CN116076349B

CN116076349B - 一种温室水槽

Info

Publication number: CN116076349B
Application number: CN202310370385.XA
Authority: CN
Inventors: 王世伟; 侯英华
Original assignee: Shandong Shiwei Industry And Trade Co ltd
Current assignee: Shandong Shiwei Industry And Trade Co ltd
Priority date: 2023-04-10
Filing date: 2023-04-10
Publication date: 2023-06-23
Anticipated expiration: 2043-04-10
Also published as: CN116076349A

Abstract

本发明属于植物栽培技术领域，具体公开了一种温室水槽，包括主槽体，主槽体顶部为开放结构。主槽体的上方设置有栽培平台，栽培平台上设置有多个栽培钵。栽培平台能够相对主槽体升降。主槽体内盛有营养液，植物的中部固定于栽培钵内，根系从栽培钵下端伸出，并伸入主槽体内的营养液中，枝叶从栽培钵上端伸出。本发明解决了现有水槽为了解决植物根系吸氧和供液矛盾，采用植物分根技术使得根系一部分生长在营养液液位以上，会导致根部生长畸形，对于根部为主要取材部位的植物，或者后期需要移植到有土环境的植物并不适用的问题。

Description

一种温室水槽

技术领域

本发明属于植物栽培技术领域，特别涉及一种温室水槽。

背景技术

温室水槽的用途主要是栽培植物或者排水，其中无土栽培对水槽的需求量日渐增多。中国发明专利公开号CN101416606B，公开了一种无土水培毛管法栽培槽。其包括槽体、防渗漏膜、定植台、亲水性无纺布和槽盖。该发明应用了植物分根技术，即使根系一部分生长在无纺布的表面以吸收空气中的氧气，另一部分生长在营养液中以吸收所需的养分和水分，从而可使吸氧和供液矛盾得到解决。

上述技术方案至少存在以下问题：为了解决植物根系吸氧和供液矛盾，采用植物分根技术使得根系一部分生长在营养液液位以上，会导致根部生长畸形，对于根部为主要取材部位的植物，或者后期需要移植到有土环境的植物并不适用。

发明内容

本发明设计了一种温室水槽，不采用植物分根技术即可解决植物根系吸氧和供液矛盾，目的在于解决现有水槽为了解决植物根系吸氧和供液矛盾，采用植物分根技术使得根系一部分生长在营养液液位以上，会导致根部生长畸形，对于根部为主要取材部位的植物，或者后期需要移植到有土环境的植物并不适用的问题。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是：

一种温室水槽，包括主槽体，主槽体顶部为开放结构。主槽体的上方设置有栽培平台，栽培平台上设置有多个栽培钵。栽培平台能够相对主槽体升降。主槽体内盛有营养液，植物的中部固定于栽培钵内，根系从栽培钵下端伸出，并伸入主槽体内的营养液中，枝叶从栽培钵上端伸出。

进一步，栽培平台的上方连接有升降装置，升降装置安装于外界固定结构上，用于控制栽培平台的升降。

进一步，温室水槽还包括营养液补液管，用于向主槽体内补充营养液。于主槽体底部开设有营养液排液口，用于排出营养液。营养液排液口上安装有排液调节阀。营养液补液管位于主槽体的一端，营养液排液口位于主槽体的另一端。

进一步，主槽体的底部贯穿设置有补气管，补气管上开设有多个出气孔，用于连接外界气源，向营养液内补充氧气。

进一步，补气管的前端安装有补气阀。

进一步，主槽体垂直于长度方向的截面为弧形，所有出气孔均位于补气管的同侧。

进一步，主槽体的侧面设置有溢流口。

进一步，溢流口沿高度方向延伸，溢流口上设置有溢流调节阀，溢流调节阀为弧形，与主槽体的侧面贴合，并且滑动安装于主槽体上。溢流调节阀的顶部始终低于溢流口的顶部。

进一步，主槽体的外围设置有排水槽，排水槽的顶部为开放结构，主槽体从排水槽的顶部放置于排水槽内，并且与排水槽之间留有间隙。

进一步，栽培平台垂直于长度方向的截面中间高两边低，并且两侧的边缘均超出主槽体的最大宽度，小于排水槽内侧的最大宽度。

进一步，排液调节阀为弧形，与主槽体的底部贴合，并可滑动安装于主槽体上，通过滑动排液调节阀改变遮挡营养液排液口的程度，从而调节排液速度。

本发明的有益效果如下：

本发明通过控制栽培平台的升降，可以控制植物根系相对于营养液的高度，使得根系一部分位于液面以上，从空气中吸收氧气，一部分位于营养液内，从营养液中吸收营养成分和水分，无需采用植物分根技术，解决了现有水槽为了解决植物根系吸氧和供液矛盾，采用植物分根技术使得根系一部分生长在营养液液位以上，会导致根部生长畸形，对于根部为主要取材部位的植物，或者后期需要移植到有土环境的植物并不适用的问题。

栽培平台高度可控，从而可以适用于根系高度不同的植物，并且随着植物根系的生长，可以通过进一步提升栽培平台的高度，给根系末端更多的生长空间，并且使得根系更多的暴露于空气中，从空气中吸收氧气。

补气管喷出的气体带动营养液形成旋转涡流，促进氧气溶于营养液中，并使得营养液成分均匀；在更新营养液时，也能够扰动营养液，使得沉淀于主槽体底部的杂质悬浮起来，促进杂质的排出。

通过溢流调节阀调节溢流液位，可以根据不同植物在不同生长阶段的需求提供适宜的营养液深度。

溢流口溢流出来的液体以及营养液排液口排出的液体可以直接排入排水槽，通过排水槽排走；栽培平台可以阻挡温室顶部掉落的露水进入营养液中造成污染，并且露水直接沿栽培平台滑落至排水槽内排走，也不污染下方的土壤。

附图说明

图1为本发明温室水槽的立体图；

图2为本发明温室水槽的又一立体图；

图3为本发明主槽体的立体图；

图4为本发明主槽体的仰视图。

图中：100-主槽体、110-营养液补液管、120-营养液排液口、130-排液调节阀、140-补气管、150-补气阀、160-溢流口、170-溢流调节阀、200-栽培平台、210-栽培钵、220-升降装置、300-排水槽。

具体实施方式

在本实施例的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解。

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。

参照图1，本实施例公开了一种温室水槽，包括主槽体100，主槽体100顶部为开放结构。主槽体100的上方设置有栽培平台200，栽培平台200上设置有多个栽培钵210。栽培平台200能够相对主槽体100升降。主槽体100内盛有营养液，植物的中部固定于栽培钵210内，根系从栽培钵210下端伸出，并伸入主槽体100内的营养液中，枝叶从栽培钵210上端伸出。通过控制栽培平台200的升降，可以控制植物根系相对于营养液的高度，使得根系一部分位于液面以上，从空气中吸收氧气，一部分位于营养液内，从营养液中吸收营养成分和水分。栽培平台200高度可控，从而可以适用于根系高度不同的植物，并且随着植物根系的生长，可以通过进一步提升栽培平台200的高度，给根系末端更多的生长空间，并且使得根系更多的暴露于空气中，从空气中吸收氧气。

进一步，栽培平台200的上方连接有升降装置220，升降装置220安装于外界固定结构上，用于控制栽培平台200的升降。

进一步，本实施例还包括营养液补液管110，用于向主槽体100内补充营养液。于主槽体100底部开设有营养液排液口120，用于排出营养液。营养液排液口120上安装有排液调节阀130，可调节排液速度，与营养液补液管110配合，边进边出，完成营养液的更新。优选的，营养液补液管110位于主槽体100的一端，营养液排液口120位于主槽体100的另一端。

进一步，主槽体100的底部贯穿设置有补气管140，补气管140上开设有多个出气孔，用于连接外界气源，向营养液内补充氧气，进一步优化根系的生长条件。进一步，补气管140的前端安装有补气阀150。进一步，主槽体100垂直于长度方向的截面为弧形，所有出气孔均位于补气管140的同侧。这种设计可以使得喷出的气体带动营养液形成旋转涡流，促进氧气溶于营养液中，并使得营养液成分均匀；在更新营养液时，也能够扰动营养液，使得沉淀于主槽体100底部的杂质悬浮起来，促进杂质的排出。

进一步，主槽体100的侧面设置有溢流口160，用于限制主槽体100内的最高液位。进一步，溢流口160沿高度方向延伸，溢流口160上设置有溢流调节阀170，溢流调节阀170为弧形，与主槽体100的侧面贴合，并且滑动安装于主槽体100上。溢流调节阀170的顶部始终低于溢流口160的顶部。向下移动溢流调节阀170，溢流液位下降；向上移动溢流调节阀170，溢流液位上升。通过调整溢流液位，可以根据不同植物在不同生长阶段的需求提供适宜的营养液深度。

进一步，主槽体100的外围设置有排水槽300，排水槽300的顶部为开放结构，主槽体100从排水槽300的顶部放置于排水槽300内，并且与排水槽300之间留有间隙。采用这种方案，溢流口160溢流出来的液体以及营养液排液口120排出的液体可以直接排入排水槽300，通过排水槽300排走；并且排水槽300可以直接放置于地面上，排水槽300与主槽体100之间具有空气隔层，具有较好的隔热效果，降低地面温度对主槽体100内营养液的温度的影响。进一步，栽培平台200垂直于长度方向的截面中间高两边低，并且两侧的边缘均超出主槽体100的最大宽度，小于排水槽300内侧的最大宽度。采用这种方案，栽培平台200可以阻挡温室顶部掉落的露水进入营养液中造成污染，并且露水直接沿栽培平台200滑落至排水槽300内排走，也不污染下方的土壤。进一步，排液调节阀130为弧形，与主槽体100的底部贴合，并可滑动安装于主槽体100上，通过滑动排液调节阀130改变遮挡营养液排液口120的程度，从而调节排液速度。采用这种结构可以减少排液调节阀130占用的空间，不妨碍排水槽300靠近主槽体100，可以把二者之间的间隙预留的少一些，从而减小整个温室水槽占用的空间。

以上仅对本发明的较佳实施例进行了详细叙述，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种温室水槽，包括主槽体（100），其特征在于，所述主槽体（100）顶部为开放结构；所述主槽体（100）的上方设置有栽培平台（200），所述栽培平台（200）上设置有多个栽培钵（210）；所述栽培平台（200）能够相对所述主槽体（100）升降；所述主槽体（100）内盛有营养液，植物的中部固定于所述栽培钵（210）内，根系从所述栽培钵（210）下端伸出，并伸入所述主槽体（100）内的营养液中，枝叶从所述栽培钵（210）上端伸出；

所述主槽体（100）的侧面设置有溢流口（160）；

所述主槽体（100）的外围设置有排水槽（300），所述排水槽（300）的顶部为开放结构，所述主槽体（100）从所述排水槽（300）的顶部放置于所述排水槽（300）内，并且与所述排水槽（300）之间留有间隙。

2.根据权利要求1所述的温室水槽，其特征在于，所述栽培平台（200）的上方连接有升降装置（220），所述升降装置（220）安装于外界固定结构上，用于控制所述栽培平台（200）的升降。

3.根据权利要求1所述的温室水槽，其特征在于，还包括营养液补液管（110），用于向所述主槽体（100）内补充营养液；于所述主槽体（100）底部开设有营养液排液口（120），用于排出营养液；所述营养液排液口（120）上安装有排液调节阀（130）；所述营养液补液管（110）位于所述主槽体（100）的一端，所述营养液排液口（120）位于所述主槽体（100）的另一端。

4.根据权利要求1所述的温室水槽，其特征在于，所述主槽体（100）的底部贯穿设置有补气管（140），所述补气管（140）上开设有多个出气孔，用于连接外界气源，向营养液内补充氧气。

5.根据权利要求4所述的温室水槽，其特征在于，所述主槽体（100）垂直于长度方向的截面为弧形，所有出气孔均位于所述补气管（140）的同侧。

6.根据权利要求1所述的温室水槽，其特征在于，所述溢流口（160）沿高度方向延伸，所述溢流口（160）上设置有溢流调节阀（170），所述溢流调节阀（170）为弧形，与所述主槽体（100）的侧面贴合，并且滑动安装于所述主槽体（100）上；所述溢流调节阀（170）的顶部始终低于所述溢流口（160）的顶部。

7.根据权利要求3所述的温室水槽，其特征在于，所述栽培平台（200）垂直于长度方向的截面中间高两边低，并且两侧的边缘均超出所述主槽体（100）的最大宽度，小于所述排水槽（300）内侧的最大宽度。

8.根据权利要求7所述的温室水槽，其特征在于，所述排液调节阀（130）为弧形，与所述主槽体（100）的底部贴合，并可滑动安装于所述主槽体（100）上，通过滑动所述排液调节阀（130）改变遮挡所述营养液排液口（120）的程度，从而调节排液速度。