的连续层更高的吸收率，并且还具有更低的太阳能反射率。

在加热具有阳光控制涂层的涂覆制品时，由于阳光控制涂层的各层的光学性能的变化，可发生不希望的色移。希望生产这样一种阳光控制涂层，其中涂层的吸收和/或涂覆的制品的颜色可以在加热之前和加热之后得到保持。

发明内容

本发明涉及一种包括基材的涂覆的制品。基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。功能涂层施加在第一表面或第二表面上方。阻挡层定位在基材的至少一部分的上方。金属性层定位在阻挡层的至少一部分的上方。顶层定位在金属性层的至少一部分的上方。

本发明涉及一种包括基材的涂覆的制品，所述基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。功能涂层施加在第一表面或第二表面上方。阻挡层定位在所述基材的至少一部分的上方，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜，其中阻挡层的第一膜是阻挡膜；其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。金属性层定位在阻挡层的至少一部分的上方。顶层定位在金属性层的至少一部分的上方。所述涂覆的制品是可回火的。

本发明涉及一种制备包括基材的涂覆制品的方法。提供包括第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材。在第一表面或第二表面的至少一部分的上方形成阻挡层。在阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层。在金属性层的至少一部分的上方形成顶层。涂覆的制品在回火后的光学色移(通过ΔEcmc测量)不超过4.5。

本发明涉及一种制造涂覆的制品的方法。提供了一种涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。所述涂覆的制品包括在第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层、在阻挡层的至少一部分的上方的金属性层以及在金属性层的至少一部分的上方的顶层。将所述涂覆的制品回火。涂覆的制品在回火后的光学色移(通过ΔEcmc测量)不超过4.5。

本发明涉及一种包括第一片层(p1y)和第二片层的隔绝玻璃单元。所述第一片层包括1号表面和与1号表面相对的2号表面。第二片层包括3号表面和4号表面。第二片层与第一片层间隔开，并且第一片层和第二片层连接在一起。功能涂层定位在4号表面或3号表面的至少一部分的上方。阻挡层定位在4号表面或3号表面的至少一部分的上方。金属性层定位在阻挡层的至少一部分的上方。顶层定位在金属性层的至少一部分的上方。

本发明涉及一种减少涂覆制品的金属性层中枝晶的形成的方法。提供了一种基材，所述基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。在第一表面或第二表面的至少一部分的上方形成阻挡层。在阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层。在金属性层的至少一部分的上方形成顶层，由此形成涂覆的制品。将所述涂覆的制品回火。涂覆的制品在回火后减少了金属性层中的枝晶形成。

本发明涉及一种减少涂覆制品的金属性层中枝晶形成的方法。提供了一种涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。涂覆的制品包括在第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层、在阻挡层的至少一部分的上方的金属性层以及在金属性层的至少一部分的上方的顶层。将所述涂覆的制品回火。涂覆的制品在回火后减少了金属性层中的枝晶形成。

本发明涉及一种减少涂覆的制品的红雾(red haze)的方法。提供了一种基材，所述基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。在第一表面或第二表面的至少一部分的上方形成阻挡层。在阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层。在金属性层的至少一部分的上方形成顶层，由此形成涂覆的制品。将所述涂覆的制品回火。涂覆的制品在回火后减少了红雾。

本发明涉及一种减少涂覆的制品的红雾的方法。提供了一种涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。涂覆的制品包括在第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层、在阻挡层的至少一部分的上方的金属性层以及在金属性层的至少一部分的上方的顶层。将所述涂覆的制品回火。涂覆的制品在回火后减少了红雾。

附图的简要说明

图1A是具有本发明涂层的示例性隔绝玻璃单元(“IGU”)的侧视图(未按比例)。

图1B是具有本发明涂层的示例性透明件的截面图。

图2A、2B和2C是根据本发明一个示例的单一金属涂层的截面图(未按比例)。图2A为单一金属涂层，其包括基材、阻挡层、金属性层、底漆层、顶层和保护性涂层。图2B为图2A的单一金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括两个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。图2C为图2A的单一金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层、包括三个膜的顶层和包括两个膜的保护性涂层。

图3A、3B和3C是根据本发明的一个示例的双重金属涂层的截面图(未按比例)。图3A为双重金属涂层，其包括基材、阻挡层、金属性层、底漆层、第一中间层、第二金属性层、底漆层、顶层和保护性涂层。图3B是图3A的双重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括三个膜的第一中间层，包括两个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。图3C是图3A的双重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层、包括三个膜的第一中间层、包括三个膜的顶层和包括两个膜的保护性涂层。

图4A、4B和4C是根据本发明的一个示例的三重金属涂层的截面图(未按比例)。图4A为三重金属涂层，其包括基材、阻挡层、金属性层、底漆层、第一中间层、第二金属性层、第二底漆层、第二中间层、第三金属性层、第三底漆层、顶层和保护性涂层。图4B是图4A的三重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括三个膜的第一中间层，包括三个膜的第二中间层、包括两个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。图4C是图4A的三重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括三个膜的第一中间层，包括三个膜的第二中间层，包含三个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。

图5A、5B和5C是根据本发明的一个示例的四重涂层的截面图(未按比例)。图4A为四重金属涂层，其包括基材、阻挡层、金属性层、底漆层、第一中间层、第二金属性层、第二底漆层、第二中间层、第三金属性层、第三底漆层、第三中间层、第四金属性层、第四底漆层、顶层和保护性涂层。图5B是图5A的四重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括三个膜的第一中间层，包括三个膜的第二中间层，包括三个膜的第三中间层，包括两个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。图5C是图5A的四重金属涂层，描绘了包括三个膜的阻挡层，包括三个膜的第一中间层，包括三个膜的第二中间层，包括三个膜的第三中间层，包括三个膜的顶层，以及包括两个膜的保护性涂层。

图6是涂有具有阻挡层的功能涂层的玻璃基材的色移的图形表示。阻挡层具有不同厚度的氮化铝硅(SiAlN)、氮氧化铝硅(SiAlON)或氧化铝硅(SiAlO)的阻挡膜。基线(baseline)玻璃基材具有无阻挡膜的第一介电层。

发明详述

如本文所用，空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等，如附图所示与本发明有关。然而，应该理解的是，本发明可以采用各种替代的取向，因此，这些术语不应被认为是限制性的。此外，如本文所用，说明书和权利要求书中使用的所有表示维度、物理特性、工艺参数、成分数量、反应条件等的数字应理解为在所有情况下都由术语“约”修饰。因此，除非有相反的指示，否则以下说明书和权利要求中陈述的数值可能会根据本发明寻求获得的期望性能而变化。至少，并试图限制等同原则用在权利要求的范围内，每个数值至少应根据报告的有效数字的数量并通过应用普通舍入技术来解释。此外，本文公开的所有范围应被理解为包括范围起始值和范围结束值以及其中包含的任何和所有子范围。例如，“1至10”的规定范围应被视为包括最小值1和最大值10之间的任何和所有子范围(包含端值)；也就是说，以1或更大的最小值开始并且以10或更小的最大值结束的所有子范围，例如，1至3.3、4.7至7.5、5.5至10等等。一(“a”or“an”)是指一个或多个。

此外，如本文所使用的，术语“在…上方形成”、“在…上方沉积”或“在…上方提供”是指在表面上形成、沉积或提供，但未必与表面接触。例如，在基材“上方形成”的涂层并不排除在形成的涂层和基材之间存在一个或多个相同或不同组成的其他涂层或膜。此外，本文提及的所有文件，例如但不限于已公布的专利和专利申请，应视为全部“通过引用整体并入”。如本文所用，术语“膜”是指所需或所选涂层组合物的涂层区域。一个“层”可以包括一个或多个“膜”，而一个“涂层”或“涂层叠层”可以包含一个或几个“层”。术语“非对称反射率”是指涂层从一侧的可见光反射率与从另一侧的可见光反射率不同。术语“临界厚度”是指这样的厚度：大于这个厚度则涂层材料形成连续、不间断的层，且小于这个厚度则涂层材料形成涂层材料的不连续的区域或岛而不形成连续层。术语“亚临界厚度”是指低于临界厚度的厚度，使得涂层材料形成涂层材料的孤立的不连续区域。术语“岛”是指涂层材料不是连续的层，而是指材料被沉积以形成孤立的区域或岛。

出于以下讨论的目的，本文所述的涂覆的制品可以参考建筑透明件的使用进行讨论，例如但不限于隔绝玻璃单元(IGU)。如本文所用，术语“建筑透明件”是指位于建筑物上的任何透明件，例如但不限于窗户和天窗。然而，应当理解，本文所述的涂覆的制品不限于与这种建筑透明件一起使用，而是可以与任何期望领域中的透明材料一起实践，例如但不限于层压或非层压的住宅和/或商业窗户、隔绝玻璃单元和/或用于陆地、空中、太空、水上和水下交通工具。在一个方面或实施方案中，本文所述的涂覆的制品是用于交通工具中的透明件，例如车窗或天窗。因此，应当理解，具体公开的示例性方面或实施方案仅用于解释本发明的一般概念，并且本发明不限于这些特定的示例性实施方案。此外，虽然典型的“透明件”可以具有足够的可见光透射率，使得可以通过透明件观察物体，但“透明件”不必对可见光透明，而是可以是半透明或不透明的。也就是说，“透明”是指可见光透射率大于0％直至100％。

包含本发明特征的非限制性透明件10如图1A所示。透明件10可以具有任何期望的可见光、红外辐射或紫外辐射透射和/或反射。

图1A的示例性透明件10为常规隔绝玻璃单元的形式，且包括具有第一主表面14(1号表面)和相对的第二主表面16(2号表面)的第一片层12。在所示的非限制性实施方案中，第一主表面14面向建筑物外部，即，为外主表面，并且第二主表面16面向建筑物内部。透明件10还包括第二片层18，所述第二片层具有内(第一)主表面20(3号表面)和外(第二)主表面22(4号表面)并与第一片层12间隔开。在一些实施方案中，隔绝玻璃单元包括具有第一主表面(5号表面)和相对的第二主表面(6号表面)的第三片层。片层表面的这种编号与窗户配列技术中的常规实践保持一致。第一片层12和第二片层18可以以任何合适的方式连接，例如通过粘合到常规的间隔框架24。在两个片层12、18之间形成间隙或腔室26。腔室26可以填充有选定的气氛，例如空气，或者非反应性气体如氩气或氪气。涂层30(或下文所述的任何其它涂层)形成在3号表面20的至少一部分或4号表面22的至少一部分或5号表面的至少一部分或6号表面的至少一部分的上方。涂层30不在1号表面14的至少一部分的上方或2号表面16的至少一部分的上方。隔绝玻璃单元的实例可在例如美国专利4193228、4464874、5088258、和5106663中找到。

图1B的示例性透明件为交通工具的常规透明件110的形式，例如车窗或天窗。为清楚起见，未显示密封件、连接器和打开机构，也未显示整个交通工具。透明件包括安装在交通工具118(部分示出)的主体中的第一片层112，所述第一片层112具有第一主表面114(1号表面)和相对的第二主表面116(2号表面)。在所示的非限制性实施方案中，第一主表面114面向交通工具的外部，因此是外主表面，并且第二主表面116面向交通工具的内部。交通工具主体的非限制性示例包括：在天窗的情况下为汽车车顶、在车窗的情况下为车门或车架、或飞机的机身。所述透明件可以固定到可以用于打开和关闭所述透明件(例如车窗或天窗)的机构上，这在交通工具领域是众所周知的。涂层130或本文所述的任何其它涂层被显示为形成在1号表面114的上方，它可以形成在2号表面116的至少一部分的上方。

在本发明的广泛实践中，透明件10、110的片层12、18、112可以是相同或不同的材料。片层12、18、112可以包括具有任何所需特性的任何期望材料。例如，片层12、18、112中的一个或多个可以是对可见光透明的或半透明的。“透明”是指具有大于0％直至100％的可见光透射率。或者，片层12、18、112中的一个或多个可以是半透明的。“半透明”是指允许电磁能(如可见光)通过但散射这种能量，使观察者看不清楚对面的物体。合适材料的实例包括但不限于塑料基材(例如丙烯酸聚合物，如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚烷基对苯二甲酸酯，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物、或其任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或上述任何的混合物或组合。例如，片层12、18、112中的一个或多个可以包括常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可以是透明的玻璃。“透明的玻璃”是指非有色或未着色的玻璃。或者，玻璃可以是有色玻璃或以其他方式着色的玻璃。所述玻璃可以是退火或热处理的玻璃。如本文所用，术语“热处理”是指回火或至少部分回火。玻璃可以是任何类型，例如常规浮法玻璃，且可以是具有任何光学性能的任何组成，例如任何值的可见光透射率、紫外透射率、红外透射率和/或总太阳能透射率。“浮法玻璃”是指通过常规的浮法工艺形成的玻璃，在该工艺中，将熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并受控冷却以形成浮法玻璃带。浮法玻璃工艺的实例公开于美国专利4466562和4671155中。

片层12、18、112可以各自包括例如透明的浮法玻璃，或者可以是有色或着色的玻璃，或者片层12，18之一可以是透明的玻璃，而片层12，18中的另一者是着色的玻璃。尽管不是限制性的，但适用于第一片层12和/或第二片层18的玻璃的实例描述在美国专利4746347、4792536、5030593、5030594、5240886、5385872、和5393593中。片层12、18、112可以具有任何期望的维度，例如长度、宽度、形状或厚度。在一个示例性的汽车透明件中，第一片层和第二片层各自的厚度可以为1mm至10mm，例如1mm至8mm，例如2mm至8mm，例如3mm至7mm，例如5mm至7mm，例如6mm。

在本文所述的涂覆制品的非限制性实施方案中，本发明的涂层30、130沉积在玻璃层12、18、112之一的至少一个主表面的至少一部分的上方。在根据图1A的示例中，涂层30形成在内侧(inboard)玻璃片层18、112的内表面20的至少一部分的上方；另外地或替代地，应当理解，在与本公开一致的非限制性实例中，可以在内侧玻璃层18的外表面22的至少一部分的上方形成阳光控制涂层。如本文所用，术语“阳光控制涂层”是指包含一个或多个层或膜的涂层，这些层或膜影响涂覆的制品的太阳能性能，例如但不限于从涂覆的制品反射、被涂覆的制品吸收或穿过涂覆的制品的太阳辐射(例如，可见、红外或紫外辐射)的量；遮阳系数；发射系数等。阳光控制涂层30可以阻挡、吸收或过滤太阳光谱的选定部分，例如但不限于IR、UV和/或可见光谱。

本文所述的涂层，例如阳光控制涂层30、130，可以通过任何有用的方法沉积，例如但不限于常规的化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)工艺。CVD工艺的实例包括喷雾热解。PVD工艺的实例包括电子束蒸发和真空溅射(例如磁控溅射气相沉积(MSVD))。也可以使用其他涂覆方法，例如但不限于溶胶-凝胶沉积。在一个非限制性实施方案中，通过MSVD沉积涂层30、130。本领域普通技术人员将很好地理解MSVD涂覆装置和方法的实例，并且其描述在例如美国专利4379040、4861669、4898789、4898790、4900633、4920006、4938857、5328768、和5492750中。

涂覆的制品包括基材210。基材210可以包括任何期望的性能，并且具有任何期望的厚度。基材210可以包括任何合适的一种或多种透明材料，例如但不限于上文在片层12、18和112的上下文中所描述的聚合物、玻璃和/或陶瓷基材。在非限制性示例中，基材210可以包括如上参考片层12、18、112所述的玻璃基材，如图1A或1B所示。然而，应当理解，本发明也可以应用于其他基材，例如用于太阳能电池的基材。

功能涂层30，130可以包括透明导电氧化物(TCO)，例如但不限于，如美国专利申请公开号2019/0043640中所公开的。功能涂层30，130可以包括如美国专利申请公开号2017/0341977、2014/0272453、2011/02278715和/或美国专利申请号15/669414中任一项所述的叠层或其任何部分。

涂层30、130可以是单一金属涂层31、131，例如一个金属性层，或双重金属涂层32、132(例如两个金属性层)，或三重金属涂层33、133(例如三个金属性层)，或四重金属涂层34、134(例如四个金属性层)。适用于单一金属涂层31、131的示例性非限制性涂层如图2A-2C所示。适用于双重金属涂层32、132的示例性非限制性涂层如图3A-3C所示。适用于三重金属涂层33、133的示例性非限制性涂层如图4A-4C所示。适用于四重金属涂层34、134的示例性非限制性涂层如图5A-5C所示。

示例性涂层30、130包括一个金属性层(即，单一金属涂层31、131)，如图2A所示。单一金属涂层31、131包括阻挡层220，该阻挡层220定位在基材210的至少一部分(例如，第二片层18的4号表面22或第二片层18的3号表面20)的上方或与之直接接触。金属性层228定位在阻挡层220的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第一底漆层230可以定位在金属性层228的至少一部分的上方或与之直接接触。顶层300定位在任选第一底漆层230或金属性层228的至少一部分的上方或与之直接接触。任选最外保护性涂层320可以定位在顶层300的至少一部分的上方或与之直接接触。

示例性涂层30、130包括两个金属性层(即双重金属涂层32、132)，如图3A所示。双重金属涂层32、132包括阻挡层220，该阻挡层220定位在基材210的至少一部分(例如，第二片层18的4号表面22或第二片层18的3号表面20)的上方或与之直接接触。金属性层228定位在阻挡层220的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第一底漆层230可以定位在金属性层228的至少一部分的上方或与之直接接触。第一中间层240定位在任选第一底漆层230或金属性层228的至少一部分的上方。第二金属性层248定位在第一中间层240的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第二底漆层250定位在第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。顶层300定位在任选第二底漆层250或第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。任选最外保护性涂层320可以定位在顶层300的至少一部分的上方或与之直接接触。

示例性涂层30、130包括三个金属性层(即三重金属涂层33、133)，如图4A所示。三重金属涂层33、133包括阻挡层220，该阻挡层220定位在基材210的至少一部分(例如，第二片层18的4号表面22或第二片层18的3号表面20)的上方或与之直接接触。金属性层228定位在阻挡层220的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第一底漆层230可以定位在金属性层228的至少一部分的上方或与之直接接触。第一中间层240定位在任选第一底漆层230或金属性层228的至少一部分的上方。第二金属性层248定位在第一中间层240的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第二底漆层250定位在第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。第二中间层260定位在任选第二底漆层250或第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。第三金属性层268定位在第二中间层260的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第三底漆层270定位在第三金属性层268的至少一部分的上方或与之直接接触。顶层300定位在任选第三底漆层270或第三金属性层268的至少一部分的上方或与之直接接触。任选最外保护性涂层320可以定位在顶层300的至少一部分的上方或与之直接接触。

示例性涂层30、130包括四个金属性层(即四重金属涂层34、134)，如图5A所示。四重金属涂层34、134包括阻挡层220，阻挡层220定位在基材210的至少一部分(例如，第二片层18的4号表面22或第二片层18的3号表面20)的上方或与之直接接触。金属性层228定位在阻挡层220的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第一底漆层230可以定位在金属性层228的至少一部分的上方或与之直接接触。第一中间层240定位在任选第一底漆层230或金属性层228的至少一部分的上方。第二金属性层248定位在第一中间层240的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第二底漆层250定位在第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。第二中间层260定位在任选第二底漆层250或第二金属性层248的至少一部分的上方或与之直接接触。第三金属性层268定位在第二中间层260的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第三底漆层270定位在第三金属性层268的至少一部分的上方或与之直接接触。第三中间层280定位在任选第三底漆层270或第三金属性层268的至少一部分的上方或与之直接接触。第四金属性层288定位在第三中间层280的至少一部分的上方或与之直接接触。任选第四底漆层290定位在第四金属性层288的至少一部分的上方或与之直接接触。顶层300定位在任选第四底漆层290或第四金属性层288的至少一部分的上方或与之直接接触。任选最外保护性涂层320可以定位在顶层300的至少一部分的上方或与之直接接触。

本发明的示例性非限制性功能涂层30、130如图2A-2C、3A-3C、4A-4C和5A-5C所示。该功能涂层30、130包括沉积在基材210的主表面的至少一部分的上方的阻挡层220。阻挡层220防止锌、钠、钙、镁、碱金属元素、碱土元素或其组合物的扩散。

功能涂层30、130包括在基材的至少一部分的上方的阻挡层220。阻挡层220可以包括多于一个抗反射材料和/或介电材料膜，例如但不限于金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氮氧化物、或其混合物。阻挡层220可以对可见光是透明的。用于阻挡层220的合适金属氧化物的实例包括以下元素的氧化物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、铝、硅及其混合物。这些金属氧化物可以具有少量的其他材料，例如氧化铋中的锰、氧化铟中的锡等。此外，可以使用金属合金或金属混合物的氧化物，例如含有锌和锡的氧化物(例如，锡酸锌，定义如下)、铟锡合金的氧化物、含有锌和铝的氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物，或铝氮化物。此外，可以使用掺杂的金属氧化物，例如锑或铟掺杂的锡氧化物或者镍或硼掺杂的硅氧化物。阻挡层220可以是基本上单相的膜，例如金属合金氧化物膜，例如锡酸锌，或者可以是由锌和锡氧化物组成的相的混合物，或者可以由多个膜组成。

如图2B-2C、3B-3C、4B-4C和5B-5C所示，阻挡层220可以包括第一膜222、第二膜224和第三膜226，其中第一膜222是阻挡膜。阻挡膜222在基材的至少一部分的上方，第二膜224在阻挡膜222的至少一部分的上方，并且第三膜226在第二膜224的至少一部分的上方。

在示例性实施方案中，阻挡膜222可以包括金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物、或其组合。在一个非限制性实施方案中，阻挡膜222包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括氧化硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括氮化铝硅。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括氮氧化铝硅。

阻挡膜222可以从两个阴极(例如，一个硅和一个铝)溅射，或者从包含硅和铝的单个阴极溅射。阻挡膜222可以包括5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅，例如10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅，如20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。在一个示例性实施方案中，阻挡膜222包括硅和铝，所述硅和铝包括5重量％的铝和95重量％的硅。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括硅和铝，所述硅和铝包括10重量％的铝和90重量％的硅。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括硅和铝，所述硅和铝包括15重量％的铝和85重量％的硅。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括硅和铝，所述硅和铝包括20重量％的铝和80重量％的硅。在另一个实施方案中，阻挡膜222包括硅和铝，所述硅和铝包括25重量％的铝和75重量％的硅。

通过在氧(O₂)气氛中溅射金属或金属合金来形成氧化物阻挡膜222，所述气氛具有形成大于0％O₂至小于或等于100％O₂的气氛的特定流量。流量是气氛中O₂的量的近似表示，但是本领域普通技术人员将认识到，由于涂覆室没有对外部环境的气密密封，因此可能有另外的O₂泄漏到涂覆室中。例如，02流量(即，用于沉积材料的腔室的气氛中O₂的浓度)可以在0％至50％的范围内，例如10％至50％，例如20％至30％，例如20％-40％，例如20％-50％，例如30％至40％，例如30％-50％。所述气氛的其余部分可以是惰性气体，例如氩。

通过在氮(N₂)气氛中溅射金属或金属合金形成氮化物阻挡层222，所述气氛具有形成大于0％N₂至小于或等于100％N₂的气氛的特定流量。流量是气氛中N₂的量的近似表示，但是本领域普通技术人员将认识到，由于涂覆室没有对外部环境的气密密封，因此可能有另外的N₂泄漏到涂覆室中。例如，N₂流量(即，用于沉积材料的腔室的气氛中N₂的浓度)可以在0％至80％的范围内，例如1％至40％，例如3％至35％，例如5％至30％，例如5％-80％。所述气氛的其余部分可以是惰性气体，例如氩。

可以通过在O₂和N₂环境中溅射金属或金属合金来形成氮氧化物阻挡层222。例如，N₂流量(即，沉积材料的腔室的气氛中N2的浓度)可以为50％至100％，且O₂流量(即沉积材料的腔室的气氛中O₂的浓度)可为0％至50％。N₂流量可以是95％至50％，O₂流量可以是5％至50％，例如90％至50％的N₂和10％至50％的O₂，例如80％至50％的N₂和20％至50％的O₂，例如70％至50％的N₂和30％至50％的O₂。在一个实施方案中，N₂流量可以是90％，O₂流量可以是10％。在一个实施方案中，N₂流量可以是80％，O₂流量可以是20％。在一个实施方案中，N₂流量可以是70％，O₂流量可以是30％。在一个实施方案中，N₂流量可以是60％，O₂流量可以是40％。在一个实施方案中，N₂流量可以是50％，O₂流量可以是50％。

金属氮氧化物中氧和氮的原子比是基于N2流量和02流量的近似值。金属氮氧化物中氧和氮的原子比可以在0重量％至100重量％之间变化，其中重量％是指组合物中N或0的质量与N+0的总质量的比率，不包括金属氮氧化物的金属。金属氮氧化物阻挡膜222包括0重量％的氧，并且不超过50重量％的氧；不超过40重量％的氧；不超过30重量％的氧；不超过20重量％的氧；不超过10重量％的氧；不超过5重量％的氧。金属氮氧化物膜中氧和氮的有用原子比的非限制性实例包括，例如但不限于，5％一50％0与95％一50％N；从10％至50％的0与从90％至50％的N；从15％至40％的0与从85％至60％的N；从20％至50％的0与从80％至50％的N；从25％至45％的0与从75％至55％的N；从30％至50％的0与从70％至50％的N；从40％至50％的0与从60％至50％的N；或50％的0和50％的N。

根据本公开的阻挡膜222，例如包含氮氧化铝硅的膜，在550nm处可以具有至少1.4且不大于2.3的折射指数。在一个实施方案中，阻挡膜222具有至少1.45且不大于2.2的折射指数。在另一个实施方案中，阻挡膜222的折射指数为1.70至1.80，例如1.75。应当理解，阻挡膜222的折射指数至少部分地取决于阻挡膜中存在的氮的重量百分比。

阻挡膜222可以包括

至/>

的总厚度，优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

在一个非限制性实施方案中，阻挡层220的第二膜224包括锡酸锌。“锡酸锌”是指Zn_XSn_1-XO_2-X(式1)的组成，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可以大于0，且可以是大于0至小于1之间的任何分数或小数。例如，当x＝2/3时，式1为Zn_2/3Sn_1/3O_4/3，其更通常描述为“Zn₂SnO₄”。含锡酸锌的膜在该层中具有占主要量一种或多种式1的形式。

在一个非限制性实施方案中，阻挡层220的第三膜226可以是锌/锡合金氧化物。“锌/锡合金氧化物”是指真正的合金、和氧化物的混合物。氧化锌可以从锌阴极沉积，所述锌阴极包括其他材料以改善阴极的溅射特性。这样，可以从锌和锡的阴极由磁控溅射真空沉积获得锌/锡合金氧化物。例如，锌阴极可以包括少量(例如，最多20重量％、最多15重量％、最多10重量％或最多5重量％)的锡，以改善溅射。在这种情况下，得到的氧化锌膜将包括小百分比的氧化锡，例如最多10重量％的氧化锡、例如最多5重量％的氧化锌。从具有最多10wt.％锡(添加以增强阴极的导电性)的锌阴极沉积的涂层在本文中被称为“氧化锌膜”，即使可能存在少量锡。一种非限制性阴极可以包括锌和锡，其比例为从5重量％至95重量％锌和从95重量％至5重量％锡，例如从10重量％至90重量％锌和从90重量％至10重量％锡。然而，也可以使用锌与锡的其他比例。

在一个非限制性实施方案中，阻挡层220的第三膜226可以是铝/锌合金氧化物(Al_xZn_1-x氧化物)。“铝/锌合金氧化物”是指真正的合金和氧化物的混合物。这样，可以从锌和铝的阴极由磁控溅射真空沉积获得铝/锌合金氧化物，并且铝/锌合金氧化物可以包括少量(例如小于10重量％，例如大于0重量％至5重量％)的锡以改善溅射。在这种情况下，得到的铝锌氧化物膜将包括小百分比的氧化锡，例如从0重量％至小于10重量％，例如从0重量％至5重量％的氧化锡。阻挡层220的第三膜226可以包括Al_xZn_1-x氧化物，其中x在1重量％至25重量％的范围内，优选1重量％至15重量％，更优选1重量％至10重量％，最优选2重量％至5重量％。在一个非限制性实施方案中，x为3重量％。

在一个非限制性实施方案中，阻挡层220的阻挡膜222包括在基材的至少一部分的上方的氮氧化铝硅，阻挡层220的第二膜224包括在阻挡膜222的至少一部分的上方的锡酸锌，并且阻挡层220的第三膜226包括在第二膜224的至少一部分的上方的氧化锌或氧化锌铝。第二膜224可以包括厚度在

至/>

的范围内的锡酸锌，优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

第三膜226可以包括厚度在/>

至/>

范围内的氧化锌或氧化锌铝，优选/>

至/>

最优选/>

至/>

阻挡层220包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至

的总厚度(例如，第一膜222、第二膜224和第三膜226的组合厚度)。

金属性层228可以沉积在阻挡层220的至少一部分的上方。金属性层228可以包括反射性金属，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合。在一个实施方案中，金属性层228包括金属性银层。金属性层228是连续的层。“连续层”是指涂层形成材料的连续膜，而不是孤立的涂层区域。

第一金属性层228可以具有在

至/>

的范围内的厚度，例如/>

至

例如/>

至/>

第一底漆层230定位在金属性层228的上方。第一底漆层230可以是单个膜或多个膜的层。第一底漆层230可以包括氧捕获材料，该氧捕获材料可以在沉积过程中牺牲以在溅射过程或随后的加热过程中防止金属性层228的劣化或氧化。第一底漆层230还可以吸收穿过功能涂层30、130的电磁辐射的至少一部分，例如可见光。可用于第一底漆层230的材料的实例包括钛、硅、二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、镍、锆、锌、铝、钴、铬、其合金、或其混合物。在一个非限制性实施方案中，第一底漆层230包括钛、钛和铝、或锌和铝，它们作为金属沉积，并且至少一部分钛、或钛和铝、或锌和铝随后被氧化。在另一个实施方案中，底漆层230包括镍铬合金，例如Inconel。在另一个实施方案中，底漆层230包括钴铬合金，例如

第一底漆层230可以具有在

至/>

的范围内的厚度，优选/>

至/>

或更优选/>

至/>

第一中间层240定位在金属性层228的至少一部分的上方(例如，在第一底漆层230的上方)。第一中间层240可以包括一个或多个含有金属氧化物或金属合金氧化物的膜，例如上面关于阻挡层220描述的那些膜。例如，第一中间层240可以包括第一膜242、第二膜244和第三膜246，第一膜242包括沉积在第一底漆层230的至少一部分的上方的金属氧化物，例如氧化锌或氧化锌铝，第二膜244包括在第一膜242的至少一部分的上方的金属氧化物，例如锡酸锌膜，第三膜246包括在第二膜244的至少一部分上方的金属氧化物，例如氧化锌膜或氧化锌铝膜。

在一个示例中，第一膜242和第三膜246二者都存在，并且各自膜的厚度在

至

的范围内，例如/>

至/>

例如/>

至/>

如/>

至/>

第二膜244可以具有在/>

至/>

的范围内的厚度，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

第一中间层240可以包括在

至/>

的范围内的总厚度(例如，各膜的组合厚度)，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

和/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

第二金属性层248可以形成在第一中间层的至少一部分的上方。第二金属性层248可以包括反射性金属，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合。在一个实施方案中，第二金属性层248包括金属性银层。

在一个实施方案中，第二金属性层248是在第一中间层240的至少一部分的上方形成的连续层。第二金属性层248是总厚度为

至/>

的连续层，例如/>

至

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至

例如/>

和/>

在另一个实施方案中，第二金属性层248是在第一中间层240的至少一部分的上方形成的具有亚临界厚度的不连续层。以亚临界厚度施加金属性材料，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合，使得形成材料的孤立的区域或岛，而不是材料的连续层。对于银，已经确定临界厚度为小于

例如小于/>

例如小于/>

例如小于/>

对于银，连续层和亚临界层之间的转变发生在/>

至/>

的范围内。对于铜，已经确定有效厚度至多为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

且至少为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

据估计，在这个范围内，铜、金和钯将表现出类似的亚临界行为。在一个非限制性实施方案中，第二金属性层248包括岛状银，而岛的有效厚度至多为/>

例如至多/>

例如至多

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

且至少为/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

在另一个实施方案中，第二金属性层248包括铜，其岛的有效厚度至多为/>

例如/>

例如

例如/>

例如/>

例如/>

且至少为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

以及任选银，其岛的有效厚度至多为/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

且至少为

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

根据等离子体共振理论，第二金属性层248吸收电磁辐射。这种吸收至少部分地取决于金属岛的界面处的边界条件。第二金属性层248不像金属性层248那样是红外反射层。据估计，对于银和铜，以低于亚临界厚度沉积的银金属和铜金属的金属岛或球可以具有约/>

至/>

的高度，例如/>

至/>

据估计，如果亚临界金属层能够均匀分布，其将具有约/>

的厚度。据估计，在光学上，不连续的金属层表现为/>

的有效层厚度。在锡酸锌而不是氧化锌或氧化锌铝的上方沉积不连续的金属性层似乎增加了涂层的可见光吸收率，例如不连续金属性膜的可见光吸光率。

第二底漆层250定位在第二金属性层248的上方。第二底漆层250可以是单个膜或多个膜的层。第二底漆层250可以是用于第一底漆层230的任何材料。第二底漆层250可以具有在

至/>

的范围内的厚度，优选/>

至/>

或更优选/>

至/>

第二中间层260定位在第二金属性层248的至少一部分的上方(例如，在第二底漆层250的上方)。第二中间层260可以包括一个或多个含有金属氧化物或金属合金氧化物的膜，例如上面关于阻挡层220描述的那些膜。例如，第二中间层260可以包括第一膜262、第二膜264和第三膜266，第一膜262包括沉积在第二底漆层250的至少一部分的上方的金属氧化物例如氧化锌或氧化锌铝，第二膜264包括在第一膜262的至少一部分的上方的金属氧化物例如锡酸锌膜，第三膜266包括在第二膜264的至少一部分的上方的金属氧化物例如氧化锌膜或氧化锌铝膜。

第二中间层260包括在

至/>

的范围内的总厚度(例如，各层的组合厚度)，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至

在一个示例中，第一膜262和第三膜266二者都存在，并且各自膜的厚度在

至

的范围内，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

第二膜264可以具有在/>

至/>

的范围内的厚度，例如/>

至/>

例如/>

至

例如/>

至/>

例如/>

至/>

第三金属性层268可以形成在第二中间层260的至少一部分的上方。第三金属性层268可以包括反射性金属，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合。在一个实施方案中，第二金属性层268包括金属性银层。

在一个实施方案中，第三金属性层268是在第二中间层的至少一部分的上方形成的连续层。第三金属性层268是总厚度为

至/>

的连续层，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

在另一个实施方案中，第三金属性层268是在第二中间层的至少一部分的上方形成的具有亚临界厚度的不连续层。以亚临界厚度施加金属性材料，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合，使得形成所述材料的孤立的区域或岛，而不是材料的连续层。对于银，已经确定临界厚度为小于

例如小于/>

例如小于/>

例如小于/>

对于银，连续层和亚临界层之间的过度发生在/>

至/>

的范围内。对于铜，已经确定有效厚度至多为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

且至少为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

据估计，在这个范围内，铜、金和钯将表现出类似的亚临界行为。在一个非限制性实施方案中，第三金属性层268包括岛状银，其岛的有效厚度至多为/>

例如至多/>

例如至多

例如至多/>如至多/>

即至多/>

例如至多/>

且至少为/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

在另一个实施方案中，第三金属性层268包括铜，其岛的有效厚度至多为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

且至少为/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

例如/>

以及任选银，其岛的有效厚度至多为/>

例如至多/>

例如至多

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

例如至多/>

且至少为/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

例如至少/>

根据等离子体共振理论，第三金属性层268吸收电磁辐射。这种吸收至少部分地取决于金属性岛的界面处的边界条件。第三金属性层268不像金属性层228那样是红外反射层。据估计，对于银和铜，以低于亚临界厚度沉积的银金属和铜金属的金属性岛或球可以具有约/>

至/>

的高度，例如/>

至/>

据估计，如果亚临界金属层能够均匀分布，其将具有约/>

的厚度。据估计，在光学上，不连续的金属层表现为/>

的有效层厚度。

第三底漆层270定位在第三金属性层268的上方。第三底漆层270可以是单个膜或多个膜的层。第三底漆层270可以是对于第一底漆层230使用的任何材料。

第三底漆层270可以具有在

至/>

的范围内的厚度，优选10nm至/>

或更优选/>

至/>

第三中间层280定位在第三金属性层268的至少一部分的上方(例如，在第三底漆层的上方)。第三中间层280可以包含一个或多个含金属氧化物或金属合金氧化物的膜，例如上面关于阻挡层220描述的那些膜。例如，第三中间层可以包括第一膜282、第二膜284和第三膜286，第一膜282包含沉积在第三底漆层270的至少一部分的上方的金属氧化物例如氧化锌或氧化锌铝，第二膜284包括在第一膜282的至少一部分的上方的金属氧化物例如锡酸锌膜，第三膜286包括在第二膜284至少一部分的上方的金属氧化物例如氧化锌膜或氧化锌铝膜。

第三中间层280包括在

至/>

的范围内的总厚度(例如，各层的组合厚度)，例如/>

至/>

例如/>

至/>

例如/>

至/>

如/>

至/>

在一个示例中，第一膜282和第三膜286二者都存在，并且各自膜的厚度在

至

的范围内，例如/>

至/>

例如/>

至/>

诸如/>

至/>

第二膜284可以具有在/>

至/>

的范围内的厚度，例如/>

至/>

例如/>

至

例如/>

至/>

例如/>

至/>

第四金属性层288形成在第三中间层280的至少一部分的上方。第四金属性层288可以包括反射性金属，例如但不限于金属性金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金或组合。第四金属性层288是连续的层。在一些实施方案中，第四金属性层288包含金属性银层。

第四金属性层288是总厚度为

至/>

的连续层，优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

第四底漆层290定位在第四金属性层288的上方。第三底漆层290可以是单个膜或多个膜的层。第四底漆层290可以是对于第一底漆层230使用的任何材料。第四底漆层290可以具有在

至/>

的范围内的厚度，优选为/>

至/>

或更优选为/>

至/>

顶层300定位在最上面的金属性层的上方(例如，在最上面的底漆层的上方)。在单一金属性层功能涂层31、131中，顶层300形成在金属性层228的至少一部分的上方(例如，在第一底漆层230的上方)。在双重金属性层功能涂层32、132中，顶层300形成在第二金属性层248的至少一部分的上方(例如，在第二底漆层250的上方)。在三重金属性层功能涂层33、133中，顶层300形成在第三金属性层268的至少一部分的上方(例如，在第三底漆层270的上方)。在四重金属性层功能涂层34、134中，顶层300形成在第四金属性层288的至少一部分的上方(例如，在第四底漆层290的至少一部分的上方)。

顶层300可以包括一个或多个含有金属氧化物或金属合金氧化物的膜，例如上面关于阻挡层220描述的那些。例如，顶层300可以包括沉积在最上面的金属性层(例如，最上面的底漆层)的上方的第一金属氧化物膜302如锡酸锌膜，和沉积在第一金属氧化物层302的至少一部分的上方的第二金属氮氧化物膜304例如氮氧化铝硅(图2B、3B、4B和5B)。在另一个实施方案中，顶层300可以包括沉积在最上面的金属性层(例如，最上面的底漆层)的上方的第一金属氧化物膜302如氧化锌膜或氧化锌铝膜、沉积在第一膜302的至少一部分的上方的第二金属合金膜304如锡酸锌膜、以及沉积在第二锡酸锌膜304的上方的第三金属合金氮氧化物膜306如氮氧化铝硅膜(图2C、3C、4C和5C)。

顶层300可以具有在

至/>

的范围内的总厚度(例如，各层的组合厚度)，优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

任选最外保护性涂层320形成在顶层300的至少一部分的上方，并且是涂覆的制品的最上层。最外保护性涂层320可以帮助保护下面的功能涂层免受机械和/或化学攻击。最外保护性涂层320可以是氧阻挡涂层，以防止或减少环境氧进入涂层的下面层，例如在加热或弯曲期间。最外保护性涂层320可以是任何期望的材料或材料的混合物，并且可以由一个或多个保护性膜组成。最外保护性涂层320包含保护性层，其中保护性层包括Si₃N₄、SiAlN、SiAlON、TiAlO、二氧化钛、氧化铝、二氧化硅、氧化锆、或其组合中的至少一种。

在一个实施方案中，最外保护性层可以包含第一保护性膜322和在第一保护性膜322的至少一部分的上方的第二保护性膜324。在一个实施方案中，第一保护性膜322包括设置在顶层300的金属氮氧化物膜(例如，氮化硅铝)的上方并与之接触的金属氮化物膜，例如氮化硅铝，且第二保护性膜324包括设置在第一保护性膜322的上方并与之接触的金属合金氧化物，例如氧化铝钛。

在一个实施方案中，顶层300的金属氮氧化物膜是与接触顶层300的金属氮氧化物膜的第一保护性金属氮化物膜322相同的金属氮氧化物。在另一个实施方案中，顶层300的金属氮氧化物膜是梯度层，其中例如在上述原子比内，金属氮氧化物膜的最靠近顶层300的最上金属合金膜的部分包括更大量的氧，并且金属氮氧化物膜的例如最靠近第一保护性金属氮化物膜322的相对部分包括更大量的氮。在一个实施方案中，顶层300的金属氮氧化物膜和第一保护性金属氮化物膜322形成连续的单一梯度层。在另一个实施方案中，顶层300的金属氮氧化物膜被施加在金属合金氧化物膜的上方和/或在金属合金氧化物膜和第一保护性金属氮化物膜322之间。在另一个实施方案中，不存在第一保护性金属氮化物膜322，并且顶层300的金属氮氧化物膜是梯度层，其中顶层300的金属氮氧化物膜中的氧的量随着与顶层300的金属合金氧化物膜的距离的增加而降低。例如，顶层300的金属氮氧化物膜的最靠近顶层300的最上金属合金氧化物膜的部分包含更大量的氧，并且顶层300的氮氧化物膜的相对部分包含更大量的氮，其中金属氮氧化物中氧和氮的原子比是基于N₂的流量和O₂的流量的近似值。顶层300的氮氧化物膜包括0重量％的氧，并且不超过50重量％的氧；不超过40重量％的氧；不超过30重量％的氧；不超过20重量％的氧；不超过10重量％的氧；不超过5重量％的氧。顶层300的氮氧化物膜中氧和氮的有用原子比的非限制性实例包括，例如但不限于，从5％至45％的0与从95％至55％的N；从10％至50％的0与从90％至50％的N；从15％至40％的0与从85％至60％的N；从20％至50％的0与从80％至50％的N；从25％至45％的0与从75％至55％的N；从30％至50％的0与从70％至50％的N；从40％至50％的0与从60％至50％的N；或50％0与50％N。

顶层300的金属氮氧化物膜可以具有在大于

至/>

的范围内的厚度，例如从/>

至/>

从/>

至400m、从/>

至/>

或从/>

至/>

在顶层300的金属氮氧化物膜是梯度层的实施方案中，或者在最外保护性涂层中没有金属氮化物膜的实施方案中，其可以具有/>

至/>

的厚度，优选/>

至/>

更优选

至/>

最优选/>

至/>

第一保护性金属氮化物膜322可以具有在大于

至/>

的范围内的厚度，例如从/>

至/>

从/>

至/>

从/>

至/>

从/>

至/>

从

至/>

从/>

至/>

或从/>

至/>

在不存在顶层300的金属氮氧化物膜和/或不存在第二保护性膜的实施方案中，第一保护性金属氮化物膜322可以具有在/>

至/>

的范围内的厚度，优选/>

至/>

最优选/>

至/>

在顶层300具有金属氮氧化物膜并且最外保护性涂层320具有第二保护性膜324的实施方案中，第一保护性金属氮化物膜322可以具有/>

至/>

的厚度，优选/>

至/>

更优选/>

至/>

最优选/>

至/>

在保护性涂层320同时具有第一保护性金属氮化物膜322和第二保护性膜324的实施方案中，顶层300的金属氮氧化物膜可以具有

至/>

的厚度，优选/>

至/>

更优选/>

至/>

最优选/>

至

在某些实施方案中，本发明的顶层300(如果存在)的金属氮氧化物膜和/或第一保护性金属氮化物膜322(如果存在的话)的组合厚度在

至/>

之间，例如/>

至

至/>

或/>

至/>

在某些实施方案中，保护性涂层300可以包括包含TiAlO的第二保护性膜324。第二保护性膜324的非限制性实例的厚度范围可为例如

至/>

例如/>

至

例如/>

至/>

如/>

至/>

应当理解，第二保护性膜324可以例如作为最顶层施加到与本公开一致的顶层、金属氮化物膜和金属氮氧化物膜的任何其他配置。或者，可以在第二保护性膜324(未示出)的上方施加另外的功能层或保护性层。这个另外的保护性膜可以是用于形成保护性涂层320或第二保护性膜324的任何材料，或者是可以用作顶涂层的任何材料。类似地，应当理解的是，涂覆的制品不必须包括第二保护性膜324。

最外保护性涂层320的总厚度(即，保护性涂层320内的所有各层或各膜的厚度的总和)在

至/>

的范围内，优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

在本发明的实践中，通过选择用于金属性层的特定金属、选择底漆材料和厚度、以及选择介电材料和厚度，可以改变涂层的吸收颜色(例如色调)。在本发明的实践中，希望涂覆的制品的颜色在回火之前和之后得到保持。

颜色值(例如，L*、a*、b*、C*和色调°)符合国际照明委员会规定的1976CIELAB颜色系统。说明书和权利要求书中的L*、a*和b*值表示颜色中心点值。“Rf”是指膜侧反射率，“Rg”是指玻璃侧反射率，而“T”是指通过制品的透射率。

在正常制造变化范围内，结合本发明阳光控制涂层的参比IGU(3mm或6mm)或参比层压单元在热处理后相对于中心点值的ΔEcmc色差应小于＜4.5CMC单位(即ΔEcmc＜4.5)，优选小于＜4CMC单位(如ΔEcmc＜4)。

涂覆的制品包括沉积在基材210的主表面的至少一部分的上方的阻挡层220。阻挡层220可以在回火后减少金属性层中的枝晶形成并减少涂覆的制品中的红雾。

一个非限制性实施方案是减少金属性层中枝晶形成的方法。“枝晶”是指金属性层中或金属性层上的树状分枝特征。例如，枝晶可以是晶体或晶体物。这些枝晶是在回火过程中通常在金属性层中或金属性层上形成的晶体结构。为了减少金属性层中枝晶的形成，提供了一种基材。基材可以是本文所述的任何基材。基材具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。在第一表面或第二表面的至少一部分的上方形成阻挡层。阻挡层可以是本文所述的任何阻挡层。在阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层。金属性层可以是如本文所述的任何金属性层。在金属性层的至少一部分的上方形成顶层。顶层可以是如本文所述的任何顶层。形成阻挡层、金属性层和顶层产生了涂覆的制品。如本文所述，涂覆的制品可以进一步包括另外的层。将涂覆的制品回火，其中与没有阻挡层的涂覆的制品相比，金属性层中的枝晶形成减少。

另一个非限制性实施方案是减少涂覆的制品中的红雾的方法。如上所述，在金属性层内形成的树枝状物可以是光散射特征，其中光散射特征增加了涂覆的制品的雾度(即光散射)。金属性层内的枝晶导致电磁能的光波更随机地传播，并破坏波导效应，这增加了穿过金属性层进入基材然后从基材底表面离开的电磁能的量。本文所述的“红雾”涉及一种光散射效应，这种光散射效应在将涂覆的制品在黑暗背景前用明亮的光线照射时是可见的。红雾的形成源于在回火或热强化过程中在金属性层中形成的空隙(耗尽或空位)。在加热过程中，玻璃和涂层叠层中的碱金属迁移率导致成核和生长，产生枝晶形成，这导致经涂覆的基材具有红雾。通过在基材的上方形成阻挡层来减少红雾。阻挡层可以是本文所述的任何阻挡层。在阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层。金属性层可以是本文所述的任何金属性层。在金属性层的至少一部分的上方形成顶层。顶层可以是本文所述的任何顶层。形成阻挡层、金属性层和顶层产生了涂覆的制品。涂覆的制品可以包括如本文所述的另外的层。将涂覆的制品回火，其中涂覆的制品中的红雾小于没有阻挡层的涂覆的制品中的红雾。

以下编号的条款说明了本发明的各个方面：

条款1：一种涂覆的制品，包括基材，所述基材包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；以及施加在所述第一表面或所述第二表面的上方的功能涂层，所述功能涂层包括在所述基材的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层。

条款2：根据条款1所述的涂覆的制品，其中涂覆的制品是可回火的。

条款3：根据条款1或条款2所述的涂覆的制品，其中阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款4：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款5：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款6：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款7：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款8：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款9：根据条款7所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮，10％至50％的氧与90％至50％的氮，15％至40％的氧与85％至60％的氮，或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款10：根据条款7所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅，10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅，或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款11：根据条款1-8中任一项所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜的氧氮比为20％至50％的氧与80％至50％的氮，包括20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款12：根据条款11所述的涂覆的制品，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款13：根据条款3至12所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜的总厚度为

至

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款14：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述阻挡层的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款15：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款16：根据条款15所述的涂覆的制品，其中所述金属性层包括银。

条款17：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中金属性层为连续的金属性层。

条款18：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述金属性层的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款19：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款20：根据条款19所述的涂覆的制品，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款21：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其中所述顶层的总厚度为

至

优选为/>

至/>

更优选为/>

至/>

或最优选为/>

至

条款22：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，还包括在金属性层上方形成的第一底漆层。

条款23：根据条款22所述的涂覆的制品，其中所述底漆层选自钛、硅、镍、锆、锌、铝、钴、铬、铝、其合金、或其混合物。

条款24：根据条款22所述的涂覆的制品，其中所述底漆层的总厚度为

至

优选为/>

至/>

或更优选为/>

至/>

条款25：前述条款中任一项所述的涂覆的制品，其进一步包含包括保护性层的最外保护性涂层，其中所述保护性层包含Si₃N₄、SiAlN、SiAlON、TiAlO、二氧化钛、氧化铝、二氧化硅、氧化锆、或其组合中的至少一种。

条款26：根据条款25所述的涂覆的制品，其中所述保护性层包括第一保护性膜和第二保护性膜，其中第二保护性膜定位在第一保护性膜的至少一部分的上方。

条款27：根据条款26所述的涂覆的制品，其中所述第一保护性膜包括SiAlN。

条款28：根据条款26所述的涂覆的制品，其中所述第二保护性膜包括TiAl0。

条款29：根据条款25所述的涂覆的制品，其中所述最外保护性涂层的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至

条款30：根据条款1所述的涂覆的制品，其中所述施加在表面上方的功能涂层还包括在金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；以及在所述中间层的至少一部分的上方的第二金属性层，其中所述顶层在所述第二金属性膜的至少一部分的上方。

条款31：根据条款30所述的涂覆的制品，其中所述第一中间层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款32：根据条款30和31所述的涂覆的制品，其中所述第一中间层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的氧化锌，第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款33：根据条款30至32所述的涂覆的制品，其中所述第一中间层的总厚度为

至/>

优选为/>

至/>

更优选为/>

至/>

或最优选为/>

至/>

条款34：根据条款30所述的涂覆的制品，其中所述第二金属性层是连续层，并且包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款35：根据条款34所述的涂覆的制品，其中所述第二金属性层是不连续层，并且包括小于

的总厚度。

条款36：根据条款30至35所述的涂覆的制品，还包括在所述第二金属性层的上方形成的第二底漆层。

条款37：根据条款1所述的涂覆的制品，其中所述施加在表面上方的功能涂层还包括在金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；在所述第一中间层的至少一部分的上方的第二金属性层；在所述第二金属性层的至少一部分的上方的第二中间层；以及在所述第二中间层的至少一部分的上方的第三金属性层，其中所述顶层在所述第三金属性层的至少一部分的上方。

条款38：根据条款37所述的涂覆的制品，其中所述第二中间层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款39：根据条款37和38所述的涂覆的制品，其中所述第二中间层的第一膜包括在第二金属性层的至少一部分的上方的氧化锌，第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款40：根据条款37至39所述的涂覆的制品，其中所述第二中间层包括

至

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款41：根据条款37至40所述的涂覆的制品，其中所述第三金属性层是连续层，并且包括

至/>

优选/>

至/>

或者最优选/>

至/>的总厚度。

条款42：根据条款37至40所述的涂覆的制品，其中所述第三金属性层是不连续层，并且包括小于

的总厚度。

条款43：根据条款37至42所述的涂覆的制品，还包括在第三金属性层的上方形成的第三底漆层。

条款44：根据条款1所述的涂覆的制品，其中所述施加在表面上方的涂层还包括在金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；在所述第一中间层的至少一部分的上方的第二金属性层；在所述第二中间层的至少一部分的上方的第三金属性层；在所述第三金属性层的至少一部分的上方的第三中间层；以及在所述第三中间层的至少一部分的上方的第四金属性层，其中所述顶层在所述第四金属性层的至少一部分的上方。

条款45：根据条款44所述的涂覆的制品，其中所述第三中间层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款46：根据条款44至45所述的涂覆的制品，其中所述第三中间层的第一膜包括在第三金属性层的至少一部分的上方的氧化锌，第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款47：根据条款44至46所述的涂覆的制品，其中所述第三中间层包括

至

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款48：根据条款44所述的涂覆的制品，其中所述第四金属性层是连续层，并且包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款49：根据条款44至48所述的涂覆的制品，还包括在第四金属性层的上方形成的第四底漆层。

条款50：一种制造涂覆的制品的方法，包括提供基材，所述基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面；在所述第二表面或所述第一表面的至少一部分的上方形成阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方形成顶层，其中所述涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.5的光学色移。

条款51：根据条款50所述的方法，其中阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款52：根据条款51所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

第53条：根据条款52所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款54：根据条款52所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款55：根据条款53或54所述的方法，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款56：根据条款51所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款57：根据条款55所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款58：根据条款55所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝与95重量％至80重量％的硅，10重量％至20重量％的铝与90重量％至80重量％的硅，或20重量％至25重量％的铝与80重量％至75重量％的硅。

条款59：根据条款37至58中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款60：根据条款59所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款61：根据条款52至60所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款62：根据条款50至61所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款63：根据条款50至62所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款64：根据条款63所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款65：根据条款50至64所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款66：根据条款50至65所述的方法，其中所述金属性层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款67：根据条款50至66所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款68：根据条款67所述的方法，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款69：根据条款50至68所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款70：根据条款50所述的方法，其中所述涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.0的光学色移。

条款71：一种减少涂覆的制品的金属性层中枝晶形成的方法，该方法包括：提供包括第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材；在所述第二表面或所述第一表面的至少一部分的上方形成阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方形成顶层，由此形成所述涂覆的制品，以及将所述涂覆的制品回火，其中所述涂覆的制品在回火后减少了金属性层中的枝晶形成。

条款72：根据条款71所述的方法，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款73：根据条款72所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款74：根据条款73所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款75：根据条款73所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款76：根据条款74或75所述的方法，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款77：根据条款76所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款78：根据条款76所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款79：根据条款76所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅，10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅，或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款80：根据条款71至79中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为20％至50％的氧与80％至50％的氮，包含20重量％至25重量％的铝，并且包含80重量％至75重量％的硅。

条款81：根据条款80所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款82：根据条款73至81所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款83：根据条款71至82所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款84：根据条款71至83所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款85：根据条款84所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款86：根据条款71至85所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款87：根据条款71至86所述的方法，其中所述金属性层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款88：根据条款71至87所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款89：根据条款88所述的方法，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款90：根据条款71至89所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款91：一种减少涂覆的制品的红雾的方法，该方法包括：提供包括第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材；在所述第二表面或所述第一表面的至少一部分的上方形成阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方形成金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方形成顶层，由此形成所述涂覆的制品，和将所述涂覆的制品回火，其中所述涂覆的制品在回火后具有减少的红雾。

条款92：根据条款91所述的方法，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款93：根据条款92所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款94：根据条款93所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款95：根据条款93所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款96：根据条款94或95所述的方法，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款97：根据条款96所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款98：根据条款96所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮，10％至50％的氧与90％至50％的氮，15％至40％的氧与85％至60％的氮，或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款99：根据条款96所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅、10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅、或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款100：根据条款91至99中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款101：根据条款100所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款102：根据条款93至101所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款103：根据条款91至102所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款104：根据条款91至103所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款105：根据条款104所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款106：根据条款91至105所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款107：根据条款91至106所述的方法，其中所述金属性层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款108：根据条款91至107所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款109：根据条款108所述的方法，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分上的氮氧化铝硅。

条款110：根据条款91至109所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选为/>

至/>

更优选为/>

至/>

或最优选为/>至/>

的总厚度。

条款111：一种隔绝玻璃单元，包括第一片层，该第一片层包括1号表面和与1号表面相对的2号表面；第二片层，该第二片层包括3号表面和4号表面，其中所述第二片层与所述第一片层间隔开，并且其中所述第一片层和第二片层连接在一起；以及在所述4号表面或所述3号表面的至少一部分的上方的功能涂层，所述功能涂层包括在所述第4号表面或所述第3号表面至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层。

条款112：根据条款111所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款113：根据条款112所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡层的所述第一膜是阻挡膜。

条款114：根据条款113所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款115：根据条款113所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款116：根据条款114或115所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款117：根据条款113所述的隔绝玻璃单元，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款118：根据条款116所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款119：根据条款116所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅、10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅、或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款120：根据条款111至119中任一项所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款121：根据条款120所述的隔绝玻璃单元，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款122：根据条款113至121所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡膜的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款123：根据条款111至122所述的隔绝玻璃单元，其中所述阻挡层的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款124：根据条款111至123所述的隔绝玻璃单元，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款125：根据条款124所述的隔绝玻璃单元，其中所述金属性层包括银。

第126条：根据条款111至125所述的隔绝玻璃单元，其中所述金属性层为连续的金属性层。

条款127：根据条款111至126所述的隔绝玻璃单元，其中所述金属性层的总厚度为

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款128：根据条款111至127所述的隔绝玻璃单元，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款129：根据条款128所述的隔绝玻璃单元，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款130：根据条款111至129所述的隔绝玻璃单元，其中顶层包括

至/>

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款131：一种制造涂覆的制品的方法，包括：提供一种涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面，其中所述涂覆的制品包括在第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层；并将所述涂覆的制品回火，其中所述涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.5的光学色移。

条款132：根据条款131所述的方法，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款133：根据条款132所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款134：根据条款133所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款135：根据条款134所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款136：根据条款134或135所述的方法，其中所述阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款137：根据条款132所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款138：根据条款136所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氢气。

条款139：根据条款136所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅、10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅、或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款140：根据条款131至139中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款141：根据条款136所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款142：根据条款133至141所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款143：根据条款131至142所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款144：根据条款131-143所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款145：根据条款144所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款146：根据条款131至145所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款147：根据条款131至146所述的方法，其中所述金属性层的总厚度为

至

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

条款148：根据条款131至147所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款149：根据条款148所述的方法，其中所述顶层的所述第一膜包括在所述金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化硅铝。

条款150：根据条款131至149所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款151：根据条款131所述的方法，其中所述涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.0的光学色移。

条款152：一种减少涂覆的制品的金属性层中枝晶形成的方法，该方法包括：提供包括第一表面和与第一表面相对的第二表面的涂覆的制品；在所述第二表面或所述第一表面的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；和在所述金属性层的至少一部分的上方形成顶层，以及将所述涂覆的制品回火，其中所述涂覆的制品在回火后在所述金属性层中具有减少的枝晶形成。

条款153：根据条款152所述的方法，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款154：根据条款153所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款155：根据条款154所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款156：根据条款155所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款157：根据条款155或156所述的方法，其中阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款158：根据条款153所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款159：根据条款157所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款160：根据条款157所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅、10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅、或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款161：根据条款153至160中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款162：根据条款157所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款163：根据条款153至162所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款164：根据条款152至163所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款165：根据条款152-164所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款166：根据条款165所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款167：根据条款152至166所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款168：根据条款152至167所述的方法，其中所述金属性层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款169：根据条款152至168所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款170：根据条款169所述的方法，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款171：根据条款152至170所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选/>

至/>

更优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款172：一种减少涂覆的制品的红雾的方法，该方法包括：提供涂覆的制品，该涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面；在所述第二表面或所述第一表面的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方形成顶层；以及将所述涂覆的制品回火，其中所述涂覆的制品在回火后在所述金属性层中具有减少的枝晶形成。

条款173：根据条款172所述的方法，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜。

条款174：根据条款173所述的方法，其中所述阻挡层的第一膜是阻挡膜。

条款175：根据条款174所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮化硅、氮化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、氧化钛、氧化铝钛、或其组合。

条款176：根据条款175所述的方法，其中所述阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合。

条款177：根据条款175或176所述的方法，其中阻挡膜包括氮氧化铝硅。

条款178：根据条款173所述的方法，其中所述第二膜包括在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌，并且所述第三膜包括在第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

条款179：根据条款177所述的方法，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮、10％至50％的氧与90％至50％的氮、15％至40％的氧与85％至60％的氮、或20％至50％的氧与80％至50％的氮。

条款180：根据条款177所述的方法，其中所述阻挡膜包含5重量％至20重量％的铝和95重量％至80重量％的硅、10重量％至20重量％的铝和90重量％至80重量％的硅、或20重量％至25重量％的铝和80重量％至75重量％的硅。

条款181：根据条款173至180中任一项所述的方法，其中所述阻挡膜具有20％至50％的氧与80％至50％的氮的氧氮比，包括20重量％至25重量％的铝，并且包括80重量％至75重量％的硅。

条款182：根据条款177所述的方法，其中光学折射指数为1.70至1.80。

条款183：根据条款173至182所述的方法，其中所述阻挡膜包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款184：根据条款172至163所述的方法，其中所述阻挡层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>

至/>

的总厚度。

条款185：根据条款172至184所述的方法，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

条款186：根据条款185所述的方法，其中所述金属性层包括银。

条款187：根据条款172至186所述的方法，其中所述金属性层是连续的金属性层。

条款188：根据条款172至187所述的方法，其中所述金属性层包括

至/>

优选/>

至/>

或最优选/>至/>

的总厚度。

条款189：根据条款172至188所述的方法，其中所述顶层包括第一膜和第二膜。

条款190：根据条款189所述的方法，其中所述顶层的第一膜包括在金属性层的至少一部分的上方的锡酸锌，并且第二膜包括在第一膜的至少一部分的上方的氮氧化铝硅。

条款191：根据条款172至190所述的方法，其中所述顶层包括

至/>

优选为/>

至/>

更优选为/>

至/>

或最优选为/>

至/>

的总厚度。

实施例

实施例1

用根据表1的功能涂层涂覆基材。基材是玻璃。功能层包括设置在基材上方的阻挡层，其中阻挡层包括作为第一膜的阻挡膜、金属性层、底漆层、顶层和任选保护性膜。阻挡层的阻挡膜包括氧化硅铝(SiAlO)。阻挡层进一步包括锡酸锌膜和氧化锌膜。顶层包括锡酸锌膜和氮氧化铝硅膜。包括SiAlN或TiAlO的任选保护性膜被设置在顶层的氮氧化铝硅膜的上方，并且包括TiAlO的任选第二保护性膜被设置在包括SiAlN的第一保护性膜的上方。根据表2制备比较例CE-1、CE-2、CE-3、CE-4和CE-5，没有阻挡膜。

表1

样品编号	1	2
			基材	玻璃	玻璃
阻挡层-阻挡膜	SiAlO	SiAlO
			阻挡层-第二膜	锡酸锌	锡酸锌
阻挡层-第三膜	氧化锌	氧化锌
			顶层-第一膜	锡酸锌	锡酸锌
顶层-第二膜	SiAlON	SiAlON
			第一保护性膜	SiAlN	TiAlO
第二保护性膜	TiAlO	N/A

表2

涂覆的制品的最终颜色性能见表3。

表3

实施例2

用表4中公开的功能涂层涂覆基材。基材是玻璃。功能层包括设置在基材的上方的阻挡层，其中阻挡层包括阻挡膜(作为第一膜)、金属性层、底漆层、顶层和任选保护性膜。阻挡层的阻挡膜包括氮化硅铝(SiAlN)或氮氧化铝硅(SiAlON)。阻挡层进一步包括锡酸锌膜和氧化锌膜。将金属性层设置在阻挡层的氧化锌膜的上方。金属性层是一个连续的银层。底漆层设置在金属性层的上方，顶层设置在底漆层的上方。顶层包括锡酸锌膜和氮氧化铝硅膜。包括SiAlN的任选保护性膜设置在顶层的SiAlON膜的上方。比较例CE-1和CE-2根据表5制备，没有阻挡膜，分别只有锡酸锌和氧化锌的第一和第二介电膜。

表4

表5

涂覆的制品的最终颜色性能见表6。

表6

实施例3

用具有阻挡层的功能涂层涂覆基材。基材是玻璃。功能涂层包括设置在基材上方的阻挡层，其中阻挡层包括阻挡膜(作为第一膜)、第一金属性层、底漆层、第一中间层、第二金属性层、第二底漆层、顶层和保护性层。阻挡层的阻挡膜包括SiAlN(厚度

或

)、SiAlON(厚度/>

或/>

)或SiAlO(厚度/>

或/>

)。阻挡层还包括作为第二膜的锡酸锌膜和作为第三膜的氧化锌膜。第一金属性层被设置在阻挡层的氧化锌膜的上方。第一金属性层是连续的银层。第一钛底漆层设置在第一金属性层的上方，第一中间层设置在第一底漆层的上方。第一中间层包括包含氧化锌的第一膜、包含锡酸锌的第二膜和包含氧化锌的第三膜。第二金属性层设置在第一中间层的上方。第二金属性层是连续的银层。第二钛底漆层设置在第二金属性层的上方。顶层设置在第二底漆层的上方。顶层包括作为第一膜的锡酸锌和作为第二膜的氧化锌膜。包括二氧化钛的保护性层被设置在顶层的上方。制备的比较例没有阻挡膜，并且分别只有锡酸锌和氧化锌的第一和第二介电膜。

经涂覆的基材的最终颜色性能如图6所示。使用阻挡膜观察到Rf和Rg属性的色移都有减少。

实施例4

使用X射线光电子能谱(XPS)对经涂覆的基材进行分析。制备了玻璃上具有ZnSn的基线基材，并使用XPS进行分析。制备样品基材，其具有在玻璃上的SiAlN阻挡膜和在SiAlN阻挡膜上的ZnSn。使用XPS对样品基材进行分析。制备第二样品基材，其具有在玻璃上的SiAlON阻挡膜和SiAlON阻挡膜上的ZnSn。使用XPS对样品基材进行分析。在基线基材中，锌迁移到基材深处，钙迁移到涂层中。在样品基材中，锌向玻璃基材的迁移减少，钙、镁和钠从玻璃基材向涂层叠层的迁移减少。

实施例5

使用本发明的涂层和基线双重、三重或四重银低e-涂层(没有阻挡层)制备单片(monolithic)玻璃和隔绝玻璃单元(IGU)。

基线低e-涂层具有以下整体结构：玻璃/介电/金属性层+底漆层/介电层。基线低e-涂层中的金属层是连续的金属层，并且具有至少1个底漆层，或者可以具有2个底漆层。

对于实施例7的单片玻璃，将本发明的涂层施加到透明的玻璃基材上。对于比较例8的单片玻璃，将基线涂层施加到透明的玻璃基材上。

实施例8的IGU具有以下结构：

透明的玻璃

空气间隙

在3号表面上具有本发明涂层的透明的玻璃。

比较例9的IGU具有以下结构：

透明的玻璃

空气间隙

在3号表面上具有基线涂层的玻璃。

实施例9的IGU具有以下结构：

在2号表面上具有基线涂层的透明的玻璃

空气间隙

在4号表面上具有本发明涂层的玻璃。

比较例10的IGU具有以下结构：

在2号表面上具有基线涂层的透明的玻璃

空气间隙

在4号表面上具有基线涂层的玻璃。

基线单片玻璃和IGU的颜色性能如表7所示。

表7

实施例6

一种示例性的本发明的涂覆的制品如表8中所示。

表8

实施例7

一种示例性的本发明的涂覆的制品如表9中所示。

表9

实施例8

一种示例性的本发明的涂覆的制品如表10中所示。

表10

实施例9

一种示例性的本发明的涂覆的制品如表11中所示。

表11

实施例10

一种示例性的本发明的涂覆的制品如表12中所示。

表12

实施例11

为玻璃基材涂覆阻挡层，其中阻挡层具有阻挡膜、作为第二膜的锡酸锌、作为第三膜的氧化锌。阻挡膜是SiAlN(厚度为

或/>

)或SiAlON(厚度为/>

或/>

)。将经涂覆的基材加热，并测定湿摩擦耐久性。涂有厚度为/>

和/>

的SiAlN阻挡膜的玻璃基材在加热后湿摩擦可接受性降低。涂有厚度为/>

的SiAlN阻挡膜的玻璃基材在加热之前和之后都具有100％的湿摩擦可接受性。涂有厚度为/>

的SiAlON阻挡膜的玻璃基材在加热后具有100％的湿红摩擦可接受性。涂有厚度为/>

的SiA1ON阻挡膜的玻璃基材在加热之前和之后都具有100％的湿摩擦可接受性。

本领域技术人员将容易理解，在不偏离前述描述中公开的概念的情况下，可以对本发明进行修改。因此，本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的，而不限制本发明的范围，本发明将被赋予权利要求及其任何和所有等价物的全部范围。

Claims

1.一种涂覆的制品，包括：

基材，所述基材包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；和

施加在所述第一表面或所述第二表面的上方的功能涂层，所述功能涂层包括：

在所述基材的至少一部分的上方的阻挡层，其中所述阻挡层包括第一膜、第二膜和第三膜；其中所述阻挡层的所述第一膜是阻挡膜；其中阻挡膜包括氧化硅、氧化铝硅、氮氧化硅、氮氧化铝硅、或其组合；

在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；和

在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层；

其中所述涂覆的制品是可回火的。

2.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜的氧氮比为0％至50％的氧与100％至50％的氮。

3.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包含1重量％至25重量％的铝和99重量％至75重量％的硅。

4.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜的光学折射指数为至少1.4且不大于2.3。

5.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述阻挡膜包括

至/>

的总厚度。

6.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述第二膜包含在所述阻挡膜的至少一部分的上方的锡酸锌。

7.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述第三膜包括在所述第二膜的至少一部分的上方的氧化锌。

8.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中所述金属性层包括银、金、钯、铜、其合金、其混合物、或其组合。

9.根据权利要求1所述的涂覆的制品，还包括形成在所述金属性层的上方的第一底漆层，

其中所述底漆层选自钛、硅、二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、镍、锆、锌、铝、钴、铬、铝、其合金、或其混合物。

10.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其进一步包含包括保护性层的最外保护性涂层，其中所述保护性层包含Si₃N₄、SiAlN、SiAlON、TiAlO、二氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、或其组合中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中施加在所述表面上方的所述功能涂层进一步包括：

在所述金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；

在所述中间层的至少一部分的上方的第二金属性层；和

在所述第二金属性层的至少一部分的上方的任选第二底漆层，

其中所述顶层在所述任选第二底漆层或所述第二金属性层的至少一部分的上方。

12.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中施加在所述表面上方的所述功能涂层进一步包括：

在所述金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；

在所述第一中间层的至少一部分的上方的第二金属性层；

在所述第二金属性层的至少一部分的上方的第二中间层；

在所述第二中间层的至少一部分的上方的第三金属性层；和

在所述第三金属性层的至少一部分的上方的任选第三底漆层，

其中所述顶层在所述任选第三底漆层或所述第三金属性层的至少一部分的上方。

13.根据权利要求1所述的涂覆的制品，其中施加在所述表面上方的所述涂层进一步包括：

在所述金属性层的至少一部分的上方的第一中间层；

在所述第一中间层的至少一部分的上方的第二金属性层；

在所述第二金属性层的至少一部分的上方的第二中间层；

在所述第二中间层的至少一部分的上方的第三金属性层；

在所述第三金属性层的至少一部分的上方的第三中间层；

在所述第三中间层的至少一部分的上方的第四金属性层；和

在所述第四金属性层的至少一部分的上方的任选第四底漆层，

其中所述顶层在所述任选第四底漆层或所述第四金属性层的至少一部分的上方。

14.一种制造涂覆的制品的方法，包括：

提供涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与第一表面相对的第二表面，其中所述涂覆的制品包括在第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层；和

将所述涂覆的制品回火，

其中所述涂覆的制品在回火后具有通过ΔEcmc测量的不超过4.5的光学色移。

15.一种减少涂覆的制品的红雾的方法，所述方法包括：

提供涂覆的制品，所述涂覆的制品包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，其包括在所述第二表面或第一表面的至少一部分的上方的阻挡层；在所述阻挡层的至少一部分的上方的金属性层；以及在所述金属性层的至少一部分的上方的顶层，和

将所述涂覆的制品回火，

其中所述涂覆的制品在回火后具有减少的红雾。