CN115281859A - 一种磁场可调式微磁正畸加速器 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种磁场可调式微磁正畸加速器，涉及医疗器械技术领域，该磁场可调式微磁正畸加速器由颊侧板、舌侧板和托板构成牙套结构，并在颊侧板和舌侧板内分别设置有颊侧磁体和舌侧磁体，颊侧磁体和舌侧磁体于接受正畸治疗的待移动牙齿根部周围形成微磁场环境，有效补偿牙齿因受正畸附件牵拉而造成的生理磁场丢失，进而促进待移动牙齿牙周组织代谢及改建，加快正畸牙齿移动进程。
Description
技术领域
本申请涉及医疗器械技术领域，尤其涉及一种磁场可调式微磁正畸加速器。
背景技术
口颌面畸形是我国口腔三大疾病之一，患病率高达29.3％。口颌面畸形不仅影响颜面美观，而且进一步可能引起口腔疾病，严重者可能会造成心理障碍，其防治具有巨大的社会需求，目前，口腔正畸治疗是针对口颌面畸形最主要的防治方法。口腔正畸治疗周期的长短受到患者及治疗相关因素的影响，如口颌面畸形的严重程度、患者的依从性和治疗方案的设计等。通常情况下，正畸患者的综合疗程一般为12-36个月，然而较长的治疗过程会增加患者发生釉质脱矿、龋齿、牙根吸收、骨开裂、骨开窗等并发症的风险，严重影响患者的生活质量，增加治疗费用，使得患者依从性降低。因此，如何更安全、有效地加速牙齿移动，缩短正畸疗程，成为口腔正畸领域亟待解决的问题。
发明内容
本申请的目的在于提供一种磁场可调式微磁正畸加速器，旨在解决现有口腔正畸治疗周期长，患者易发生并发症的问题。
为实现以上目的，本申请提供一种磁场可调式微磁正畸加速器，包括：
相对设置的颊侧板和舌侧板，所述颊侧板和所述舌侧板内分别设置有颊侧磁体和舌侧磁体，且所述颊侧磁体和所述舌侧磁体相对设置，且为至少一对；
托板，用于连接所述颊侧板和所述舌侧板，以在所述托板、所述颊侧板和所述舌侧板之间形成容置空间，以使所述磁场可调式微磁正畸加速器呈牙套结构；
当所述磁场可调式微磁正畸加速器使用时，使牙齿置于所述容置空间内，所述颊侧板和所述舌侧板分别位于所述容置空间内的牙齿的颊侧和舌侧，且所述颊侧磁体和所述舌侧磁体与所述牙齿的根部对应设置，所述成对的颊侧磁体和舌侧磁体之间可形成微磁场作用于所述牙齿根部。
优选地，所述颊侧板包括相对所述托板对称设置的上颊侧板和下颊侧板，所述舌侧板包括相对所述托板对称设置的上舌侧板和下舌侧板，所述容置空间包括上下相对设置的第一容置空间和第二容置空间，所述上颊侧板、上舌侧板与所述托板形成第一容置空间，所述下颊侧板、下舌侧板与所述托板形成第二容置空间，所述第一容置空间用于放置上颌牙，所述第二容置空间用于放置下颌牙。
优选地，所述微磁场的强度为10～30mT。
优选地，所述颊侧板和所述舌侧板包括前牙区、前磨牙区及磨牙区；所述颊侧磁体和所述舌侧磁体分别相对设置于所述前牙区、所述前磨牙区及所述磨牙区。
优选地，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的数量为2～12个。
优选地，所述前牙区形成的微磁场的强度为20-25mT，所述前磨牙区形成的微磁场的强度为15-20mT，所述磨牙区形成的微磁场的强度为10-15mT。
优选地，所述成对的颊侧磁体和舌侧磁体中，在所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的连接方向上，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的磁极方向沿相同方向设置。
优选地，所述颊侧磁体可拆卸设置于所述颊侧板，所述舌侧磁体可拆卸设置于所述舌侧板。
优选地，所述颊侧板和所述舌侧板分别设置有凹槽，所述凹槽呈收口状，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体分别通过所述凹槽插入所述颊侧板和所述舌侧板，所述凹槽开口边缘对所述颊侧磁体和所述舌侧磁体形成锁扣。
优选地，所述托板、所述颊侧板和所述舌侧板为硅胶材料，所述硅胶材料包括软质硅胶或硬质硅胶。
与现有技术相比，本申请的有益效果包括：
本申请提供的磁场可调式微磁正畸加速器于接受正畸治疗的待移动牙齿根部周围形成微磁场环境，有效补偿牙齿因受正畸附件牵拉而造成的生理磁场丢失，进而促进待移动牙齿牙周组织代谢及改建，加快正畸牙齿移动进程。
该磁场可调式正畸加速器的微磁体强度可灵活调节，不同区域的微磁体所产生的磁场对应不同牙位，其作用范围和亚洲人群牙列的解剖形态相匹配。可在不同正畸治疗时期、不同牙位采用不同磁场强度的微磁体，更有针对性地满足不同患者的个性化临床需求，高效调控正畸牙牙周组织改建活动，增加正畸牙移动速度，减少副作用，实现精准的个性化正畸加速治疗。
使用硅胶材料，患者咬住托板后，加速器不会对患者造成咬合负担，并且加速器表面光滑圆润，不会划伤口腔粘膜，佩戴具有较好的舒适度和安全性。微磁体可稳定地设置在正畸加速器内，摘戴加速器的过程中微磁体不会脱出，不会对患者造成误吸风险。体积小巧，无口外的盒型电源，更便于佩戴和随身携带，不影响患者日常生活。并且所用的材料无味无毒，化学性质及物理性质稳定，耐磨损，防水性佳，使用寿命长。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对本申请范围的限定。
图1为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的立体结构示意图；
图2为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的俯视图；
图3为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的后视图；
图4为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的侧视图；
图5为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的另一实施例的立体图；
图6为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的另一实施例的正视图；
图7为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的一立体实物图；
图8为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的另一立体实物图；
图9为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器在使用时的一示意图；
图10为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器在使用时的另一示意图；
图11为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器的磁场分布检测结果图。
附图标记：
10-磁场可调式微磁正畸加速器；11-颊侧板；111-上颊侧板；112-下颊侧板；1-颊侧磁体；12-舌侧板；121-上舌侧板；122-下舌侧板；2-舌侧磁体；13-托板；14-容置空间；141-第一容置空间；142-第二容置空间；15-前牙区；16-前磨牙区；17-磨牙区；20-上颌牙；30-下颌牙；40-凹槽。
具体实施方式
如本文所用之术语：
“由……制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。
连接词“由……组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由……组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。
当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1～5”时，所描述的范围应被解释为包括范围“1～4”、“1～3”、“1～2”、“1～2和4～5”、“1～3和5”等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。
在这些实施例中，除非另有指明，所述的份和百分比均按质量计。
“质量份”指表示多个组分的质量比例关系的基本计量单位，1份可表示任意的单位质量，如可以表示为1g，也可表示2.689g等。假如我们说A组分的质量份为a份，B组分的质量份为b份，则表示A组分的质量和B组分的质量之比a：b。或者，表示A组分的质量为aK，B组分的质量为bK(K为任意数，表示倍数因子)。不可误解的是，与质量份数不同的是，所有组分的质量份之和并不受限于100份之限制。
“和/或”用于表示所说明的情况的一者或两者均可能发生，例如，A和/或B包括(A和B)和(A或B)。
本申请提供一种磁场可调式微磁正畸加速器10，用于牙齿正畸过程中加速牙齿的移动，从而可以缩短牙齿正畸的周期，该磁场可调式微磁正畸加速器10整体形状呈牙套结构，因而该磁场可调式微磁正畸加速器用于人的牙齿正畸过程中加速牙齿的移动。请参阅图1至图4，该磁场可调式微磁正畸加速器10包括：相对设置的颊侧板11和舌侧板12，以及用于连接所述颊侧板11和所述舌侧板12的托板13。
其中，托板13、颊侧板11和舌侧板12之间形成有容置空间14，所述磁场可调式微磁正畸加速器10呈牙套结构。可以理解的是，要使磁场可调式微磁正畸加速器10呈牙套结构，托板13、颊侧板11和舌侧板12必然是匹配人牙齿形状的弧形。
其中，颊侧板11是使用该磁场可调式微磁正畸加速器10时朝向脸颊，即朝向嘴唇的一侧的挡板，舌侧板12是使用该磁场可调式微磁正畸加速器10时朝向舌头，即朝向腭一侧的挡板，托板13是用于支撑牙齿的底板。
其中，所述颊侧板11和所述舌侧板12内分别设置有颊侧磁体1和舌侧磁体2，且所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2相对设置，且为至少一对。颊侧磁体1和舌侧磁体2可以分别固定设置在颊侧板11和舌侧板12内，例如可以在制备牙套的过程中，通过将磁体一体焊接在牙套内固定设置。颊侧磁体1和舌侧磁体2也可以分别可拆卸设置在颊侧板11和舌侧板12内，例如可以通过先制备好牙套结构，再将磁体设置在牙套结构内。
其中，颊侧磁体1和舌侧磁体2成对设置，例如可以为一对颊侧磁体1和舌侧磁体2，也即一个颊侧磁体1对应一个舌侧磁体2，颊侧磁体1和舌侧磁体2还可以为两对、三对、四对、五对、六对、七对等任意多对，只需保证一个颊侧磁体1与一个舌侧磁体2对应设置即可。颊侧磁体1和舌侧磁体2的数量依照正畸牙齿的数量决定，也即需要加速移动的牙齿数量。
其中，当所述磁场可调式微磁正畸加速器10使用时，使牙齿置于所述容置空间14内，所述颊侧板11和所述舌侧板12分别位于所述容置空间14内的牙齿的颊侧和舌侧，且所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2与所述牙齿的根部对应设置，所述成对的颊侧磁体1和舌侧磁体2之间可形成微磁场作用于所述牙齿根部。
由于人体各组织器官普遍存在着微量的磁场，其对于机体正常生理功能的维持，尤其是组织修复再生具有重要意义。在正畸治疗过程中，矫治力的施用将破坏牙周组织局部正常的磁场微环境，影响组织的代谢及改建。
本申请提供的磁场可调式微磁正畸加速器10于接受正畸治疗的待移动牙齿根部周围形成微磁场环境，有效补偿牙齿因受正畸附件牵拉而造成的生理磁场丢失，进而促进待移动牙齿牙周组织代谢及改建，加快正畸牙齿移动进程。
该磁场可调式微磁正畸加速器10加速牙齿移动的效果明显，可控性强，副作用小。由于该磁场可调式微磁正畸加速器10特定作用于牙齿根部，因而不会对其它骨组织和肌肉组织产生影响，从而可以减少副作用；通过磁体感应产生微磁场，磁场强度接近生理磁场强度，相对于电磁脉冲更加温和，强度也更易控制，对人体副作用小。
其中，为了保证颊侧磁体1和舌侧磁体2之间形成的微磁场作用于牙齿根部，颊侧板11和舌侧板12的高度应满足可覆盖所述牙齿根部的压槽骨，颊侧磁体1和舌侧磁体2安装位置对应牙根到牙颈部1/3位置。由于影响牙齿移动的结构主要是牙槽骨，因此，颊侧板11和舌侧板12的高度覆盖牙齿根部的压槽骨，可以保证颊侧磁体1和舌侧磁体2之间产生的微磁场作用于牙槽骨，使得加速效果更好。
可以理解的是，该磁场可调式微磁正畸加速器10可以仅用于上颌牙或下颌牙的加速移动，也即托板13、颊侧板11和舌侧板12之间仅形成有一个容置空间14，用于容纳上颌牙或下颌牙，托板13、颊侧板11和舌侧板12之间还可以为形成有两个容置空间14，从而可以用于同时加速上颌牙和下颌牙的移动。
在一优选实施例中，请参阅图1和图7，所述颊侧板11包括相对所述托板13对称设置的上颊侧板111和下颊侧板112，所述舌侧板12包括相对所述托板13对称设置的上舌侧板121和下舌侧板122，所述容置空间14包括上下相对设置的第一容置空间141和第二容置空间142，所述上颊侧板111、上舌侧板121与所述托板13形成第一容置空间141，所述下颊侧板112、下舌侧板122与所述托板13形成第二容置空间142，所述第一容置空间141用于放置上颌牙20，所述第二容置空间142用于放置下颌牙30，从而可以同时对上颌牙20和下颌牙30进行加速移动。
其中，该磁场可调式微磁正畸加速器10的上下方向为垂直于托板13的方向，由于该磁场可调式微磁正畸加速器10为以托板13为对称轴上下对称设置的形状，因而磁场可调式微磁正畸加速器10的上下方向可以任意调换。
其中，上颊侧板111和下颊侧板112内均设置有颊侧磁体1，上舌侧板121和下舌侧板122内均设置有舌侧磁体2，从而在上颌牙20和下颌牙30之间分别形成微磁场。
优选地，所述微磁场的强度为10～30mT，例如可以为10～15mT、或15～20mT、或20～25mT，更具体的例如可以为10mT、11mT、12mT、13mT、14mT、15mT、16mT、17mT、18mT、19mT、20mT、21mT、22mT、23mT、24mT、25mT、26mT、27mT、28mT、29mT或30mT，该磁场强度范围接近生理磁场强度，副作用小。更优选地，所述微磁场的强度为10～20mT。
其中，请参阅图1和图7，所述颊侧板11和所述舌侧板12包括前牙区15、前磨牙区16及磨牙区17；所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2分别相对设置于所述前牙区15、所述前磨牙区16及所述磨牙区17。
其中，颊侧板11和舌侧板12的前牙区15对应上颌牙20和下颌牙30的前牙，颊侧板11和舌侧板12的前磨牙区16对应上颌牙20和下颌牙30的前磨牙，颊侧板11和舌侧板12的磨牙区17对应上颌牙20和下颌牙30的磨牙。在前牙、前磨牙和磨牙均相对设置有颊侧磁体1和舌侧磁体2，可以对所有牙齿实现加速移动，适用于整牙正畸的患者。
优选地，所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2的数量为2～12个，颊侧磁体1和舌侧磁体2的数量相同，分别为2～12个，例如可以为2个、3个、4个、5个、6个、7个、8个、9个、10个、11个或12个。
在一优选实施例中，所述前牙区15形成的微磁场的强度为20-25mT，所述前磨牙区16形成的微磁场的强度为15-20mT，所述磨牙区17形成的微磁场的强度为10-15mT。不同牙位的牙齿所需的微磁场强度不同，因而可以满足正畸治疗过程中，不同区域牙齿对于磁场的个性化需求。
优选地，所述成对的颊侧磁体1和舌侧磁体2中，在所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2的连接方向上，所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2的磁极方向沿相同方向设置。
其中，每一对颊侧磁体1和舌侧磁体2的连接方向是贯穿牙齿的，每一对颊侧磁体1和舌侧磁体2之间形成微磁场作用于颊侧磁体1和舌侧磁体2之间的牙齿根部，为了更好的在颊侧磁体1和舌侧磁体2间形成微磁场，颊侧磁体1和舌侧磁体2在贯穿牙齿的方向上的磁极方向相同。由于所有磁体均有N极和S极，磁体之间的磁场方向由N极出来回到S极，因此每一对颊侧磁体1和舌侧磁体2之间的磁极方向相同，可以保证位于容置空间14内的牙齿的两侧的磁体之间更好的形成微磁场作用于牙齿。
例如可以是颊侧磁体1在靠近牙齿的方向是S极，远离牙齿的方向是N极，那么舌侧磁体2在靠近牙齿的方向就是N极，远离牙齿的方向就是S极，从而在颊侧磁体1和舌侧磁体2的连接方向上，颊侧磁体1和舌侧磁体2的磁极方向相同，微磁场方向为舌侧磁体2的N极朝向颊侧磁体1的S极，作用于牙齿。
其他实施例中，颊侧磁体1靠近牙齿的方向还可以是N极，远离牙齿的方向是S极，从而相应的，舌侧磁体2在靠近牙齿的方向就是S极，远离牙齿的方向就是N极。
在上述任一实施例的基础上，优选地，所述颊侧磁体1可拆卸设置于所述颊侧板11，所述舌侧磁体2可拆卸设置于所述舌侧板12。颊侧磁体1和舌侧磁体2可拆卸设置，可以使得该磁场可调式微磁正畸加速器10能够根据正畸治疗过程中的不同治疗阶段、不同牙齿以及不同患者对于磁场的差异化需求，更换设置不同强度的微磁体。依据不同患者、不同牙位在不同治疗阶段所需提供的磁场，在相应牙位安装设置对应的微磁体，实现个性化微磁环境的构建，从而满足正畸治疗过程中不同时机、不同区域对于磁场的个性化需求。
该磁场可调式正畸加速器10的微磁体强度可灵活调节，不同区域的微磁体所产生的磁场对应不同牙位，其作用范围和亚洲人群牙列的解剖形态相匹配。可在不同正畸治疗时期、不同牙位采用不同磁场强度的微磁体，更有针对性地满足不同患者的个性化临床需求，高效调控正畸牙牙周组织改建活动，增加正畸牙移动速度，减少副作用，实现精准的个性化正畸加速治疗。
在一可选实施例中，请参阅图5和图6，所述颊侧板11和所述舌侧板12分别设置有凹槽40，所述凹槽40呈收口状，即凹槽40的开口的长宽小于其内部空间的长宽，所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2分别通过所述凹槽40插入所述颊侧板11和所述舌侧板12，所述凹槽40开口边缘对所述颊侧磁体1和所述舌侧磁体2形成锁扣。颊侧板11和舌侧板12均为弹性材料，凹槽40开口小于内部空间，颊侧磁体1和舌侧磁体2可以利用凹槽40开口的弹性插入凹槽40，颊侧磁体1和舌侧磁体2进入凹槽40之后，凹槽40开口恢复原状，由于开口较小，因而可以对颊侧磁体1和舌侧磁体2形成锁扣，颊侧磁体1和舌侧磁体2不会脱落，不会对患者造成误吸风险。
优选地，所述托板13、所述颊侧板11和所述舌侧板12为硅胶材料，所述硅胶材料包括软质硅胶或硬质硅胶，软质硅胶具有弹性及可塑性强的优点，硬质硅胶具有硬度高及抗疲劳能力强的优点，如图7和图8所示为本申请的磁场可调式微磁正畸加速器10的实物图，采用硅胶材料制作得到透明状的牙套形的磁场可调式微磁正畸加速器10。
硅胶具有良好的生物相容性，对人体组织无刺激性、无毒性、无过敏反应、机体排异反应极少；具有良好的理化特性，与体液以及组织接触过程中能保持其原有的弹性和柔软度，不被降解，是一种相当稳定的惰性物质。能耐高温，可消毒。加工成型方便，易加工雕刻形状，使用方便。耐磨损，防水性佳，使用寿命长。
使用硅胶材料，患者咬住托板13后，磁场可调式微磁正畸加速器10不会对患者造成咬合负担，并且加速器表面光滑圆润，不会划伤口腔粘膜，佩戴具有较好的舒适度和安全性。微磁体可稳定地设置在正畸加速器内，摘戴加速器的过程中微磁体不会脱出，不会对患者造成误吸风险。体积小巧，无口外的盒型电源，更便于佩戴和随身携带，不影响患者日常生活。
下面将结合具体实施例对本申请的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本申请，而不应视为限制本申请的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
实施例1磁场可调式微磁正畸加速器磁场分布检测
如图9和图10所示，分别将I、II、III三个等级的微磁体置入颊侧板11和舌侧板12的前牙区15、前磨牙区16、磨牙区17的微磁体凹槽中，将上述磁场可调式微磁正畸加速器10置于水平面，使用外加电机三维驱动的高精度工业高斯计测量该磁场可调式微磁正畸加速器的三维空间磁场分布，结果如图11所示，在前牙牙根区形成约20-25mT磁场，在前磨牙牙根区形成约15-20mT磁场，在磨牙牙根区形成约10-15mT磁场。
经过磁场强度测试，可见该微磁正畸加速器所产生的微磁场强度约为10mT-30mT左右，符合生理量级，且无论是水平方向还是竖直方向，磁场都主要分布于牙根区域，其他区域磁场强度较低，能有效将微磁效应集中作用在所需加速的牙齿和牙槽骨。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本申请的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在上面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本申请的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
Claims (10)
1.一种磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，包括：
相对设置的颊侧板和舌侧板，所述颊侧板和所述舌侧板内分别设置有颊侧磁体和舌侧磁体，且所述颊侧磁体和所述舌侧磁体相对设置，且为至少一对；
托板，用于连接所述颊侧板和所述舌侧板，以在所述托板、所述颊侧板和所述舌侧板之间形成容置空间，以使所述磁场可调式微磁正畸加速器呈牙套结构；
当所述磁场可调式微磁正畸加速器使用时，使牙齿置于所述容置空间内，所述颊侧板和所述舌侧板分别位于所述容置空间内的牙齿的颊侧和舌侧，且所述颊侧磁体和所述舌侧磁体与所述牙齿的根部对应设置，所述成对的颊侧磁体和舌侧磁体之间可形成微磁场作用于所述牙齿根部。
2.根据权利要求1所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述颊侧板包括相对所述托板对称设置的上颊侧板和下颊侧板，所述舌侧板包括相对所述托板对称设置的上舌侧板和下舌侧板，所述容置空间包括上下相对设置的第一容置空间和第二容置空间，所述上颊侧板、上舌侧板与所述托板形成第一容置空间，所述下颊侧板、下舌侧板与所述托板形成第二容置空间，所述第一容置空间用于放置上颌牙，所述第二容置空间用于放置下颌牙。
3.根据权利要求1所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述微磁场的强度为10～30mT。
4.根据权利要求3所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述颊侧板和所述舌侧板包括前牙区、前磨牙区及磨牙区；所述颊侧磁体和所述舌侧磁体分别相对设置于所述前牙区、所述前磨牙区及所述磨牙区。
5.根据权利要求4所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的数量均为2～12个。
6.根据权利要求4所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述前牙区形成的微磁场的强度为20-25mT，所述前磨牙区形成的微磁场的强度为15-20mT，所述磨牙区形成的微磁场的强度为10-15mT。
7.根据权利要求1所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述成对的颊侧磁体和舌侧磁体中，在所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的连接方向上，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体的磁极方向沿相同方向设置。
8.根据权利要求1至7任一项所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述颊侧磁体可拆卸设置于所述颊侧板，所述舌侧磁体可拆卸设置于所述舌侧板。
9.根据权利要求8所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述颊侧板和所述舌侧板分别设置有凹槽，所述凹槽呈收口状，所述颊侧磁体和所述舌侧磁体分别通过所述凹槽插入所述颊侧板和所述舌侧板，所述凹槽开口边缘对所述颊侧磁体和所述舌侧磁体形成锁扣。
10.根据权利要求1所述的磁场可调式微磁正畸加速器，其特征在于，所述托板、所述颊侧板和所述舌侧板为硅胶材料，所述硅胶材料包括软质硅胶或硬质硅胶。
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