CN116243524A - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置,用以缓解光学不均,提高显示效果。本申请提供的阵列基板包括:衬底基板,驱动电路层以及第一电极层;驱动电路层包括子像素单元;第一电极层包括:狭缝区;狭缝区包括:多个狭缝以及位于相邻两个狭缝之间的条形部;狭缝区在衬底基板的正投影与子像素单元在衬底基板的正投影具有交叠;在第二方向上相邻两个狭缝区中,条形部的延伸方向不同;在第一方向上,相邻的两个条形部位于同一侧的边缘之间的距离为第一距离,同一狭缝区中,相邻两个条形部对应的第一距离相等,不同狭缝区对应的第一距离相等;在第一方向上,至少部分狭缝区的条形部的宽度与其余狭缝区中部分狭缝区的条形部的宽度不相等。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展和应用,用户对电子显示产品的显示效果的要求越来越高。目前,液晶显示产品的第一电极层需要设置狭缝,狭缝的宽度w及狭缝之间的距离s影响电场分布,进而影响像素透过率。为追求显示产品的高透过率,w+s的尺寸较小,在w发生局部波动时,屏幕会产生光学Mura,影响显示效果。
发明内容
本申请实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置,用以缓解光学不均,提高显示效果。
本申请实施例提供的一种阵列基板,阵列基板具体包括:衬底基板,位于衬底基板一侧的驱动电路层,以及位于驱动电路层背离衬底基板一侧的第一电极层;
驱动电路层包括多个子像素单元;
第一电极层包括:多个狭缝区;狭缝区包括:沿第一方向排列的多个狭缝,以及位于相邻两个狭缝之间的条形部;狭缝区在衬底基板的正投影与子像素单元在衬底基板的正投影具有交叠;在第二方向上相邻两个狭缝区中,条形部的延伸方向不同,且条形部的延伸方向与第一方向和第二方向均交叉;第二方向与第一方向交叉;
在第一方向上,相邻的两个条形部位于同一侧的边缘之间的距离为第一距离,同一狭缝区中,相邻两个条形部对应的第一距离相等,不同狭缝区对应的第一距离相等;在第一方向上,至少部分狭缝区的条形部的宽度与其余狭缝区中部分狭缝区的条形部的宽度不相等。
在一些实施例中,多个狭缝区包括多个第一狭缝区和多个第二狭缝区;第一狭缝区包括多个第一条形部,第二狭缝区包括多个第二条形部,第一条形部的延伸方向与第二条形部的延伸方向不同;
多个狭缝区划分为沿第二方向排列的多个狭缝区行,奇数行狭缝区行包括第一狭缝区和第二狭缝区中的一种,偶数行狭缝区行包括第一狭缝区和第二狭缝区中的另一种;
在第一方向上,至少部分第一狭缝区中的第一条形部的宽度与至少部分第二狭缝区中的第二条形部的宽度不相等。
在一些实施例中,在第二方向上相邻两个第一狭缝区和第二狭缝区中,第一条形部在第一方向上的宽度与第二条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,每一行狭缝区行中,条形部在第一方向上的宽度均相等。
在一些实施例中,第一方向上,相邻的多个子像素单元组成像素单元;
每一像素单元对应的位于同一行狭缝区行中的条形部在第一方向上的宽度均相等,位于同一行狭缝区行且位于在第一方向上相邻两个像素单元中的不同条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,第一方向上,分别位于相邻两个狭缝区中的条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,同一子像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等。
在一些实施例中,在第一方向上,分别位于相邻两个子像素单元中的不同条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,在第一方向上,相邻的多个子像素单元组成像素单元;
同一像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等;
在第一方向上,分别位于相邻两个像素单元中的不同条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,在第二方向上,分别位于相邻两个子像素单元中的不同条形部在所述第一方向上的宽度相等。
在一些实施例中,在第二方向上,分别位于相邻两个子像素单元中的不同条形部在第一方向上的宽度不相等。
在一些实施例中,每一子像素单元至少对应在第二方向相邻的两个狭缝区。
在一些实施例中,每一子像素单元对应一个狭缝区。
在一些实施例中,在第一方向上,至少部分狭缝区中条形部的宽度为第一宽度,至少部分狭缝区中条形部的宽度为第二宽度;其中,第一宽度大于w,第二宽度小于w,w为在预设灰阶下子像素单元最大透过率对应的条形部的宽度。
在一些实施例中,第一宽度为:w+a,第二宽度为:w-b;其中,a、b大于或等于0.1微米且小于或等于0.5微米。
在一些实施例中,预设灰阶为127灰阶,a=0.2,b=0.3。
在一些实施例中,驱动电路层包括:交叉设置的多条扫描线和多条数据线,以及与扫描线和数据线电连接的薄膜晶体管,扫描线和数据线划分子像单元的区域;第一电极层包括公共电极,阵列基板还包括:位于驱动电路层与公共电极之间的多个像素电极。
在一些实施例中,驱动电路层包括:交叉设置的多条扫描线和多条数据线,以及与扫描线和数据线电连接的薄膜晶体管,扫描线和数据线划分子像单元的区域;第一电极层包括与子像素单元一一对应的像素电极,阵列基板还包括:位于驱动电路层与像素电极之间的公共电极;
像素电极包括至少一个狭缝区。
本申请实施例提供的一种显示面板,显示面板包括:根本申请实施例提供的阵列基板,与阵列基板相对设置的对向基板,以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层。
本申请实施例提供的一种显示装置,显示装置包括:本申请实施例提供的显示面板。
本申请实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置,不同狭缝区中条形部的宽度不完全相等,这样,若条形部宽度发生波动时,不同条形部宽度对子像素单元的透过率的影响相互补偿甚至抵消,可以避免出现显示不均。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种显示基板的结构示意图;
图2为本申请实施例提供的另一种显示基板的结构示意图;
图3为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图4为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图5为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图6为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图7为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图8为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图9为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图10为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图11为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图12为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图13为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图14为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图;
图15为本申请实施例提供的条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线示意图;
图16为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例的附图,对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本申请的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
除非另外定义,本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。
需要注意的是,附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本申请内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
本申请实施例提供了一种阵列基板,如图1、图2所示,阵列基板具体包括:衬底基板1,位于衬底基板1一侧的驱动电路层2,以及位于驱动电路层2背离衬底基板1一侧的第一电极层3;
驱动电路层2包括多个子像素单元201;
第一电极层3包括:多个狭缝区301;狭缝区301包括沿第一方向X排列的多个狭缝3011,以及位于相邻两个狭缝3011之间的条形部3012;狭缝区301在衬底基板1的正投影与子像素单元201在衬底基板1的正投影具有交叠;在第二方向Y上相邻两个狭缝区301中,条形部3012的延伸方向不同,且条形部3012的延伸方向与第一方向X和第二方向Y均交叉;第二方向Y与第一方向X交叉;
在第一方向X上,相邻的两个条形部3012位于同一侧的边缘之间的距离为第一距离h1,同一狭缝区301中,相邻两个条形部3012对应的第一距离h1相等,不同狭缝区301对应的第一距离h1相等;在第一方向X上,至少部分狭缝区301的条形部3012的宽度与其余狭缝区301中部分狭缝区301的条形部3012的宽度不相等。
需要说明的是,由于第一电极层包括狭缝区,狭缝区包括狭缝以及条形部的这种设计影响电场分布,当阵列基板应用于液晶显示产品时,会影响子像素单元的透过率。在第一电极层制作狭缝需要进行曝光等图形化工艺。由于曝光机台需要在部分区域设置金属支撑部对待图形化的结构进行支撑,金属支撑部反射率较高,影响曝光形成的图案的尺寸,进而影响条形部尺寸。并且,由于曝光工艺中曝光机的透镜(lens)的不同区域存在曝光量偏差的问题,也会影响曝光形成的图案的尺寸,进而影响条形部尺寸。因此,对第一电极层的图形化工艺中存在部分区域的条形部的宽度存在波动的情况,由于条形部的宽度影响透过率,因此条形部的宽度发生波动的区域的透过率与条形部的宽度为发生波动的区域的透过率不相同,造成显示产品亮度不均。
本申请实施例提供的阵列基板,不同狭缝区中条形部的宽度不完全相等,这样,若条形部宽度发生波动时,不同条形部宽度对子像素单元的透过率的影响相互补偿甚至抵消,可以避免出现显示不均。
在一些实施例中,如图1、图2所示,驱动电路层2包括:交叉设置的多条扫描线202和多条数据线203,以及与扫描线202和数据线203电连接的薄膜晶体管TFT,扫描线202和数据线203划分子像素单元201的区域;薄膜晶体管TFT与子像素单元201对应设置,薄膜晶体管与子像素中的像素电极电连接。
需要说明的是,图1中未示出扫描线和数据线,图2中仅用线段简单示意扫描线和数据线的大致位置,该线段并不代表扫描线和数据线实际图案以及线宽,且图2中仅用电路符号简单示意薄膜晶体管与扫描线、数据线、第一电极层之间的电连接关系。
在一些实施例中,如图1所示,薄膜晶体管TFT包括:有源层7、栅极G、源极S和漏极D。阵列基板还包括:位于衬底基板1与有源层7之间的缓冲层11,位于有源层7与栅极G之间的栅绝缘层12,位于栅极G与源极S和漏极D之间的曾经绝缘层10,位于源极S和漏极D与第一电极层3之间的第一平坦化层9,以及位于第一电极层3背离衬底基板1一侧的保护层13。需要说明的是,本案中以顶栅结构示意,即栅极设置在有源层背离衬底基板的一侧,本案也可以是底栅结构,即栅极设置在有源层和衬底基板之间,在此不限定,本案中的有源层可以是非晶硅,低温多晶硅或者金属氧化物,在此不限定。
在一些实施例中,如图2所示,第一电极层3包括与子像素单元201一一对应的像素电极4;像素电极4包括至少一个狭缝区301;如图1所示,阵列基板还包括:位于驱动电路层2与像素电极4之间的公共电极5。或者,在一些实施例中,如图3所示,第一电极层3包括公共电极5,阵列基板还包括:位于驱动电路层2与公共电极5之间的多个像素电极4。
即本申请实施例中,条形部宽度不完全相同的第一电极层为阵列基板最远离所述衬底基板的电极层。
在一些实施例中,如图1所示,阵列基板还包括:位于像素电极4与公共电极5之间的第二平坦化层18,以及与公共电极5同层设置的连接电极8。连接电极8通过贯穿第一平坦化层9的过孔与漏极D电连接,像素电极4通过贯穿第二平坦化层18的过孔与连接电极8电连接。
在一些实施例中,如图3所示,阵列基板还包括:位于像素电极4与公共电极5之间的第二平坦化层18。在具体实施时,公共电极例如可以整层设置,即多个子像素单元对应的公共电极一体连接。
在具体实施时,本申请实施例提供的阵列基板可以应用于液晶显示面板,一个狭缝区对应液晶的一个畴区。
在一些实施例中,如图2、图4~图11所示,多个狭缝区301包括多个第一狭缝区301-1和多个第二狭缝区301-2;第一狭缝区301-1包括多个第一条形部3012-1,第二狭缝区301-2包括多个第二条形部3012-2,第一条形部3012-1的延伸方向与第二条形部3012-2的延伸方向不同;
多个狭缝区301划分为沿第二方向Y排列的多个狭缝区行6,奇数行狭缝区行6包括第一狭缝区301-1和第二狭缝区301-2中的一种,偶数行狭缝区行6包括第一狭缝区301-1和第二狭缝区301-2中的另一种;
在第一方向X上,至少部分第一狭缝区301-1中的第一条形部3012-1的宽度与至少部分第二狭缝区301-2中的第二条形部3012-2的宽度不相等。
需要说明的是,图2、图4~图11中以奇数行狭缝区行6包括第一狭缝区301-1、偶数行狭缝区行6包括第二狭缝区301-2为例进行距离说明。第一狭缝区301-1包括的狭缝为第一狭缝3011-1,第二狭缝区301-2包括的狭缝为第二狭缝3011-2。
在一些实施例中,在一些实施例中,如图2、图4、图5、图8、图9所示,每一子像素单元201至少对应在第二方向Y相邻的两个狭缝区301。即当阵列基板应用于液晶显示产品时,每一子像素单元对应液晶层取向不同的两个畴区。
当然,在具体实施时,每个子像素单元也可以对应更多狭缝区。
在一些实施例中,在一些实施例中,如图6、图7、图10、图11所示,每一子像素单元201对应一个狭缝区301。
在一些实施例中,如图2、图4~图8所示,在第二方向Y上相邻两个第一狭缝区301-1和第二狭缝区301-2中,第一条形部3012-1在第一方向X上的宽度与第二条形部3012-2在第一方向X上的宽度不相等。
本申请实施例提供的阵列基板,在第二方向上任意相邻两个狭缝区,第一条形部的宽度与第二条形部的宽度不相等,当在第二方向上相邻两个狭缝区中的条形部的宽度存在工艺波动时,第一条形部宽度存在工艺波动对第一狭缝区的透过率的影响和与其相邻的第二条形部宽度存在工艺波动对第二狭缝区的透过率的影响可以相互补偿甚至抵消。
本申请实施例提供的阵列基板,当子像素单元对应两个狭缝区或更多狭缝区时,即便子像素单元对应的区域第一电极层的图形化工艺在工艺波动,导致条形部的实际宽度相比于设计宽度增加或减小,由于子像素单元包括的相邻两个狭缝区中第一条形部的宽度与第二条形部的宽度不相等,当在第二方向上相邻两个狭缝区中的条形部的宽度存在工艺波动时,第一条形部宽度存在工艺波动对第一狭缝区的透过率的影响和与其相邻的第二条形部宽度存在工艺波动对第二狭缝区的透过率的影响可以相互补偿甚至抵消。
在一些实施例中,当子像素单元对应两个狭缝区或更多狭缝区时,一个子像素单元对应的相邻两个狭缝区中,第一狭缝与第二狭缝连通,第一条形部和第二条形部一体连接,且在连接处第一条形部与第二条形部在第一方向上的中点重合,从而可以在各狭缝区的第一距离相等的情况下,实现第一狭缝与第二狭缝连通且第一条形部和第二条形部一体连接且第一条形部与第二条形部的宽度不相等。
在一些实施例中,如图2、图6所示,每一行狭缝区行6中,条形部3012在第一方向X上的宽度均相等。
本申请实施例提供的阵列基板,通过设置在第二方向上任意相邻两个狭缝区中第一条形部的宽度与第二条形部的宽度不相等,来实现条形部宽度存在工艺波动对透过率的影响可以相互补偿甚至抵消,同时,每一行狭缝区行中条形部在第一方向上的宽度均相等,从而有利于提高每一狭缝区行包括的多个狭缝区对应的区域的透过率的均一性,进而提高显示均一性。
在一些实施例中,位于不同狭缝区行的延伸方向相同的条形部在第一方向上的宽度均相等;如图2、图6所示,位于不同狭缝区行6的第一条形部3012-1在第一方向X上的宽度相等,位于不同狭缝区行6的第二条形部3012-2在第一方向X上的宽度相等。
本申请实施例提供的阵列基板,位于不同狭缝区行的第一条形部在第一方向上的宽度相等,且位于不同狭缝区行的第二条形部在第一方向X上的宽度相等,当子像素单元对应两个或更多个狭缝区时,从而当子像素单元对应两个狭缝区或更多狭缝区时,不同子像素单元中条形部的宽度设置方式相同。
或者,在一些实施例中,如图3、图7所示,第一方向X上,相邻的多个子像素单元201组成像素单元14。
在一些实施例中,如图3、图7所示,每一像素单元14对应的位于同一行狭缝区行6中的条形部3012在第一方向X上的宽度均相等,位于同一行狭缝区行6且位于在第一方向X上相邻两个像素单元14中的不同条形部3012在第一方向X上的宽度不相等。
本申请实施例提供的阵列基板,每一像素单元中位于同一狭缝区行的条形部在第一方向上的宽度均相等,即每一像素单元中位于同一狭缝区行的第一条形部在第一方向上的宽度均相等、位于同一狭缝区行的第二条形部在第一方向上的宽度均相等,从而在实现条形部宽度存在工艺波动对透过率的影响可以相互补偿甚至抵消的同时,可以保证每一像素单元的一行狭缝区行对应的区域的透过率的均一性。
或者,在一些实施例中,如图5、图8所示,第一方向X上,分别位于相邻两个狭缝区301中的条形部3012在第一方向X上的宽度不相等。即位于任意相邻两个狭缝区301中的不同条形部3012的宽度均相不相等。从而对于任意相邻两个狭缝区,发生条形部宽度存在工艺波动对透过率的影响可以相互补偿甚至抵消。
在一些实施例中,如图6~图12所示,同一子像素单元201对应的多个条形部3012在第一方向X上的宽度均相等。
在具体实施时,当子像素单元对应两个狭缝区或更多狭缝区时,同一子像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等即一个子像素单元对应第一条形部在第一方向上的宽度与第二条形部在第一方向上的宽度相等。从而可以保证每一子像素单元对应的区域的透过率的均一性。
在一些实施例中,如图8~图11所示,在第一方向X上,分别位于相邻两个子像素单元201中的不同条形部3012在第一方向X上的宽度不相等。
从而,当对于同一子像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等的情况下,在第一方向上相邻两个子像素单元中的条形部的宽度不相等,即便在第一方向上相邻两个子像素单元对应条形部的宽度存在工艺波动,也可以使得条形部工艺波动对透过率的影响相互补偿甚至抵消。
或者,在一些实施例中,如图7、图12、图13、图14所示,在第一方向X上,相邻的多个子像素单元201组成像素单元14;
同一像素单元14对应的多个条形部3012在第一方向X上的宽度均相等;
在第一方向X上,分别位于相邻两个像素单元14中的不同条形部3012在第一方向X上的宽度不相等。
本申请实施例提供的阵列基板,当对于同一子像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等的情况下,同一像素单元对应的多个条形部在第一方向上的宽度均相等,且在第一方向上,分别位于相邻两个像素单元中的不同条形部在第一方向上的宽度不相等,从而在实现条形部宽度存在工艺波动对透过率的影响可以相互补偿甚至抵消的同时,可以保证每一像素单元的对应的区域的透过率的均一性。
在一些实施例中,如图9、图11、图12、图13所示,在第二方向Y上,分别位于相邻两个子像素单元201中的不同条形部3012在第一方向X上的宽度相等。
在一些实施例中,在一些实施例中,如图6~图8、图10、图14所示,在第二方向Y上,分别位于相邻两个子像素单元201中的不同条形部3012在第一方向X上的宽度不相等。
在一些实施例中,如图2、图4~图14所示,在第一方向X上,至少部分狭缝区301中条形部3012的宽度h2为第一宽度h2-1,至少部分狭缝区301中条形部3012的宽度为第二宽度h2-2;其中,第一宽度h2-1大于w,第二宽度h2-2小于w,w为在预设灰阶下子像素单元201最大透过率对应的狭缝3011的宽度。
需要说明的是,对于一个子像素单元对应两个狭缝区,且一个子像素单元对应第一条形部的宽度和第二条形部的宽度不相等时,一个子像素单元对应第一条形部的宽度为第一宽度、该子像素单元对应的第二条形部的宽度为第二宽度,或者,一个子像素单元对应第一条形部的宽度为第二宽度、该子像素单元对应的第二条形部的宽度为第一宽度。当每一子像素单元条形部的宽度设置方式均相同时,图2中,以每一子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第二宽度h2-2、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第一宽度h2-1为例进行举例说明,当然,也可以设置为每一子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第一宽度h2-1、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第二宽度h2-2。当每一像素单元,子像素单元条形部的宽度设置方式均相同时,如图4所示,其中一部分像素单元14中,每一子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第二宽度h2-2、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第一宽度h2-1,另一部分像素单元14中,每一子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第一宽度h2-1、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第二宽度h2-2。当任意相邻两个子像素单元条形部的宽度设置方式不相同时,如图5所示,相邻两个子像素单元中,其中一个子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第二宽度h2-2、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第一宽度h2-1,另一子像素单元201对应第一条形部301-1的宽度为第一宽度h2-1、该子像素单元201对应的第二条形部301-2的宽度为第二宽度h2-2。
需要说明的是,对于一个子像素单元对应两个狭缝区且,一个子像素单元对应第一条形部的宽度和第二条形部的宽度相等时,部分子像素单元对应的第一条形部的宽度和第二条形部的宽度为第一宽度、另一部分子像素单元对应的第一条形部的宽度和第二条形部的宽度为第二宽度。
需要说明的是,条形部的宽度影响子像素单元的透过率,条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线如图15中的a曲线所示,该曲线的形状类似抛物线形,即随着条形部宽度增大,透过率先增大到w之后再减小。本申请实施例提供的阵列基板,第一宽度大于w、第二宽度小于w,当条形部的宽度发生工艺波动时,以宽度增加为例,第一宽度对应的区域透过率增大,而第二宽度对应的区域的透过率减小,从而可以实现不同条形部的宽度工艺波动对透过率的影响互补。
需要说明的是,当第一距离确定的情况下,w对应的狭缝在第一方向上的宽度为s,w:s影响条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线的对称性。
在一些实施例中,如图15所示,a曲线对应的w:s为2.3:3.5。本申请实施例提供的阵列基板,由于不同狭缝区对应的第一距离相同,相比于第一距离不同的情况,且选择合适的w:s,可以使得条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线对称性较好,即曲线形状类似抛物线形。这样,当条形部宽度存在工艺波动比设计宽度增大或减小时,工艺波动对透过率变化的影响更为对称,更有利于实现不同条形部的宽度工艺波动对透过率的影响互补。图15中,b、c、d曲线虽然也为不同狭缝区对应的第一距离相同情况下的条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线,但b、c、d曲线对称性较差,b、c、d曲线对应的w:s分别为:2:3.8、2.1:3.7、2.2:3.6。
在一些实施例中,预设灰阶为127灰阶。需要说明的是,图15即为127灰阶下,条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线。
在一些实施例中,第一宽度为:w+a,第二宽度为:w-b;其中,a、b大于或等于0.1微米且小于或等于0.5微米。
需要说明的是,由于条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线为抛物线型,本申请实施例提供的阵列基板,当第一宽度w+a大于w且第二宽度w-b小于w的情况下,在127灰阶下,a、b大于或等于0.1微米且小于或等于0.5微米可以使得条形部的宽度处于曲线中透过率变化比较平滑的区域,当条形部的宽度发生工艺波动时,透过率的变化较小,避免透过率变化较大造成显示不均。
在一些实施例中,条形部的宽度与子像素单元的透过率关系曲线中,w+a、w-b对应的透过率相等,可以避免条形部的宽度引起的透过率差异。
在一些实施例中,在127灰阶下,a=0.2,b=0.3。
本申请实施例提供的一种显示面板,如图16所示,显示面板包括:根本申请实施例提供的阵列基板15,与阵列基板15相对设置的对向基板16,以及位于阵列基板15和对向基板16之间的液晶层17。
在具体实施时,对向基板也包括衬底基板,还包括在衬底基板朝向液晶层一侧的多个色阻和黑矩阵;黑矩阵具有与子像素单元一一对应的开口区,色阻包括位于开口区内的部分。黑矩阵的开口区即为显示面板子像素的透光区。
在一些实施例中,像素单元包括红色子像素单元、蓝色子像素单元以及绿色子像素单元;相应的多个色阻包括:多个红色色阻、多个蓝色色阻以及多个绿色色阻。
本申请实施例提供的一种显示装置,显示装置包括:本申请实施例提供的显示面板。
在一些实施例中,显示装置还包括背光模组;显示面板位于背光模组的出光侧。
本申请实施例提供的显示装置为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的,在此不做赘述,也不应作为对本申请的限制。该显示装置的实施可以参见上述阵列基板、显示面板的实施例,重复之处不再赘述。
综上所述,本申请实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置,不同狭缝区中条形部的宽度不完全相等,这样,若条形部宽度发生波动时,不同条形部宽度对子像素单元的透过率的影响相互补偿甚至抵消,可以避免出现显示不均。
尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样,倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内,则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (20)
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板具体包括:衬底基板,位于所述衬底基板一侧的驱动电路层,以及位于所述驱动电路层背离所述衬底基板一侧的第一电极层;
所述驱动电路层包括多个子像素单元;
所述第一电极层包括:多个狭缝区;所述狭缝区包括:沿第一方向排列的多个狭缝,以及位于相邻两个所述狭缝之间的条形部;所述狭缝区在所述衬底基板的正投影与所述子像素单元在所述衬底基板的正投影具有交叠;在第二方向上相邻两个所述狭缝区中,所述条形部的延伸方向不同,且所述条形部的延伸方向与所述第一方向和所述第二方向均交叉;所述第二方向与所述第一方向交叉;
在所述第一方向上,相邻的两个所述条形部位于同一侧的边缘之间的距离为第一距离,同一所述狭缝区中,相邻两个所述条形部对应的所述第一距离相等,不同所述狭缝区对应的所述第一距离相等;在所述第一方向上,至少部分所述狭缝区的所述条形部的宽度与其余所述狭缝区中部分所述狭缝区的所述条形部的宽度不相等。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述多个狭缝区包括多个第一狭缝区和多个第二狭缝区;所述第一狭缝区包括多个第一条形部,所述第二狭缝区包括多个第二条形部,所述第一条形部的延伸方向与所述第二条形部的延伸方向不同;
所述多个狭缝区划分为沿所述第二方向排列的多个狭缝区行,奇数行所述狭缝区行包括所述第一狭缝区和所述第二狭缝区中的一种,偶数行所述狭缝区行包括所述第一狭缝区和所述第二狭缝区中的另一种;
在所述第一方向上,至少部分所述第一狭缝区中的所述第一条形部的宽度与至少部分所述第二狭缝区中的所述第二条形部的宽度不相等。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二方向上相邻两个所述第一狭缝区和所述第二狭缝区中,所述第一条形部在所述第一方向上的宽度与所述第二条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,每一行所述狭缝区行中,所述条形部在所述第一方向上的宽度均相等。
5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一方向上,相邻的多个所述子像素单元组成像素单元;
每一所述像素单元对应的位于同一行所述狭缝区行中的所述条形部在所述第一方向上的宽度均相等,位于同一行所述狭缝区行且位于在所述第一方向上相邻两个所述像素单元中的不同所述条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
6.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一方向上,分别位于相邻两个所述狭缝区中的所述条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
7.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,同一所述子像素单元对应的多个所述条形部在所述第一方向上的宽度均相等。
8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一方向上,分别位于相邻两个所述子像素单元中的不同所述条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
9.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一方向上,相邻的多个所述子像素单元组成像素单元;
同一所述像素单元对应的多个所述条形部在所述第一方向上的宽度均相等;
在所述第一方向上,分别位于相邻两个所述像素单元中的不同所述条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
10.根据权利要求8或9所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二方向上,分别位于相邻两个所述子像素单元中的不同所述条形部在所述第一方向上的宽度相等。
11.根据权利要求8或9所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二方向上,分别位于相邻两个所述子像素单元中的不同所述条形部在所述第一方向上的宽度不相等。
12.根据权利要求2~9任一项所述的阵列基板,其特征在于,每一所述子像素单元至少对应在所述第二方向相邻的两个所述狭缝区。
13.根据权利要求2~9任一项所述的阵列基板,其特征在于,每一所述子像素单元对应一个所述狭缝区。
14.根据权利要求2~9任一项所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一方向上,至少部分所述狭缝区中所述条形部的宽度为第一宽度,至少部分所述狭缝区中所述条形部的宽度为第二宽度;其中,所述第一宽度大于w,所述第二宽度小于w,w为在预设灰阶下所述子像素单元最大透过率对应的所述条形部的宽度。
15.根据权利要求14所述的阵列基板,其特征在于,所述第一宽度为:w+a,所述第二宽度为:w-b;其中,a、b大于或等于0.1微米且小于或等于0.5微米。
16.根据权利要求15所述的阵列基板,其特征在于,所述预设灰阶为127灰阶,a=0.2,b=0.3。
17.根据权利要求2~9、15、16任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述驱动电路层包括:交叉设置的多条扫描线和多条数据线,以及与所述扫描线和所述数据线电连接的薄膜晶体管,所述扫描线和所述数据线划分所述子像单元的区域;所述第一电极层包括公共电极,所述阵列基板还包括:位于所述驱动电路层与所述公共电极之间的多个像素电极。
18.根据权利要求2~9、15、16任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述驱动电路层包括:交叉设置的多条扫描线和多条数据线,以及与所述扫描线和所述数据线电连接的薄膜晶体管,所述扫描线和所述数据线划分所述子像单元的区域;所述第一电极层包括与所述子像素单元一一对应的像素电极,所述阵列基板还包括:位于所述驱动电路层与所述像素电极之间的公共电极;
所述像素电极包括至少一个所述狭缝区。
19.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:根据权利要求1~18任一项所述的阵列基板,与所述阵列基板相对设置的对向基板,以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层。
20.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括:根据权利要求19所述的显示面板。
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