CN116075718A - 试样支承体、离子化法和质量分析方法 - Google Patents
试样支承体、离子化法和质量分析方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116075718A CN116075718A CN202180058133.2A CN202180058133A CN116075718A CN 116075718 A CN116075718 A CN 116075718A CN 202180058133 A CN202180058133 A CN 202180058133A CN 116075718 A CN116075718 A CN 116075718A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sample
- porous structure
- substrate
- sample support
- ionization method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0409—Sample holders or containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/0027—Methods for using particle spectrometers
- H01J49/0031—Step by step routines describing the use of the apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/165—Electrospray ionisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
试样支承体是试样的离子化用的试样支承体。试样支承体具备基板,该基板具有:具有电绝缘性的第1表面、与第1表面相反侧的第2表面、和至少在第1表面开口的不规则的多孔结构。
Description
技术领域
本发明涉及一种试样支承体、离子化法和质量分析方法。
背景技术
作为为了进行质量分析等而将生物试样等试样离子化的方法,已知有解吸电喷雾离子化法(DESI:Desorption Electrospray Ionization)(例如,参照专利文献1)。解吸电喷雾离子化法是通过对试样照射带电的微小液滴(charged-droplets)而使试样解吸、离子化的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-165116号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
在解吸电喷雾离子化法中,例如为了在质量分析中实现信号强度(灵敏度)的提高,要求将试样的成分适当地离子化。
本发明的目的在于提供一种能够将试样的成分适当地离子化的试样支承体和离子化法、以及能够实现信号强度的提高的质量分析方法。
用于解决技术问题的方案
本发明的一个方面的试样支承体是试样的离子化用的试样支承体。该试样支承体具备基板,该基板具有:具有电绝缘性的第1表面、与第1表面相反侧的第2表面、和至少在第1表面开口的不规则的多孔结构。
在上述试样支承体中,基板的第1表面具有电绝缘性。由此,通过对转印到第1表面的试样照射带电的微小液滴的方法(解吸电喷雾离子化法),能够适当地进行该试样的解吸、离子化。进而,在基板上形成有在第1表面开口的不规则的多孔结构。由此,能够使转印到第1表面的试样适度地扩散到多孔结构内,适当地调整留在第1表面上的试样的量。通过以上,根据上述试样支承体,能够使试样的成分适当地离子化。
多孔结构也可以由多个粉体的集合体形成。由此,能够将转印到第1表面的试样适当地留在构成集合体的各粉体的表面。
也可以对第1表面施加有绝缘性的涂层。另外,多孔结构也可以通过由金属构成的多个粉体的集合体来形成。在该情况下,通过绝缘性的涂层,能够使基板的第1表面成为电绝缘性,所以能够使用由具有导电性的材料形成的基板。即,能够提高基板材料的选择的自由度。
粉体也可以由玻璃、金属氧化物、或者经过绝缘涂覆的金属构成。另外,粉体也可以是玻璃珠。在该情况下,能够适当且廉价地得到上述的具有不规则的多孔结构的基板。
多孔结构也可以以连通第1表面和第2表面的方式形成。在该情况下,能够使转印到第1表面的试样的剩余成分更适当地从第1表面侧向第2表面侧逃逸。
本发明的另一方面的离子化法包括:准备具备基板的试样支承体的第1工序,该基板具有:具有电绝缘性的第1表面、与第1表面相反侧的第2表面、和至少在第1表面开口的不规则的多孔结构;将试样转印到第1表面的第2工序;和通过对第1表面照射带电的微小液滴,使转印的试样的成分离子化,吸引离子化的成分的第3工序。
在上述离子化法中,由于试样支承体的基板的第1表面是电绝缘性的部件,所以例如即使使施加有高电压的微小液滴照射部接近第1表面,也能够抑制微小液滴照射部与试样支承体之间的放电的产生。另外,如上所述,通过基板2具有不规则的多孔结构,能够适当地调整留在第1表面上的试样的量。因此,根据该离子化法,通过使微小液滴照射部接近第1表面而对第1表面照射带电的微小液滴,能够使转印到第1表面的试样的成分适当地离子化。
多孔结构可以由多个粉体的集合体形成,在第2工序中,可以在粉体的表面保持试样的成分。由此,能够将转印到第1表面的试样适当地留在集合体的表面。其结果,在第3工序中,能够使该试样的成分适当地离子化。
在上述离子化法中,在第3工序中,可以使带电的微小液滴的照射区域相对于第1表面相对地移动。在留在基板的第1表面侧的试样的成分中,维持了试样的位置信息(构成试样的分子的二维分布信息)。因此,通过使带电的微小液滴的照射区域相对于第1表面相对地移动,能够在维持试样的位置信息的同时使试样的成分离子化。由此,在检测离子化的成分的后期工序中,能够将构成试样的分子的二维分布图像化。而且,如上所述,由于能够使微小液滴照射部靠近第1表面,所以能够抑制带电的微小液滴的照射区域扩大。由此,在检测离子化的成分的后期工序中,能够以高分辨率对构成试样的分子的二维分布进行图像化。
本发明的又一其他方面的质量分析方法包括:上述的离子化法的第1工序、第2工序和第3工序、以及检测在第3工序中被离子化的成分的第4工序。
在上述质量分析方法中,如上所述,通过带电的微小液滴的照射,试样的成分被适当地离子化,所以能够实现检测离子化的成分时的信号强度的提高。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够使试样的成分适当地离子化的试样支承体和离子化法、以及能够实现信号强度的提高的质量分析方法。
附图说明
图1是表示一个实施方式的试样支承体的立体图。
图2是图1所示的区域A的放大图像。
图3是表示珠集合体中的接合部的直径和珠直径的图。
图4是表示一个实施方式的质量分析方法中的第2工序的图。
图5是实施一个实施方式的质量分析方法的质量分析装置的结构图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式进行详细地说明。另外,在各图中,对相同或相当的部分标注相同的符号,并省略重复的说明。
[试样支承体]
如图1所示,试样支承体1具备基板2。作为一例,基板2形成为矩形板状。基板2具有第1表面2a和与第1表面2a相反侧的第2表面2b。第1表面2a具有电绝缘性。在本实施方式中,基板2是电绝缘性的部件。因此,不仅第1表面2a,基板2的整体也具有电绝缘性。基板2的厚度(从第1表面2a到第2表面2b的距离)例如为100μm~1500μm左右。
如图2所示,在基板2形成有在第1表面2a开口的不规则的多孔结构3。所谓不规则的多孔结构,例如是空隙(细孔)在不规则的方向上延伸并且在三维上不规则地分布的结构。例如,如从第1表面2a侧的1个入口(开口)进入到基板2内分支为多个路径的结构、或者如从第1表面2a侧的多个入口(开口)进入到基板2内合流成1个路径的结构等也包含在上述不规则的多孔结构中。另一方面,例如从第1表面2a到第2表面2b沿着基板2的厚度方向延伸的多个细孔作为主要的细孔而设置的结构(即,主要由在一个方向上延伸的细孔构成的规则的结构)不包含在不规则的多孔结构中。
多孔结构3例如由多个粉体的集合体形成。多个粉体的集合体是多个粉体以相互接触的方式聚集而成的结构。作为多个粉体的集合体的例子,可以举出多个粉体彼此粘接或接合而成的结构。在本实施方式中,多孔结构3是通过多个珠4相互接合而形成的珠集合体(集合体)。即,基板2由通过将多个珠4相互接合并且成型为矩形板状而得到的珠集合体(多孔结构3)构成。多孔结构3具有多个珠4所占的部分和多个珠4之间的间隙S。
在本实施方式中,珠4是玻璃珠。在该情况下,珠集合体例如是多个玻璃珠(珠4)的烧结体。在本实施方式中,基板2整体由多孔结构3构成。即,在基板2的从第1表面2a到第2表面2b的整个区域形成有多孔结构3。由此,多孔结构3以连通第1表面2a和第2表面2b的方式形成。
如图3所示,相互邻接的珠4彼此相互接合(熔接)。在此,基板2具有能够实施后述的离子化法的第2工序(试样Sa(参照图4)的转印)的程度的刚性。在基板2的刚性不充分的情况下,在将试样Sa按压于第1表面2a时、或者将试样Sa从第1表面2a剥离时等,基板2有可能破损。因此,基板2具有能够耐受试样Sa(参照图4)的转印(即,对第1表面2a按压试样Sa的操作、和从第1表面2a剥离试样Sa的操作)的刚性(即,基板2不会因试样Sa的转印而破损的程度的刚性)。在本实施方式中,为了确保这样的刚性,相互邻接的珠4彼此的接合部5的平均直径(各接合部5的直径d1的平均)为珠4的平均直径(各珠4的直径d2的平均)的1/10以上且小于珠4的平均直径。
[离子化法和质量分析方法]
对使用试样支承体1的离子化法和质量分析方法进行说明。首先,作为试样的离子化用的试样支承体,准备上述的试样支承体1(第1工序)。试样支承体1可以通过离子化法和质量分析方法的实施者制造来准备,也可以通过由试样支承体1的制造者或销售者等转让来准备。
接着,如图4所示,将试样Sa转印到基板2的第1表面2a(第2工序)。在图4的例子中,试样Sa是水果(柠檬)的切片。例如,通过将试样Sa按压于基板2的第1表面2a,使试样Sa的一部分附着于第1表面2a上。
接着,如图5所示,在质量分析装置10的离子化室20内的工作台21上载置载玻片6和试样支承体1。接着,通过对基板2的第1表面2a中的包含存在转印的试样Sa的区域的区域(以下称为“对象区域”)照射带电的微小液滴I,使第1表面2a上的成分Sa1离子化,吸引作为离子化的成分的试样离子Sa2(第3工序)。在本实施方式中,例如通过使载置台21在X轴方向和Y轴方向上移动,从而使带电的微小液滴I的照射区域I1相对于对象区域相对地移动(即,使带电的微小液滴I相对于对象区域进行扫描)。以上的第1工序、第2工序和第3工序相当于使用试样支承体1的离子化法(本实施方式中为解吸电喷雾离子化法)。
在离子化室20内,从喷嘴22喷射带电的微小液滴I,从离子输送管23的吸引口吸引试样离子Sa2。喷嘴22具有双层筒结构。在向喷嘴22的内筒施加高电压的状态下引导溶剂。由此,对到达喷嘴22的前端的溶剂赋予偏置的电荷。向喷嘴22的外筒引导雾化气体。由此,溶剂成为微小液滴而被喷雾,在溶剂气化的过程中生成的溶剂离子作为带电的微小液滴I被射出。
从离子输送管23的吸引口吸引的试样离子Sa2,通过离子输送管23被输送到质量分析室30内。质量分析室30内处于高真空气氛(真空度10-4Torr以下的气氛)的条件下。在质量分析室30内,试样离子Sa2被离子光学系统31会聚,并被导入到被施加有高频电压的四极杆质量过滤器32。当向施加有高频电压的四极杆质量过滤器32导入试样离子Sa2时,选择性地使具有由该高频电压的频率决定的质量数的离子通过,由检测器33检测通过的离子(第4工序)。通过扫描施加于四极杆质量过滤器32的高频电压的频率,使到达检测器33的离子的质量数依次变化,得到规定的质量范围的质谱。在本实施方式中,以与带电的微小液滴I的照射区域I1的位置对应的方式使检测器33检测离子,将构成试样Sa的分子的二维分布图像化。以上的第1工序、第2工序、第3工序和第4工序相当于使用试样支承体1的质量分析方法。
[作用和效果]
在上述试样支承体1中,基板2的第1表面2a具有电绝缘性。由此,通过对转印到第1表面2a的试样Sa照射带电的微小液滴的方法(解吸电喷雾离子化法),能够适当地进行该试样的解吸、离子化。进而,在基板2上形成有在第1表面2a开口的不规则的多孔结构3。由此,能够使转印到第1表面2a的试样Sa适度地扩散到多孔结构3内,适当地调整留在第1表面2a上的试样Sa的量。如上所述,根据试样支承体1,能够使试样Sa的成分适当地离子化。
另外,多孔结构3是通过多个珠4(粉体)相互接合而形成的珠集合体(集合体)。由此,能够将转印到第1表面2a的试样Sa的成分适当地留在构成珠集合体的各珠4的表面。另外,在本实施方式中,也能够将试样Sa的成分适当地留在珠4彼此的接合部5上(例如,由相互邻接的珠4彼此形成的凹陷部分)。
另外,构成多孔结构3的粉体(在本实施方式中为珠4)为大致球状,珠集合体中的珠4彼此的接合部5的平均直径(各接合部5的直径d1(参照图3)的平均)为珠4的平均直径(各珠4的直径d2(参照图3)的平均)的1/10以上且小于珠4的平均直径。由此,能够确保珠集合体中的接合部5的强度,能够确保能够耐受试样Sa相对于第1表面2a的转印的基板强度(刚性)。另外,通过这样确保基板2的刚性,也能够不需要用于支承基板2的框架部件等。另外,为了确保基板2的刚性,不需要以满足上述条件的方式将粉体彼此接合。例如,在使用陶瓷粉体(金属氧化物)作为构成多孔结构3的粉体的情况下,即使粉体彼此没有以满足上述条件的方式接合,也能够确保基板2的充分的刚性。
此外,珠4是玻璃珠。在该情况下,能够适当且廉价地得到具有上述的不规则的多孔结构3的基板2。
另外,多孔结构3以连通第1表面2a和第2表面2b的方式形成。在该情况下,能够使转印到第1表面2a的试样Sa的剩余成分更适当地从第1表面2a侧向第2表面2b侧逃逸。由此,能够更适当地调整留在第1表面2a上的试样Sa的量。
另外,在使用了试样支承体1的离子化法(第1工序~第3工序)中,由于试样支承体1的基板2的第1表面2a是电绝缘性的部件,所以即使例如使被施加有高电压的微小液滴照射部即喷嘴22靠近第1表面2a,也能够抑制喷嘴22与试样支承体1之间的放电的产生。另外,如上所述,通过基板2具有不规则的多孔结构3,能够适当地调整留在第1表面2a上的试样Sa的量。因此,根据该离子化法,通过使喷嘴22靠近第1表面2a对第1表面2a照射带电的微小液滴,能够使转印到第1表面2a的试样Sa的成分适当地离子化。
另外,多孔结构3是通过多个珠4相互接合而形成的珠集合体,在第2工序中,在珠4的表面保持试样Sa的成分。由此,能够将转印到第1表面2a的试样Sa适当地留在珠集合体(多孔结构3)的表面。其结果,在第3工序中,能够将该试样Sa的成分适当地离子化。此外,如上所述,在本实施方式中,在珠4彼此的接合部5上也能够适当地保留试样Sa的成分。
另外,在上述离子化法中,在第3工序中,使带电的微小液滴I的照射区域I1相对于第1表面相对地移动。在留在基板2的第1表面2a侧的试样Sa的成分中,维持了试样Sa的位置信息(构成试样Sa的分子的二维分布信息)。因此,通过使带电的微小液滴I的照射区域I1相对于第1表面2a(对象区域)相对地移动,能够在维持试样Sa的位置信息的同时将试样Sa的成分离子化。由此,在检测试样离子Sa2的后期工序中,能够将构成试样Sa的分子的二维分布图像化。而且,如上所述,由于能够使喷嘴22靠近第1表面2a,所以能够抑制带电的微小液滴I的照射区域I1扩大。由此,在检测试样离子Sa2的后期工序中,能够以高分辨率对构成试样Sa的分子的二维分布进行图像化。
另外,在使用试样支承体1的质量分析方法中,如上所述,通过带电的微小液滴I的照射,试样Sa的成分被适当地离子化,所以能够实现检测试样离子Sa2时的信号强度的提高。
[变形例]
本发明并不限定于上述的实施方式。例如,在上述实施方式中,试样支承体1仅包含基板2地构成,但试样支承体1也可以包含基板2以外的部件。例如,也可以在基板2的一部分(例如角部等)设置用于支承基板2的支承部件(框架等)。
另外,试样Sa不限于上述实施方式中例示的水果(柠檬)的切片。试样Sa可以具有平坦的表面,也可以具备具有凹凸的表面。另外,试样Sa也可以是水果以外的物质,例如也可以是植物的叶等。在该情况下,通过将作为试样Sa的叶的表面的成分转印到第1表面2a,能够进行该叶的表面(叶脉)的成像质量分析。
另外,在上述实施方式中,基板2的整体由作为珠集合体的多孔结构3构成,但多孔结构3也可以形成于基板2的一部分。例如,多孔结构3可以仅形成于基板2中作为用于转印试样Sa的测量区域而确定的中央部分的区域(第1表面2a的一部分区域),也可以不在基板2的其他部分形成多孔结构3。另外,多孔结构3也可以不遍及从第1表面2a到第2表面2b的整个区域而形成。即,多孔结构3只要至少在第1表面2a开口即可,也可以不在第2表面2b开口。例如,基板2也可以由平板状的板和设置于板上的多孔结构构成。作为一个例子,基板2也可以由玻璃板和设置在玻璃板上的玻璃珠集合体(多孔结构)构成。
另外,在上述实施方式中,基板2由绝缘性材料形成,由此第1表面2a具有电绝缘性,但基板2也可以由导电性材料形成。在该情况下,也可以通过对基板2的第1表面2a施加电绝缘性的涂层,来实现第1表面2a具有电绝缘性的结构。通过施加这样的绝缘性的涂层,能够使基板2的第1表面2a成为电绝缘性,所以能够使用由具有导电性的材料形成的基板2。例如,在该情况下,多孔结构3也可以通过由金属构成的多个粉体的集合体来形成。这样,在设置电绝缘性的涂层的情况下,能够提高基板材料的选择的自由度。
另外,作为构成多孔结构3的粉体的材料,例如可以使用玻璃、金属氧化物(例如氧化铝等)、或经过绝缘涂覆的金属等。另外,构成多孔结构3的粉体不限于大致球状的珠,也可以具有大致球状以外的形状。
符号的说明
1…试样支承体,2…基板,2a…第1表面,2b…第2表面,3…多孔结构,4…珠(粉体),5…接合部,Sa…试样,Sa2…试样离子(离子化的成分)。
Claims (11)
1.一种试样支承体,其中,
是试样的离子化用的试样支承体,
具备基板,所述基板具有:具有电绝缘性的第1表面、与所述第1表面相反侧的第2表面、和至少在所述第1表面开口的不规则的多孔结构。
2.如权利要求1所述的试样支承体,其中,
所述多孔结构由多个粉体的集合体形成。
3.如权利要求1或2所述的试样支承体,其中,
在所述第1表面施加有电绝缘性的涂层。
4.如权利要求3所述的试样支承体,其中,
所述多孔结构通过由金属构成的多个粉体的集合体形成。
5.如权利要求2所述的试样支承体,其中,
所述粉体由玻璃、金属氧化物、或经过绝缘涂覆的金属构成。
6.如权利要求5所述的试样支承体,其中,
所述粉体为玻璃珠。
7.如权利要求1~6中任一项所述的试样支承体,其中,
所述多孔结构以连通所述第1表面和所述第2表面的方式形成。
8.一种离子化法,其中,
包括:
准备具备基板的试样支承体的第1工序,所述基板具有:具有电绝缘性的第1表面、与所述第1表面相反侧的第2表面、和至少在所述第1表面开口的不规则的多孔结构;
将试样转印到所述第1表面的第2工序;和
通过对所述第1表面照射带电的微小液滴,将转印的所述试样的成分离子化,并吸引离子化的所述成分的第3工序。
9.如权利要求8所述的离子化法,其中,
所述多孔结构由多个粉体的集合体形成,
在所述第2工序中,在所述粉体的表面保持所述试样的成分。
10.如权利要求8或9所述的离子化法,其中,
在所述第3工序中,使所述带电的微小液滴的照射区域相对于所述第1表面相对地移动。
11.一种质量分析方法,其中,
包括:
权利要求8~10中任一项所述的离子化法的所述第1工序、所述第2工序和所述第3工序;和
检测在所述第3工序中被离子化的所述成分的第4工序。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020-148904 | 2020-09-04 | ||
JP2020148904A JP7404195B2 (ja) | 2020-09-04 | 2020-09-04 | 試料支持体、イオン化法、及び質量分析方法 |
PCT/JP2021/020813 WO2022049846A1 (ja) | 2020-09-04 | 2021-06-01 | 試料支持体、イオン化法、及び質量分析方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116075718A true CN116075718A (zh) | 2023-05-05 |
Family
ID=80491033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202180058133.2A Pending CN116075718A (zh) | 2020-09-04 | 2021-06-01 | 试样支承体、离子化法和质量分析方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230290625A1 (zh) |
EP (1) | EP4134669A4 (zh) |
JP (1) | JP7404195B2 (zh) |
CN (1) | CN116075718A (zh) |
WO (1) | WO2022049846A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6918170B1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-08-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | 試料支持体 |
JP7492065B1 (ja) | 2023-06-07 | 2024-05-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 試料支持体及び試料支持体の製造方法 |
JP7469540B1 (ja) | 2023-06-07 | 2024-04-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 試料支持体及び試料支持体の製造方法 |
JP7506802B1 (ja) | 2023-06-07 | 2024-06-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 試料支持体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3734517B2 (ja) * | 1993-10-21 | 2006-01-11 | 日本エンバイロケミカルズ株式会社 | 化学物質吸着シート |
JP4512589B2 (ja) | 2004-02-26 | 2010-07-28 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 表面加工が施された試料保持面を有する試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置 |
JP2007165116A (ja) | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
JP2007263600A (ja) | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Shimadzu Corp | 試料ターゲット |
EP3751266A4 (en) * | 2018-02-09 | 2022-02-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | SAMPLE HOLDER |
-
2020
- 2020-09-04 JP JP2020148904A patent/JP7404195B2/ja active Active
-
2021
- 2021-06-01 EP EP21863905.2A patent/EP4134669A4/en active Pending
- 2021-06-01 US US18/018,314 patent/US20230290625A1/en active Pending
- 2021-06-01 CN CN202180058133.2A patent/CN116075718A/zh active Pending
- 2021-06-01 WO PCT/JP2021/020813 patent/WO2022049846A1/ja unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP4134669A4 (en) | 2024-06-12 |
JP2022043571A (ja) | 2022-03-16 |
EP4134669A1 (en) | 2023-02-15 |
US20230290625A1 (en) | 2023-09-14 |
WO2022049846A1 (ja) | 2022-03-10 |
JP7404195B2 (ja) | 2023-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN116075718A (zh) | 试样支承体、离子化法和质量分析方法 | |
US6707040B2 (en) | Ionization apparatus and method for mass spectrometer system | |
US7564028B2 (en) | Vacuum housing system for MALDI-TOF mass spectrometry | |
JP7217714B2 (ja) | 試料支持体 | |
JP3791479B2 (ja) | イオンガイド | |
CA2479872C (en) | Ionization apparatus and method for mass spectrometer system | |
US20040217277A1 (en) | Apparatus and method for surface activation and selective ion generation for MALDI mass spectrometry | |
JP2009243902A (ja) | 質量分析用デバイス、これを用いる質量分析装置および質量分析方法 | |
WO2023157352A1 (ja) | 試料支持体、イオン化法、及び質量分析方法 | |
WO2023157353A1 (ja) | 試料支持体、イオン化法、及び質量分析方法 | |
US20230326731A1 (en) | Calibration and tuning method for mass spectrometer | |
WO2020202728A1 (ja) | イオン化法及び質量分析方法 | |
JP7492065B1 (ja) | 試料支持体及び試料支持体の製造方法 | |
JP7469540B1 (ja) | 試料支持体及び試料支持体の製造方法 | |
JP2016513797A (ja) | Maldiイオンイメージングのための自動化調整 | |
WO2020202729A1 (ja) | 試料支持体 | |
US20240290600A1 (en) | Bent PCB Ion Guide for Reduction of Contamination and Noise | |
WO2011150070A2 (en) | System and method for controlled electrospray deposition | |
Mammana et al. | Investigation of the electron emission from pores in a diamond porous membrane | |
Klerk | Imaging mass spectrometry of polymeric materials | |
Danell | Advances in ion source and quadrupole ion trap design and performance | |
WO2009061313A1 (en) | Nanostructure-initiator mass spectrometry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |