CN116203036A - 引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板 - Google Patents

Abstract

一种引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板，其中，瑕疵检测方法包括：提供标准引线框架，所述标准引线框架包括重复且呈阵列排布的多个标准单元；获取所述标准引线框架的源图像；当所述标准引线框架具有预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板；提供待测引线框架，所述待测引线框架包括分别与所述标准引线框架的多个标准单元对应的多个待测单元；获取所述待测引线框架的源图像；根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测。从而，提高了对引线框架进行瑕疵检测时的准确度，降低了检测引线框架瑕疵时的过杀。

Description

引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板

技术领域

本发明涉及引线框架检测技术领域，尤其涉及一种引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板。

背景技术

引线框架作为很多集成电路的芯片载体，其质量是否可靠稳定决定了后续最终半导体产品的功能和性能，因此在实际生产过程中需要对引线框架物料进行质量检查。

常规的引线框架检测设备，通常根据1个基于标准引线框架的检测模板，对输入的待检测的引线框架进行瑕疵(defect)检查，然后根据瑕疵检查的结果，判断引线框架的出货分类：危害程度较高的直接报废，危害程度低或不影响功能的判断为良品。

然而，基于现有技术的检测模板和引线框架的瑕疵检测方法对引线框架进行瑕疵检测时，准确度较差，导致检测引线框架时的导致过杀严重。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板，以提高对引线框架进行瑕疵检测时的准确度，降低检测引线框架的瑕疵时的过杀。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供一种引线框架的瑕疵检测方法，包括：提供标准引线框架，所述标准引线框架包括重复且呈阵列排布的多个标准单元，所述阵列排布的行方向为所述标准引线框架的宽度方向，所述阵列排布的列方向为所述标准引线框架的长度方向；获取所述标准引线框架的源图像；当所述标准引线框架具有预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板，所述第一检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像；提供待测引线框架，所述待测引线框架包括分别与所述标准引线框架的多个标准单元对应的多个待测单元；获取所述待测引线框架的源图像；根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测，所述瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。

可选的，所述预设属性包括：所述标准引线框架的厚度在预设最小厚度以下、所述标准引线框架的宽度在预设最大宽度以上、所述标准引线框架的密度在预设最大密度以上、以及所述标准引线框架在行方向上的刚性在预设最小刚性以下中的一者或多者。

可选的，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板的方法包括：对所述标准引线框架的源图像进行第一区域划分，在所述标准引线框架的源图像中获取初始标准行区，所述初始标准行区内具有1行标准图像；对所述初始标准行区进行第二区域划分，在所述初始标准行区中获取1个标准单元区，所述标准单元区内具有1个标准图像；根据所述1个标准单元区对所述初始标准行区进行第三区域划分，获取1行标准单元区，以形成1个标准行区；在形成所述1个标准行区之后，为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围。

可选的，对所述初始标准行区进行第二区域划分的方法包括：对所述初始标准行区进行初始第二区域划分，在所述初始标准行区中获取1个初始标准单元区，所述初始标准单元区内具有1个标准图像；对所述初始标准单元区进行功能区划分，在所述初始标准单元区中获取若干相互独立的标准功能区，每个标准功能区具有一种功能区类型。

可选的，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区和低阈值区中的一种或多种。

可选的，所述第一预设单元偏差范围包括：与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围；为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围的方法包括：根据每个标准功能区的功能区类型，为每个标准功能区配置对应的第一预设功能区偏差范围。

可选的，在为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围之前，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板的方法还包括：根据所述1个标准行区，对所述标准行区以外的全部标准引线框架的源图像进行第四区域划分，形成若干个标准行区；根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像的方法进一步包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向以及列方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向以及列方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像。

可选的，根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵的方法包括：将所述任一待测单元的源图像与所述指定标准图像进行对比，获取对应的单元偏差特征数据；当所述对应的单元偏差特征数据超出所述第一预设单元偏差范围时，检测到所述任一待测单元具有若干瑕疵。

可选的，当所述标准引线框架不具有所述预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第二检测模板，所述第二检测模板包括：1个标准图像、以及与所述1个标准图像对应的第二预设单元偏差范围；根据所述第二检测模板和所述待测引线框架的源图像，对每个待测单元进行瑕疵检测。

相应的，本发明的技术方案还提供一种基于标准引线框架的检测模板，其特征在于，所述标准引线框架包括：重复且呈阵列排布的多个标准单元，所述阵列排布的行方向为标准引线框架的宽度方向，所述阵列排布的列方向为标准引线框架的长度方向；所述检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像。

可选的，所述第一模板图像包括：至少1个标准行区，每个标准行区内具有1行标准图像，每个标准行区包括1行标准单元区，每个所述标准单元区内具有1个标准图像，且每个所述标准单元区内的1个标准图像配置所述第一预设单元偏差范围。

可选的，所述标准单元区包括若干相互独立的标准功能区，每个标准功能区具有一种功能区类型，所述第一预设单元偏差范围包括与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围，并且，每个标准功能区配置有与每个标准功能区的功能区类型对应的第一预设功能区偏差范围。

可选的，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区和低阈值区中的一种或多种。

与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：

本发明的技术方案提供的引线框架的瑕疵检测方法中，当所述标准引线框架具有预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板，所述第一检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像。并且，对所述多个待测单元进行瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。因此，在进行瑕疵检测时，提高了与待测引线框架的源图像进行比对的基准(所述第一模板图像)的准确性，减少了待测引线框架的源图像在行方向上受光亮度变化影响而引起的超出第一预设单元偏差范围的风险，从而，提高了对引线框架进行瑕疵检测时的准确度，降低检测引线框架的瑕疵时的过杀。

附图说明

图1是一种待测引线框架的俯视送料示意图；

图2是图1中沿方向X的侧视送料示意图；

图3是本发明一实施例的引线框架的瑕疵检测方法的流程示意图；

图4是本发明一实施例的标准引线框架的结构示意图；

图5是本发明一实施例的标准引线框架的源图像示意图；

图6是本发明一实施例的待测引线框架的结构示意图；

图7是本发明一实施例的待测引线框架的源图像示意图；

图8是本发明一实施例中建立第一检测模板的流程示意图；

图9至图13是本发明一实施例中建立第一检测模板的各步骤的示意图；

图14是本发明一实施例的基于第一检测模板进行瑕疵检测的方法的流程示意图；

图15是本发明一实施例中基于第一检测模板进行瑕疵检测的步骤示意图；

图16至图17是本发明一实施例中建立第二检测模板的各步骤的示意图。

具体实施方式

如背景技术所述，基于现有技术的检测模板和引线框架的瑕疵检测方法对引线框架进行瑕疵检测时，准确度较差，导致检测引线框架时的导致过杀严重。现结合具体的实施例进行分析说明。

具体的，为了对具有多个重复的单元的引线框架进行瑕疵检测，提出了一种引线框架的瑕疵检测方法，包括：

步骤S10，将1个无瑕疵的单元的源图像作为标准模板图像；

步骤S11，为所述标准模板图像配置预设偏差范围；

步骤S13，通过光学平台采集引线框架的源图像，所述引线框架的源图像包括所述多个重复的单元的源图像；

步骤S14，将所述标准模板图像与引线框架的每个单元的源图像进行比较；

当所述标准模板图像与引线框架的任意单元的源图像之间的偏差，超出所述预设偏差范围时，执行步骤S15，判断所述任意单元具有对应的瑕疵。

从而，通过将1个无瑕疵的单元的源图像(所述标准模板图像)作为引线框架的每个单元的源图像的比对基准，判断引线框架每个单元的源图像所出现的偏差是否超出预设偏差范围，实现对引线框架的瑕疵检测。

在上述引线框架的瑕疵检测方法中，需要通过送料机构实现光学平台对于引线框架的源图像的采集。

具体的，请参考图1和图2，图1是一种待测引线框架的俯视送料示意图，图2是图1中沿方向Y的侧视送料示意图，送料机构10包括：2个在方向X上排列且沿方向Y延伸的导轨11，方向X和方向Y之间互相垂直，2个导轨11在方向X上的间距可调；位于每个导轨11在方向X上一侧的夹持机构12。

请继续参考图1和图2，将引线框架20放置于导轨11上，并且，使夹持机构12夹持引线框架20的边缘，从而，引线框架20能够稳定地沿方向Y进行送料。

所述引线框架20包括多个重复的单元21。

在送料过程中，位于送料机构10上方和下方的光学平台(未图示)，分别扫描引线框架20的正面22和反面23，获取引线框架20的正面源图像(未图示)和反面源图像(未图示)。

为了便于理解，以下将引线框架20的正面源图像(未图示)，作为上述引线框架的瑕疵检测方法中的引线框架的源图像进行说明。

当引线框架20在方向X上的宽度较大、引线框架20很薄、或是引线框架20的密度很低时，由于重力原因，位于2个夹持机构12之间的引线框架20容易下垂，导致从正面22扫描引线框架20时，在远离导轨11的区域(即靠近2个导轨11的中间区域)会更暗，并在靠近导轨11的区域会更亮。从而，在正面源图像中，各单元在方向X上的源图像会受到光亮度影响而发生较大差异。

与此同时，由于将1个无瑕疵的单元的源图像作为标准模板图像，因此，标准模板图像基本不受到光亮度变化的影响。

由此，在进行步骤S14和步骤S15时，标准模板图像与引线框架20的各单元的源图像之间的偏差，容易超出预设偏差范围，导致对瑕疵的错误判断，使得进行瑕疵检测时，准确度较差，导致检测引线框架时的导致过杀严重。

需要理解的是，类似的将引线框架20的反面源图像(未图示)，作为上述引线框架的瑕疵检测方法中的引线框架的源图像时，会导致从反面23扫描引线框架20时，在远离导轨11的区域更亮，并在靠近导轨11的区域更暗。从而，同样会在进行瑕疵检测时，发生准确度较差，造成检测引线框架时的导致过杀严重的情况。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供一种引线框架的瑕疵检测方法及基于标准引线框架的检测模板，由于根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测，且所述瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。因此，在进行瑕疵检测时，提高了与待测引线框架的源图像进行比对的基准的准确性，减少了待测引线框架的源图像在行方向上受光亮度变化影响而引起的超出第一预设单元偏差范围的风险，从而，提高了对引线框架进行瑕疵检测时的准确度，降低检测引线框架的瑕疵时的过杀。

为使本发明的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

图3是本发明一实施例的引线框架的瑕疵检测方法的流程示意图。

请参考图3，所述引线框架的瑕疵检测方法包括：

步骤S100，提供标准引线框架，所述标准引线框架包括重复且呈阵列排布的多个标准单元，所述阵列排布的行方向为所述标准引线框架的宽度方向，所述阵列排布的列方向为所述标准引线框架的长度方向；

步骤S200，获取所述标准引线框架的源图像；

步骤S300，提供待测引线框架，所述待测引线框架包括分别与所述标准引线框架的多个标准单元对应的多个待测单元；

步骤S400，获取所述待测引线框架的源图像；

当所述标准引线框架具有预设属性时，执行步骤S500，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板；以及，步骤S600，根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测；

当所述标准引线框架不具有预设属性时，执行步骤S700，根据所述标准引线框架的源图像建立第二检测模板；以及，步骤S800，根据所述第二检测模板和所述待测引线框架的源图像，对每个待测单元进行瑕疵检测。

需要理解的是，步骤S300和步骤S400与步骤S100、步骤S200、步骤S500和步骤S700之间不具有固定的先后执行顺序，步骤S300和步骤S400仅需在步骤S600和步骤S800之前执行即可。

以下结合附图进行详细说明。

请参考图4，图4是本发明一实施例的标准引线框架的结构示意图，提供标准引线框架100。

所述标准引线框架100包括：重复且呈阵列排布的多个标准单元101。

所述阵列排布的行方向X为所述标准引线框架100的宽度方向，所述阵列排布的列方向Y为所述标准引线框架100的长度方向。

需要说明的是，所述标准单元101可以是标准引线框架100中的最小重复单元，也可以包括2个以上的最小重复单元。

需要说明的是，标准引线框架100具有相对的正面(图中未标识)和反面(图中未标识)，本实施例中的标准单元101是指标准引线框架100在正面或者反面中的单面上的结构。

此外，为了便于解释和理解，图4中仅示意性地表示出多个标准单元101中的一部分，并且，尽管图4中在行方向X上，相邻标准单元101之间邻接(无间距)，但是，无论是在行方向X上，或是在列方向Y上，相邻标准单元101之间的间距可以根据实际需求而决定，所述实际需求例如是具体需要检测瑕疵的区域、引线框架的结构设计等。

请参考图5，图5是本发明一实施例的标准引线框架的源图像示意图，获取所述标准引线框架100的源图像200。

在本实施例中，利用光学平台采集所述标准引线框架100的源图像200，所述光学平台包括CCD相机等。

需要理解的是，本实施例中采集源图像的光学平台、相关设备及方法不应成为限制本发明的保护范围的特征。

需要说明的是，由于本实施例中的个标准单元101是指标准引线框架100在正面或者反面中的单面上的结构，因此，相应的，所述标准引线框架100的源图像200是指：标准引线框架100在正面或者反面中的单面的源图像。

请参考图6，图6是本发明一实施例的待测引线框架的结构示意图，提供待测引线框架300。

所述待测引线框架300：包括分别与所述标准引线框架100的多个标准单元101对应的多个待测单元301。

具体而言，所述待测引线框架300与标准引线框架100是结构一致的引线框架，相应的，待测单元301与标准单元101是结构一致的单元。

所述待测引线框架300与标准引线框架100的区别在于：所述标准引线框架100是用于建立第一检测模板或第二检测模板的引线框架。具体的，当需要建立第一检测模板时，标准引线框架100中的多个标准单元101中，至少包括一行无瑕疵的单元，以实现第一检测模板的建立；当需要建立第二检测模板时，标准引线框架100中的多个标准单元101中，至少包括一个无瑕疵的单元，以实现第二检测模板的建立。与此同时，待测引线框架300则是需要被检测是否具有瑕疵的引线框架。

优选的，在试产阶段提供标准引线框架100，并完成第一检测模板的建立。并且，在量产阶段提供待测引线框架300，以对待测引线框架300进行瑕疵检测。由此，无需在量产阶段花费时间建立第一检测模板，从而，能够更好地提高量产的效率。

请参考图7，图7是本发明一实施例的待测引线框架的源图像示意图，获取所述待测引线框架300的源图像400。

在本实施例中，利用光学平台采集所述待测引线框架300的源图像400，所述光学平台包括CCD相机等。

需要说明的是，所述待测引线框架300的源图像400是指：待测引线框架300在正面或者反面中的单面的源图像。

请继续参考图3，在本实施例中，当标准引线框架100具有预设属性时，根据所述标准引线框架100的源图像200建立第一检测模板。

在本实施例中，所述预设属性包括：所述标准引线框架100的厚度在预设最小厚度以下、所述标准引线框架100的宽度在预设最大宽度以上、所述标准引线框架100的密度在预设最大密度以上、以及所述标准引线框架在行方向X上的刚性(Rigidity，单位为N/m)在预设最小刚性以下中的一者或多者。

其中，所述标准引线框架100的密度是指：标准引线框架100在行方向X上，一行标准单元101的标准单元101数量。所述预设属性用于判断所述标准引线框架100是否属于容易受重力影响而发生形变的较宽、较薄、较重的引线框架。

所述第一检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元101的源图像200，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像。

需要理解的是，由于第一模板图像至少包括1行标准图像，因此，标准引线框架100至少包括一行无瑕疵的标准单元101。具体的，标准引线框架100至少需要具有与第一模板图像中的标准图像相当的无瑕疵的标准单元101。

请参考图8，图8是本发明一实施例中建立第一检测模板的流程示意图，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板的方法包括：

步骤S510，对所述标准引线框架的源图像进行第一区域划分，在所述标准引线框架的源图像中获取初始标准行区，所述初始标准行区内具有1行标准图像；

步骤S520，对所述初始标准行区进行第二区域划分，在所述初始标准行区中获取1个标准单元区，所述标准单元区内具有1个标准图像；

步骤S530，根据所述1个标准单元区对所述初始标准行区进行第三区域划分，获取1行标准单元区，以形成1个标准行区；

步骤S540，根据所述1个标准行区，对所述标准行区以外的全部标准引线框架的源图像进行第四区域划分，形成若干个标准行区；

步骤S550，在形成若干个标准行区之后，为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围。

图9至图13是本发明一实施例中建立第一检测模板的各步骤的示意图，以下结合图9至图13对建立第一检测模板的各步骤进行详细说明。

请参考图9，对所述标准引线框架100的源图像200进行第一区域划分，在所述标准引线框架100的源图像200中获取初始标准行区210。

所述初始标准行区内具有1行标准图像201，所述标准图像201是无瑕疵的标准单元101的源图像200。

接着，对所述初始标准行区210进行第二区域划分，在所述初始标准行区210中获取1个标准单元区，所述标准单元区内具有1个标准图像201。具体对所述初始标准行区210进行第二区域划分的步骤请参考图10和图11。

请参考图10，对所述初始标准行210进行初始第二区域划分，在所述初始标准行区210中获取1个初始标准单元区220，所述初始标准单元区220内具有1个标准图像201。

优选的，所述初始标准单元区220内的标准图像201是：在1行标准图像201中，两端的标准图像201中的一个(如图10中所示)。从而，能够利于建立第一检测模板的设备在形成标准行区时进行更准确的区域划分。

请参考图11，对所述初始标准单元区220进行功能区划分，在所述初始标准单元区220中获取若干相互独立的标准功能区221。

由此，形成1个标准单元区230，所述1个标准单元区230包括：所述若干相互独立的标准功能区221。

在本实施例中，每个标准功能区221具有一种功能区类型。

在本实施例中，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区(Plating and Key)、半蚀刻区(Half-etched)、功能区(Functional)、非功能区(Non-functional)和低阈值区(Large Low-value)中的一种或多种。

也就是说，对于1个标准功能区221的功能区类型而言，该功能区类型可以是电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区或者低阈值区。

在一些实际的应用场合中，可以由技术人员执行第一区域划分和第二区域划分。

请参考图12，根据所述1个标准单元区230对所述初始标准行区210进行第三区域划分，获取1行标准单元区230，以形成1个标准行区240。

具体而言，所述第三区域划分是通过将1个标准单元区230作为模板，对初始标准行区210中，除所述1个标准单元区230以外的其余区域进行的区域划分。

在一些实际的应用场合中，在由技术人员执行第一区域划分和第二区域划分获取初始标准行区210和1个标准单元区230后，通过用于建立第一检测模板的设备根据所述1个标准单元区230自动对初始标准行区210中的剩余区域进行划分，形成1行标准单元区230。

请参考图13，根据所述1个标准行区240，对所述标准行区240以外的全部标准引线框架100的源图像200进行第四区域划分，形成若干个标准行区240。

由此，根据若干个标准行区240形成第一模板图像500。

具体而言，第一模板图像500包括所述若干个标准行区240。也就是说，本实施例中的第一模板图像500包括：与所述全部的标准单元101一一对应的标准图像201。

相应的，在本实施例中的标准引线框架100的全部标准单元101无瑕疵。

具体而言，所述第四区域划分是通过将1个标准行区240作为模板，对标准引线框架100的源图像200中，除所述1个标准行区240以外的其余区域进行的区域划分。

在一些实际的应用场合中，通过用于建立第一检测模板的设备根据所述1个标准行区240，自动对标准引线框架100的源图像200中除所述1个标准行区240以外的其余区域进行的区域划分，形成若干个标准行区240。

在另一实施例中，不进行所述第四区域划分，第一模板图像包括1个标准行区240。从而，第一模板图像包括1行标准图像201。

请继续参考图13，为每个标准单元区230配置第一预设单元偏差范围。

具体的，根据任一标准单元区230中的标准图像201，能够获取基准数据。任一标准单元区230对应的第一预设单元偏差范围，是以任一标准单元区230中的标准图像201的基准数据为基准的偏差范围。

由此，通过划分标准单元区230，能够实现为每个标准图像201配置第一预设单元偏差范围。

所述基准数据包括：面积参数、对角线长度参数和对比度参数中的至少一者。相应的，所述第一预设单元偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者。

在本实施例中，在第四区域划分之后，进行第一预设单元偏差范围的配置。

在另一实施例中，在执行第三区域划分后进行第一预设单元偏差范围的配置。

在本实施例中，所述第一预设单元偏差范围包括：与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围。即：每种功能区类型具有各自的预设偏差范围(第一预设功能区偏差范围)。

相应的，每种功能区类型对应的第一预设功能区偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者。

需要理解的是，不同种类的功能区类型对应的第一预设功能区偏差范围之间是独立的，相互之间可以相同，也可以不相同。

在本实施例中，为每个标准单元区230配置所述第一预设单元偏差范围的方法包括：根据每个标准功能区221的功能区类型，为每个标准功能区221配置对应的第一预设功能区偏差范围。

由此，完成第一检测模板的建立。具体的，所述第一检测模板包括：所述第一模板图像500和所述第一预设单元偏差范围。

接着，根据所述第一检测模板和待测引线框架300的源图像400，对所述多个待测单元301进行瑕疵检测。

请参考图14，图14是本发明一实施例的基于第一检测模板进行瑕疵检测的方法的流程示意图，根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测的方法包括：

步骤S610，根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向以及列方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向以及列方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；

步骤S620，根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。

由于当所述标准引线框架具有预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板，所述第一检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像。并且，对所述多个待测单元进行瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。因此，在进行瑕疵检测时，提高了与待测引线框架的源图像进行比对的基准(所述第一模板图像)的准确性。具体而言，通过将在行方向上与任一待测单元位于相同位置的标准图像作为比对基准，因此，减少了待测引线框架的源图像在行方向上受光亮度变化影响而引起的超出第一预设单元偏差范围的风险。由此，提高了对引线框架进行瑕疵检测时的准确度，降低检测引线框架时的过杀。

此外，在本实施例中，由于作为比对基准的标准图像还在列方向上与所述任一待测单元位于相同位置，因此，能够进一步提高引线框架进行瑕疵检测时的准确度。不仅如此，由于在行方向和列方向上的位置相同，因此，基于第一检测模板对待测引线框架的源图像进行瑕疵检测时，二者之间可以直接根据绝对坐标确定进行指定标准图像的确定，避免了对相对坐标的转换，从而，有利于减少设备在瑕疵检测时的数据运算量，能够进一步提升瑕疵检测的效率，以提高引线框架的生产效率。

在另一实施例中，第一模板图像包括1行标准图像，并且，根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。

图15是本发明一实施例中基于第一检测模板进行瑕疵检测的步骤示意图，以下结合图15对根据所述第一检测模板和待测引线框架300的源图像400，对所述多个待测单元301进行瑕疵检测的的各步骤进行详细说明。

请参考图15，根据所述待测引线框架300的源图像400中任一待测单元301的源图像400在行方向X以及列方向Y上的位置，在所述第一模板图像500中，获取在行方向X以及列方向X上位于相同位置的标准图像201作为指定标准图像231。

在本实施例中，所述源图像400和第一模板图像500上，位于行方向X以及列方向Y上的相同位置，具有各自的原点坐标以及相对于各自原点坐标的绝对坐标。从而，能够根据源图像400中任一待测单元301的源图像401的绝对坐标，在第一模板图像500确定相同的绝对坐标，以此获取在行方向X以及列方向X上位于相同位置的标准图像201作为指定标准图像231。

需要理解的是，所述绝对坐标仅仅是用于体现任一待测单元301的源图像401、标准图像201的位置的一种位置信息类型，还可以通过相对坐标、排序位置等等其他体现位置的位置信息类型，实现指定标准图像231的确定。

在另一实施例中，第一模板图像具有原点坐标、以及相对于原点坐标的相对坐标。源图像400中的每行待测单元301的源图像具有原点坐标，且每行待测单元301的源图像的原点坐标至少在行方向X上与第一模板图像的原点坐标的位于相同位置。每行待测单元301的源图像还至少在行方向X上具有相对于每行待测单元301的源图像的原点坐标的相对坐标。从而，能够根据源图像400中任一待测单元301的源图像的相对坐标，在第一模板图像确定相同的相对坐标，以此获取在行方向X上位于相同位置的标准图像201作为指定标准图像。

请继续参考图15，将所述任一待测单元301的源图像401与所述指定标准图像231进行对比，获取对应的单元偏差特征数据。

由于所述基准数据包括：面积参数、对角线长度参数和对比度参数中的至少一者，所述第一预设单元偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者，因此，相应的，所述单元偏差特征数据包括：面积偏差数据、对角线长度偏差数据和对比度偏差数据中的至少一种。

请继续参考图15，当所述对应的单元偏差特征数据超出所述第一预设单元偏差范围时，检测到所述任一待测单元301具有若干瑕疵。

具体而言，当基于任一待测单元301的源图像401与所述指定标准图像231之间的每处偏差所获取的单元偏差特征数据，超出第一预设单元偏差范围时，判断所述任一待测单元301具有与该处偏差对应的瑕疵。

在本实施例中，基于任一待测单元301的源图像401与所述指定标准图像231之间的每处偏差所获取的单元偏差特征数据，超出第一预设单元偏差范围是指：基于任一处偏差所获取的单元偏差特征数据，超出该处偏差所在标准功能区221对应的第一预设功能区偏差范围。

请继续参考图3，在本实施例中，当所述标准引线框架100不具有所述预设属性时，根据所述标准引线框架100的源图像200建立第二检测模板。

所述第二检测模板包括：1个标准图像201、以及与所述1个标准图像201对应的第二预设单元偏差范围。

也就是说，在本实施例中，当所述标准引线框架100属于容易受重力影响而发生形变的较宽、较薄、较重的引线框架时，建立第一检测模板。而当所述标准引线框架100不属于容易受重力影响而发生形变的较宽、较薄、较重的引线框架时，建立第二检测模板。

由此，能够基于标准引线框架100的特点，针对性的建立检测模板：当标准引线框架100容易受重力影响而发生形变时，建立精度更高的第一检测模板，减少光亮度的影响；当标准引线框架100不容易受重力影响而发生形变时，建立复杂度更低的第二检测模板，提高检测模板的建立效率。

在其他实施例中，当所述标准引线框架100不具有所述预设属性时，也建立所述第一检测模板。

本实施例中建立第二检测模板的方法包括：对标准引线框架100的源图像200进行第五区域划分，在所述标准引线框架100的源图像200中获取1个标准单元区230；为所述1个标准单元区230配置第二预设单元偏差范围。

图16至图17是本发明一实施例中建立第二检测模板的各步骤的示意图。以下结合图16至图17对本实施例中建立第二检测模板的各步骤作详细说明。

请参考图16，在所述标准引线框架100的源图像200中获取1个初始标准单元区220，所述初始标准单元区220内具有1个标准图像201。

请参考图17，对所述初始标准单元区220进行功能区划分，在所述初始标准单元区220中获取若干相互独立的标准功能区221。

由此，完成第五区域划分，形成第二模板图像600，所述第二模板图像600包括1个标准单元区230。对所述1个标准单元区230的具体说明请参考对前述第一检测模板中的标准单元区230的解释说明，在此不再赘述。

请继续参考图17，为所述1个标准单元区230配置第二预设单元偏差范围。

在本实施例中，所述第二预设单元偏差范围，是以所述1个标准单元区230中的标准图像201的基准数据为基准的偏差范围。

相应的，所述第二预设单元偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者。

在本实施例中，所述第二预设单元偏差范围包括：与若干种功能区类型一一对应的若干第二预设功能区偏差范围。

相应的，每种功能区类型对应的第二预设功能区偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者。

在本实施例中，为所述1个标准单元区230配置第二预设单元偏差范围的方法包括：根据所述1个标准单元区230的每个标准功能区221的功能区类型，为每个标准功能区221配置对应的第二预设功能区偏差范围。

请继续参考图3，接着，根据所述第二检测模板和所述待测引线框架100的源图像200，对每个待测单元301进行瑕疵检测。

在本实施例中，根据所述第二检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测的方法包括：将每个待测单元301的源图像401与所述1个标准单元区230中的标准图像201进行对比，获取每个待测单元301的源图像401的单元偏差特征数据；当任一待测单元301的源图像401的单元偏差特征数据超出所述第二预设单元偏差范围时，检测到所述任一待测单元301具有若干瑕疵。

由于所述基准数据包括：面积参数、对角线长度参数和对比度参数中的至少一者，所述第二预设单元偏差范围包括：面积参数的偏差范围、对角线长度参数的偏差范围和对比度参数的偏差范围中的至少一者，因此，相应的，所述单元偏差特征数据包括：面积偏差数据、对角线长度偏差数据和对比度偏差数据中的至少一种。

需要说明的是，本实施例中的引线框架的瑕疵检测方法可以独立应用于对待测引线框架300在正面上的结构的瑕疵检测，也可以独立应用于对待测引线框架300在反面上的结构的瑕疵检测。

相应的，本发明一实施例还提供一种基于上述方法所形成的基于标准引线框架的检测模板，请继续参考图13，包括：第一模板图像500和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像500至少包括1行标准图像201，所述标准图像201是无瑕疵的标准单元101的源图像200，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像201。

在本实施例中，所述第一模板图像500包括：若干标准行区240，每个标准行区240内具有1行标准图像201。

具体而言，第一模板图像500包括：与所述全部的标准单元101一一对应的标准图像201。

在本实施例中，每个标准行区240包括1行标准单元区230，每个所述标准单元区230内具有1个标准图像201，并且，每个所述标准单元区230内的1个标准图像配置所述第一预设单元偏差范围。

具体的，所述标准单元区230包括若干相互独立的标准功能区221，每个标准功能区221具有一种功能区类型。

在本实施例中，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区和低阈值区中的一种或多种。

在本实施例中，所述第一预设单元偏差范围包括：与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围。

在本实施例中，每个标准功能区221配置有与每个标准功能区221的功能区类型对应的第一预设功能区偏差范围。

需要理解的是，本实施例中关于第一模板图像500和第一预设单元偏差范围的详细说明，可参考前述引线框架的瑕疵检测方法的实施例中对于第一模板图像500和第一预设单元偏差范围的解释说明，在此不再赘述。

在另一实施例中，第一模板图像包括：1个标准行区240。即：第一模板图像包括1行标准图像201。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (13)

1.一种引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，包括：

提供标准引线框架，所述标准引线框架包括重复且呈阵列排布的多个标准单元，所述阵列排布的行方向为所述标准引线框架的宽度方向，所述阵列排布的列方向为所述标准引线框架的长度方向；

获取所述标准引线框架的源图像；

当所述标准引线框架具有预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板，所述第一检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像；

提供待测引线框架，所述待测引线框架包括分别与所述标准引线框架的多个标准单元对应的多个待测单元；

获取所述待测引线框架的源图像；

根据所述第一检测模板和待测引线框架的源图像，对所述多个待测单元进行瑕疵检测，所述瑕疵检测的方法包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像；根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵。

2.如权利要求1所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，所述预设属性包括：所述标准引线框架的厚度在预设最小厚度以下、所述标准引线框架的宽度在预设最大宽度以上、所述标准引线框架的密度在预设最大密度以上、以及所述标准引线框架在行方向上的刚性在预设最小刚性以下中的一者或多者。

3.如权利要求1所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板的方法包括：

对所述标准引线框架的源图像进行第一区域划分，在所述标准引线框架的源图像中获取初始标准行区，所述初始标准行区内具有1行标准图像；

对所述初始标准行区进行第二区域划分，在所述初始标准行区中获取1个标准单元区，所述标准单元区内具有1个标准图像；

根据所述1个标准单元区对所述初始标准行区进行第三区域划分，获取1行标准单元区，以形成1个标准行区；

在形成所述1个标准行区之后，为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围。

4.如权利要求3所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，对所述初始标准行区进行第二区域划分的方法包括：

对所述初始标准行区进行初始第二区域划分，在所述初始标准行区中获取1个初始标准单元区，所述初始标准单元区内具有1个标准图像；

对所述初始标准单元区进行功能区划分，在所述初始标准单元区中获取若干相互独立的标准功能区，每个标准功能区具有一种功能区类型。

5.如权利要求4所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区和低阈值区中的一种或多种。

6.如权利要求4所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，所述第一预设单元偏差范围包括：与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围；

为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围的方法包括：根据每个标准功能区的功能区类型，为每个标准功能区配置对应的第一预设功能区偏差范围。

7.如权利要求6所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，在为每个标准单元区配置所述第一预设单元偏差范围之前，根据所述标准引线框架的源图像建立第一检测模板的方法还包括：根据所述1个标准行区，对所述标准行区以外的全部标准引线框架的源图像进行第四区域划分，形成若干个标准行区；

根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像的方法进一步包括：根据所述待测引线框架的源图像中任一待测单元的源图像在行方向以及列方向上的位置，在所述第一模板图像中，获取在行方向以及列方向上位于相同位置的标准图像作为指定标准图像。

8.如权利要求1至7中任一所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，根据所述任一待测单元的源图像、所述指定标准图像和所述第一预设单元偏差范围，检测所述任一待测单元的瑕疵的方法包括：

将所述任一待测单元的源图像与所述指定标准图像进行对比，获取对应的单元偏差特征数据；

当所述对应的单元偏差特征数据超出所述第一预设单元偏差范围时，检测到所述任一待测单元具有若干瑕疵。

9.如权利要求1或2所述的引线框架的瑕疵检测方法，其特征在于，还包括：

当所述标准引线框架不具有所述预设属性时，根据所述标准引线框架的源图像建立第二检测模板，所述第二检测模板包括：1个标准图像、以及与所述1个标准图像对应的第二预设单元偏差范围；

根据所述第二检测模板和所述待测引线框架的源图像，对每个待测单元进行瑕疵检测。

10.一种基于标准引线框架的检测模板，其特征在于，所述标准引线框架包括：重复且呈阵列排布的多个标准单元，所述阵列排布的行方向为标准引线框架的宽度方向，所述阵列排布的列方向为标准引线框架的长度方向；

所述检测模板包括：第一模板图像和第一预设单元偏差范围，所述第一模板图像至少包括1行标准图像，所述标准图像是无瑕疵的标准单元的源图像，所述第一预设单元偏差范围同时对应每个标准图像。

11.如权利要求10所述的基于标准引线框架的检测模板，其特征在于，所述第一模板图像包括：至少1个标准行区，每个标准行区内具有1行标准图像，每个标准行区包括1行标准单元区，每个所述标准单元区内具有1个标准图像，且每个所述标准单元区内的1个标准图像配置所述第一预设单元偏差范围。

12.如权利要求11所述的基于标准引线框架的检测模板，其特征在于，所述标准单元区包括若干相互独立的标准功能区，每个标准功能区具有一种功能区类型，所述第一预设单元偏差范围包括与若干种功能区类型一一对应的若干第一预设功能区偏差范围，并且，每个标准功能区配置有与每个标准功能区的功能区类型对应的第一预设功能区偏差范围。

13.如权利要求12所述的基于标准引线框架的检测模板，其特征在于，所述功能区类型的种类包括：电镀及关键区、半蚀刻区、功能区、非功能区和低阈值区中的一种或多种。

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