CN116250810A - 用于显微成像系统的信号保持电路和双模式显微成像系统 - Google Patents

Abstract

本申请公开了用于显微成像系统的信号保持电路和双模式显微成像系统，电路包括：最大信号采样模块、脉冲放电模块和信号跟随模块；最大信号采样模块包括第一运算放大器、第一电阻、二极管和第一三极管，用于获取样品产生的最大超声信号；脉冲放电模块包括第二电阻、第二三极管和放电电容，用于实现脉冲放电；信号跟随模块包括第二运算放大器，用于跟随输出最大超声信号。因此，本申请能够解决现有技术的三维特征太过复杂，容易造成器件压力，降低显微成像速度的技术问题。

Description

用于显微成像系统的信号保持电路和双模式显微成像系统

技术领域

本申请涉及显微成像技术领域，尤其涉及用于显微成像系统的信号保持电路和双模式显微成像系统。

背景技术

显微成像技术得益于其优秀的成像深度，清晰的分辨率，以及可以活体生物成像的优点，所以近年来其在生物医学成像领域得到了广泛研究，通过脉冲激光到生物组织上，生物组织对激光能量的吸收而产生的光声效应使得其能产生一定的超声信号，通过对超声信号的接收以及信号调节即可对生物组织内部进行成像来观察其病变情况，组织结构等等。

但是，光声显微成像一般是三维图像，并不是所有的应用场景都需要如此复杂的三维特征，复杂的三维特征需要高速采集卡和处理器才能进行信息处理，这样不仅会造成传输压力，还会提高器件成本，甚至会降低成像速度。

发明内容

本申请提供了用于显微成像系统的信号保持电路和双模式显微成像系统，用于解决现有技术的三维特征太过复杂，容易造成器件压力，降低显微成像速度的技术问题。

有鉴于此，本申请第一方面提供了用于显微成像系统的信号保持电路，包括：最大信号采样模块、脉冲放电模块和信号跟随模块；

所述最大信号采样模块包括第一运算放大器、第一电阻、二极管和第一三极管，用于获取样品产生的最大超声信号；

所述脉冲放电模块包括第二电阻、第二三极管和放电电容，用于实现脉冲放电；

所述信号跟随模块包括第二运算放大器，用于跟随输出所述最大超声信号。

优选地，所述第一运算放大器的同相输入端接入超声信号作为输入；

所述第二运算放大器的反相输入端与相应的输出端连接，构成所述信号跟随模块的输出口。

优选地，所述第一运算放大器的反向输入端与所述二极管的阴极连接，且输出端与所述二极管的阳极连接；

所述第二运算放大器的同相输入端分别与所述二极管的阴极和放电电容的一端连接。

优选地，所述第一电阻包括两个；

两个所述第一电阻均与所述第一运算放大器连接；

所述第二电阻的一端与所述第二三极管的基极连接；

所述第二三极管的集电极与所述放电电容的另一端连接，且发射极接地。

优选地，所述第一运算放大器的反向输入端与所述第一三极管的源极连接，且输出端与所述第一电阻的一端连接；

所述第二运算放大器的同相输入端与所述第二三极管的集电极连接。

优选地，所述第一三极管的栅极与所述第一电阻的另一端连接，且漏极分别与所述源极和所述放电电容的一端连接；

所述放电电容的另一端与所述第二三极管的发射极均接地；

所述第二三极管的基极与所述第二电阻的一端连接。

本申请第二方面提供了一种双模式显微成像系统，包括：激光生成组件、超声发生组件、信号接收部件、控制分析模块和第一方面任意一种所述的信号保持电路；

所述激光生成组件包括激光器和光束调整组件，用于产生脉冲激光，对所述脉冲激光进行光束处理，并将所述脉冲激光发射至样品上；

所述超声发生组件包括超声波发生部件和发射超声换能器，用于产生超声脉冲，并将所述超声脉冲发射至所述样品上；

所述信号接收部件为接收超声换能器，设置在所述样品下方，用于接收样品产生的超声信号；

所述信号保持电路，用于在接收的所述超声信号中获取最大超声信号，实现脉冲放电，并跟随输出所述最大超声信号；

所述控制分析模块，用于控制系统的时序同步，并根据所述最大超声信号进行显微成像处理，得到目标图像。

优选地，所述光束调整组件包括光束整形部件、扫描机构和透镜；

所述光束整形部件，用于对所述脉冲激光进行光束整形；

所述扫描机构，用于将所述脉冲激光发射至所述透镜，通过所述透镜将所述脉冲激光聚焦在样品上；

所述激光器和所述光束整形部件同轴设置，且所述扫描机构和所述透镜同轴设置。

优选地，还包括：电机驱动平台；

所述电机驱动平台布设在所述样品下方，用于调整所述样品的位置。

优选地，还包括：放大器和信号采集模块；

所述放大器通信连接在所述信号接收部件与所述信号保持电路之间，用于对所述超声信号进行放大处理；

所述信号采集模块包括采集卡和采样电路，用于采集所述最大超声信号，并发送至所述控制分析模块。

从以上技术方案可以看出，本申请实施例具有以下优点：

本申请中，提供了用于显微成像系统的信号保持电路，包括：最大信号采样模块、脉冲放电模块和信号跟随模块；最大信号采样模块包括第一运算放大器、第一电阻、二极管和第一三极管，用于获取样品产生的最大超声信号；脉冲放电模块包括第二电阻、第二三极管和放电电容，用于实现脉冲放电；信号跟随模块包括第二运算放大器，用于跟随输出最大超声信号。

本申请提供的用于显微成像系统的信号保持电路，通过最大信号采样模块仅对超声信号中的峰值进行采样保持，从而获取到最大超声信号，这样就可以减少特征信息量的处理，也就不需要配置更高要求的相关处理器件了；而且，电路结构简单，易执行，能够满足信息采集需求，可以适用于对复杂且深度信息要求不高的多种显微成像场景。因此，本申请能够解决现有技术的三维特征太过复杂，容易造成器件压力，降低显微成像速度的技术问题。

附图说明

图1为本申请实施例提供的用于显微成像系统的信号保持电路的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的基于二极管控制信号保持电路的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的基于三极管控制信号保持电路的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的激光显微成像系统的结构示意图；

图5为本申请实施例提供的超声显微成像系统的结构示意图；

图6为本申请实施例提供的接收超声换能器获取超声信号的示意图一；

图7为本申请实施例提供的接收超声换能器获取超声信号的示意图二；

图8为本申请实施例提供的接收超声换能器获取超声信号的示意图三；

附图标记：

最大信号采样模块1；脉冲放电模块2；信号跟随模块3；激光器10；超声波发生部件11；光束整形部件20；扫描机构30；电机驱动平台31；接收超声换能器40；发射超声换能器41；放大器50；信号保持电路60；信号同步模块70；信号采集模块80；计算机90；样品400；透镜401。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

为了便于理解，请参阅图1，本申请提供用于显微成像系统的信号保持电路的实施例，包括：最大信号采样模块1、脉冲放电模块2和信号跟随模块3。

最大信号采样模块1包括第一运算放大器、第一电阻、二极管和第一三极管，用于获取样品400产生的最大超声信号；

脉冲放电模块2包括第二电阻、第二三极管和放电电容，用于实现脉冲放电；

信号跟随模块3包括第二运算放大器，用于跟随输出最大超声信号。

进一步地，第一运算放大器的同相输入端接入超声信号作为输入；

第二运算放大器的反相输入端与相应的输出端连接，构成信号跟随模块3的输出口。

可以理解的是，第一运算放大器可进行信号对比，对激发的超声信号进行峰值保持，基于此获取到最大超声信号。电路的输出端也是由运算放大器构成，主要作用是信号跟随输出，增强负载，便于后续的信号采集。此外，脉冲放电模块2主要是通过放电电容等器件在采集一次最大超声信号之后，对电路进行放电，恢复为无信号电路，等待下一个信号来临。本电路可以将信号最大值保持一定时间，直到信号被采集卡采集并成像；由于采集的是峰值信号，而不是信号整体或者更加复杂的信号特征，所以处理信号所需的器件要求也不会很高，成像速度会加快，需要的数据量也会大大的减少。

为了便于理解，在上一个实施例的基础上，本申请详细限定两种电路结构，第一种是在上述实施例结构的基础上进一步限定，请参阅图2，第一运算放大器的反向输入端与二极管的阴极连接，且输出端与二极管的阳极连接；第二运算放大器的同相输入端分别与二极管的阴极和放电电容的一端连接。

进一步地，第一电阻包括两个；

两个第一电阻均与第一运算放大器连接；

第二电阻的一端与第二三极管的基极连接；

第二三极管的集电极与放电电容的另一端连接，且发射极接地。

图2给出的一种采用二极管进行控制的电路，包括两个第一电阻，也可称为外部电阻，即第一电阻R10和第一电阻R11，还有一个第二电阻R12，第一运算放大器U10，第二运算放大器U11，一个二极管D10，一个放电电容C10和一个第二三极管Q10。此外，第二电阻R12的另一端是用来接入输入信号的；而且第二三极管Q10的集电极与放电电容C10的另一端连接够，接地，便于脉冲放电；本实施例中的第一运算放大器U10选用的是跨导运算放大器。而且，第一电阻R10一端与第一运算放大器连接，另一端接VEE；第一电阻R11两端接至第一运算放大器的不同引脚上。

其中，第一运算放大器U10、两个第一电阻和二极管D10构成了用于采集样品400产生的最大超声信号的最大信号采样模块1；第二运算放大器U11和电路输出端口构成了用于跟随输出最大超声信号的信号跟随模块3；而第二电阻R12、第二三极管Q10和放电电容C10则构成了用于脉冲放电的脉冲放电模块2。

二极管D10的作用主要用于控制放电电容C10的充电和放电，处于充电过程时，第一运算放大器U10输出处于高电平，此时二极管D10导通对放电电容充电；保持信号峰值时，第一运算放大器U10输出处于低电平，此时二极管截止，通过放电电容C10放电，基于此实现电路对超声信号的峰值采集功能。该电路可以针对不同参数的激光激发不同带宽的超声信号，能够有效采集到最大超声信号。此外，两个第一电阻是用来控制第一运算放大器跨导电流参数。

该电路的工作原理是：超声信号送入第一运算放大器U10同相输入端后，第一运算放大器U10对输出信号反馈至反向输入端进行电压值比较，若传输至第一运算放大器U10同相输入端的超声信号未达到最大值时，第一运算放大器U10将不断向外输出高电平，此时二极管D10处于导通状态，并向放电电容C10进行充电；若传输至第一运算放大器U10同相输入端超声信号达到最大值时，此时第一运算放大器U10输出低电平信号，二极管D10处于截止状态，且放电电容C10进行放电。放电电压值即为超声信号最大值，由第二运算放大器U11构成的电压跟随器输出超声信号最大值电压。待信号采样到最大超声信号后，向第二三极管Q10输入脉冲，进行放电处理以便对下一个超声信号进行采样。本实施例的电路结构通频带较宽，且稳定性好。

第二种也是在第一个实施例的基础上进一步限定，请参阅图3，第一运算放大器的反向输入端与第一三极管的源极连接，且输出端与第一电阻的一端连接；

第二运算放大器的同相输入端与第二三极管的集电极连接。

进一步地，第一三极管的栅极与第一电阻的另一端连接，且漏极分别与源极和放电电容的一端连接；

放电电容的另一端与第二三极管的发射极均接地；

第二三极管的基极与第二电阻的一端连接。

图3给的是一种基于三极管控制的电路结构，该电路主要包括一个第一电阻R20，一个第二电阻R21，第一运算放大器U20，第二运算放大器U21，一个放电电容C20，一个第一三极管Q20和一个第二三极管Q21。此外，第二电阻R21的另一端接入输入信号；放电电容C20的一端与第二运算放大器U21的同相输入端连接，另一端接地，用于放电；本实施例中的第一运算放大器U20选用的是电压型运算放大器。

其中，第一运算放大器U20、第一电阻R20和第一三极管Q20构成了用于采集样品400产生的最大超声信号的最大信号采样模块1；第二运算放大器U21和电路输出端口构成了用于跟随输出最大超声信号的信号跟随模块3；而第二电阻R21、第二三极管Q21和放电电容C20则构成了用于脉冲放电的脉冲放电模块2。该电路可以针对不同的光强度激发不同带宽的超声信号，能够有效采集到最大超声信号。

该电路的工作原理是：超声信号送入第一运算放大器U20同相输入端后，第一运算放大器U20对输出信号反馈至反向输入端进行电压值比较，若传输至第一运算放大器U20同相输入端的超声信号未达到最大值时，运算放大器U20将持续向第一三极管Q20输出高电平；此时第一三极管Q20处于导通状态并向放电电容C20进行充电；若传输至第一运算放大器U20同相输入端超声信号达到最大值时，此时第一运算放大器U20输出低电平信号，第一三极管Q20处于截止状态，且放电电容C20进行放电。放电电压值即为超声信号最大值，由第二运算放大器U21构成的电压跟随器输出超声信号最大值电压。待成功采样到超声信号最大值后，向第二三极管Q21输入脉冲，进行放电处理以便对下一个超声信号进行采样。本实施例的电路结构通频带较窄。

本申请实施例提供的用于显微成像系统的信号保持电路60，通过最大信号采样模块仅对超声信号中的峰值进行采样保持，从而获取到最大超声信号，这样就可以减少特征信息量的处理，也就不需要配置更高要求的相关处理器件了；而且，电路结构简单，易执行，能够满足信息采集需求，可以适用于对复杂且深度信息要求不高的多种显微成像场景。因此，本申请实施例能够解决现有技术的三维特征太过复杂，容易造成器件压力，降低显微成像速度的技术问题。

为了便于理解，请参阅图4和图5，本申请提供了一种双模式显微成像系统的实施例，包括：激光生成组件、超声发生组件、信号接收部件、控制分析模块和上述实施例中任意一种信号保持电路60。

激光生成组件包括激光器10和光束调整组件，用于产生脉冲激光，对脉冲激光进行光束处理，并将脉冲激光发射至样品400上。

进一步地，光束调整组件包括光束整形部件20、扫描机构30和透镜401；

光束整形部件20，用于对脉冲激光进行光束整形；

扫描机构30，用于将脉冲激光发射至透镜401，通过透镜401将脉冲激光聚焦在样品400上；

激光器10和光束整形部件20同轴设置，且扫描机构30和透镜401同轴设置。

激光生成组件由多种器件组合而成，其中激光器10用于产生脉冲激光；光束整形部件20用于光路整形；扫描机构30用于将接收的脉冲激光扫射至样品400上，而且可以改变光照区域，使得脉冲激光能够覆盖样品400的待扫描区域；透镜401则是用来聚焦激光。

请参阅图6、7和8，激光器10、光束整形部件20、扫描机构30和透镜401是依次同轴设置的，样品400在透镜401之后，可以接收到经过处理的脉冲激光，并产生对应的超声信号。此外，光束整形部件20水平放置在激光器10与扫描机构30之间，其放置位置根据透镜401参数以及激光器10前度调整，保证脉冲激光光束进入扫描机构30时能够完成成像需求即可，在此不作限定。

扫描机构30可以采用二维振镜，通过控制电流大小调整振镜旋转角度，使激光器10所发射的脉冲激光能够有效覆盖检测样品400全方位以达检测作用。而且，透镜401可以根据情况选取数量，多个透镜401则可以构成透镜401组，单个透镜401亦可完成相应聚焦任务。

超声发生组件包括超声波发生部件11和发射超声换能器41，用于产生超声脉冲，并将超声脉冲发射至样品400上。

进一步地，还包括：电机驱动平台31；

电机驱动平台31布设在样品400下方，用于调整样品400的位置。

超声波发生组件主要由超声波发生部件11和发射超声换能器41构成，超声波发生部件11用于生成超声脉冲，发射超声换能器41则可以将产生超声脉冲发射至样品400上。本实施例中的电机驱动平台31设置在样品400下方，用于调整样品400的空间位置，使超声脉冲能够覆盖整个样品400。

信号接收部件为接收超声换能器40，设置在样品400下方，用于接收样品400产生的超声信号。

不论是脉冲激光还是超声脉冲照射的样品400，都可以使样品400激发出超声信号，可以采用接收超声换能器40接收，然后接收超声换能器40将超声信号转换为电信号。此外，本实施例中的接收超声换能器40可以使用单透镜或者微透镜阵列，根据不同的使用条件及应用范围选择不同的传感器及摆放位置。需要说明的是，接收超声换能器40的数量与透镜401的数量应当一致对应，且透镜401可与接收超声换能器40同轴纵向分布，或则平行横向分布。将图6、7、8中的透镜401换做发射超声换能器41即适用于此处的超声显微成像的结构设计；图6和7中的接收超声换能器40用于透射，图8中的接收超声换能器40用于反射。此外，采用接收超声换能器40接收超声信号是为了避免超声信号在传输过程中受到损耗，将样品400至于水或者耦合剂中也有同样功效。

在光声显微成像系统中，若为单透镜方案，接收超声换能器40可选为非聚焦传感器或聚焦传感器。若为微透镜阵列方案，接收超声换能器40需选用有聚焦功能的传感器，保证光焦点与声焦点同轴共焦，避免不同方位的超声信号互相干扰。

发射超声换能器41置于样品400上方，接收超声换能器40置于样品400下方，这样的成像方式是透射成像方式。反射的成像方式则发射超声换能器41与接收超声换能器40置于一侧。

信号保持电路60，用于在接收的超声信号中获取最大超声信号，实现脉冲放电，并跟随输出最大超声信号。

在本实施例中，信号保持电路60能够迅速有效的检测出超声信号最大值，仅对超声信号的最大值进行采样保持，可以有效减少需要处理的信息数量且减少采集卡以及处理器的成本，使得整个系统的器件成本相较于市面上的光声成像系统更为低廉。此外，由于需要处理的信息量减少，使得整体系统的时延性大大降低，使得该成像系统在大面积，长时间成像应用上有着很好的适用性。

控制分析模块，用于控制系统的时序同步，并根据最大超声信号进行显微成像处理，得到目标图像。

本实施例中的控制分析模块包括计算机90和信号同步模块70，主要有完成两个任务，一个是系统整体的时序同步，确保显微成像的及时性和准确性，例如控制激光器10、扫描机构30等同步动作；另一个是根据最大超声信号显微成像，得到目标图像。

需要说明的是，上述实施例中提出的信号保持电路60可以用在不同的显微成像系统中，例如本实施例提出的双模式显微成像系统，双模式主要是光声显微成像和超声显微成像，脉冲激光和超声脉冲发射至样品400上，都可以使样品400产生超声信号，根据此超声信号就可以进行显微成像。

进一步地，还包括：放大器50和信号采集模块80；

放大器50通信连接在信号接收部件与信号保持电路60之间，用于对超声信号进行放大处理。放大处理有助于增强信号，便于保持电路对信号进行电压峰值提取，得到最大超声信号。而且，为了避免信号传输过程高频信号衰减，放大器50应该尽可能的靠近接收超声换能器40。

信号采集模块80包括采集卡和采样电路，用于采集最大超声信号，并发送至控制分析模块。

需要说明的是，信号采集模块80与信号保持电路60的输出端连接，用于采集最大超声信号，并发送给控制分析模块成像。而且，信号采集模块80同样受控制分析模块的控制，能够与系统保持时序同步。

基于以上双模式显微成像系统结构，以光声显微成像为例，可以设计出具体的系统工作示例：

请参阅图6，脉冲激光束射入单个透镜401中，单个透镜401能够有效聚焦脉冲激光光束，并且形成焦点射入至样品400底面，并产生超声信号被单个接收超声换能器40接收，脉冲激光束受扫描机构30控制，通过透镜401照至样品400全部区域，根据用户需求可将单个接收超声换能器40固定在某一位置上接收超声信号或跟随脉冲激光光束一同移动，使脉冲激光光束与单个接收超声换能器40保持同一竖直方向上。该方案搭建简单且数据处理速度较快，程序复杂度低，但成像时间较慢。

请参阅图7，激光器10产生多束脉冲激光，照至接收超声换能器40，脉冲激光束以一维或二维直线排列射入微透镜阵列，并将激光束聚焦为一行焦点至样品400底面，此时激励的超声信号被上方接收超声换能器40组接收，根据用户需求可将接收超声换能器40组固定在某一位置上接收超声信号或跟随激光光束一同移动，使激光光束与接收超声换能器40组保持同一竖直方向上。该方案能较大程度减少成像时间，提高成像效率，但对采集卡以及计算机90的处理速度有一定要求。

请参阅图8，激光器10产生脉冲激光照至样品400下侧，脉冲激光与图6和图7中类似，可选用单个透镜401对单束脉冲激光束聚焦，也可选用微透镜阵列对多束脉冲激光进行聚焦。所选接收超声换能器40根据透镜401模块选用来选择使用单接收超声换能器40或接收超声换能器40组，置于透镜401模块右侧成横向分布，接收由脉冲激光而激励的反射超声信号。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。

所述集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以通过一台计算机设备（可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等）执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器（英文全称：Read-OnlyMemory，英文缩写：ROM）、随机存取存储器（英文全称：Random Access Memory，英文缩写：RAM）、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

以上所述，以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，包括：最大信号采样模块、脉冲放电模块和信号跟随模块；

所述最大信号采样模块包括第一运算放大器、第一电阻、二极管和第一三极管，用于获取样品产生的最大超声信号；

所述脉冲放电模块包括第二电阻、第二三极管和放电电容，用于实现脉冲放电；

所述信号跟随模块包括第二运算放大器，用于跟随输出所述最大超声信号。

2.根据权利要求1所述的用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，所述第一运算放大器的同相输入端接入超声信号作为输入；

所述第二运算放大器的反相输入端与相应的输出端连接，构成所述信号跟随模块的输出口。

3.根据权利要求2所述的用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，所述第一运算放大器的反向输入端与所述二极管的阴极连接，且输出端与所述二极管的阳极连接；

所述第二运算放大器的同相输入端分别与所述二极管的阴极和放电电容的一端连接。

4.根据权利要求3所述的用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，所述第一电阻包括两个；

两个所述第一电阻均与所述第一运算放大器连接；

所述第二电阻的一端与所述第二三极管的基极连接；

所述第二三极管的集电极与所述放电电容的另一端连接，且发射极接地。

5.根据权利要求2所述的用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，所述第一运算放大器的反向输入端与所述第一三极管的源极连接，且输出端与所述第一电阻的一端连接；

所述第二运算放大器的同相输入端与所述第二三极管的集电极连接。

6.根据权利要求5所述的用于显微成像系统的信号保持电路，其特征在于，所述第一三极管的栅极与所述第一电阻的另一端连接，且漏极分别与所述源极和所述放电电容的一端连接；

所述放电电容的另一端与所述第二三极管的发射极均接地；

所述第二三极管的基极与所述第二电阻的一端连接。

7.一种双模式显微成像系统，其特征在于，包括：激光生成组件、超声发生组件、信号接收部件、控制分析模块和权利要求1-6中任意一项所述的信号保持电路；

所述激光生成组件包括激光器和光束调整组件，用于产生脉冲激光，对所述脉冲激光进行光束处理，并将所述脉冲激光发射至样品上；

所述超声发生组件包括超声波发生部件和发射超声换能器，用于产生超声脉冲，并将所述超声脉冲发射至所述样品上；

所述信号接收部件为接收超声换能器，设置在所述样品下方，用于接收样品产生的超声信号；

所述信号保持电路，用于在接收的所述超声信号中获取最大超声信号，实现脉冲放电，并跟随输出所述最大超声信号；

所述控制分析模块，用于控制系统的时序同步，并根据所述最大超声信号进行显微成像处理，得到目标图像。

8.根据权利要求7所述的双模式显微成像系统，其特征在于，所述光束调整组件包括光束整形部件、扫描机构和透镜；

所述光束整形部件，用于对所述脉冲激光进行光束整形；

所述扫描机构，用于将所述脉冲激光发射至所述透镜，通过所述透镜将所述脉冲激光聚焦在样品上；

所述激光器和所述光束整形部件同轴设置，且所述扫描机构和所述透镜同轴设置。

9.根据权利要求7所述的双模式显微成像系统，其特征在于，还包括：电机驱动平台；

所述电机驱动平台布设在所述样品下方，用于调整所述样品的位置。

10.根据权利要求7所述的双模式显微成像系统，其特征在于，还包括：放大器和信号采集模块；

所述放大器通信连接在所述信号接收部件与所述信号保持电路之间，用于对所述超声信号进行放大处理；

所述信号采集模块包括采集卡和采样电路，用于采集所述最大超声信号，并发送至所述控制分析模块。

Images