CN115205951A - 一种戴口罩人脸关键点数据生成方法 - Google Patents

一种戴口罩人脸关键点数据生成方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,涉及图像处理技术领域;该方法包括以下的步骤:S10、戴口罩人脸关键点数据生成,包括无口罩人脸关键点生成的步骤和戴口罩人脸关键点生成的步骤;S20、口罩与人脸匹配对齐,依次包括人脸姿态估计的步骤、采集生成口罩样本的步骤、口罩样本与人脸区域对齐的步骤以及关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤;本发明的有益效果是:通过普通人脸图片生成大量戴口罩人脸关键点数据,提升戴口罩人脸关键点算法的精度。

Description

一种戴口罩人脸关键点数据生成方法
技术领域
本发明涉及图像处理技术领域,更具体的说,本发明涉及一种戴口罩人脸关键点数据生成方法。
背景技术
人脸关键点检测是指在已经检测出的人脸图像中,通过计算机的分析进一步确定人脸上的具体部位(比如:眉毛、眼角、眼珠、鼻尖、嘴角、脸部轮廓等部位)的具体位置的技术。人脸关键点检测可以应用于定位人脸局部、识别表情等场景中。
现有的人脸关键点检测算法都是基于全脸关键点(5点,68点,96点,106点)进行训练及预测,而戴口罩时由于不能识别口罩部分的脸部,所有关键点将偏移挤簇在一起造成算法不可用;此外,人脸关键点的标注和审核都及其耗费人力物力,成本高昂。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,可通过普通人脸图片生成大量戴口罩人脸关键点数据,提升戴口罩人脸关键点算法的精度。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其改进之处在于,该方法包括以下的步骤:
S10、戴口罩人脸关键点数据生成,包括无口罩人脸关键点生成的步骤和戴口罩人脸关键点生成的步骤;
S20、口罩与人脸匹配对齐,依次包括人脸姿态估计的步骤、采集生成口罩样本的步骤、口罩样本与人脸区域对齐的步骤以及关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤。
进一步的,步骤S10中,所述无口罩人脸关键点的步骤包括以下内容:
S101、从公开数据集中获取人脸图片数据;
S102、通过opencv读取一张含人脸的图片;
S103、通过人脸检测算法retinaface,检测图片中人脸框及相应5点关键点;
S104、采用人脸框裁剪获得单人脸图片;
S105、采用相应的5点关键点计算仿射变换矩阵;
S106、使用仿射变换矩阵对人脸进行校正对齐到统一尺寸112*112;
S107、使用开源人脸关键点检测模型pfld对人脸进行106点关键点检测。
进一步的,步骤S10中,戴口罩人脸关键点生成的步骤包括以下内容:
S111、采集生成各种样式各种佩戴方式的口罩样本,并计算其姿态;
S112、从公开数据集和网络上获取大量含有无口罩人脸图像;
S113、采用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S114、对于每个人脸图像及其对应关键点,计算人脸姿态,与所有口罩姿态基于欧氏距离进行匹配,最近距离即为该人脸最合适的口罩图;
S115、以口罩图与人脸相应点,对口罩图进行x方向和y方向上的伸缩,完成尺寸对齐;
S116、计算得到口罩边缘轮廓坐标,换算成人脸图像中坐标;
S117、采用射线法计算人脸关键点与人脸上口罩区域的包含关系,从该人脸106点关键点中提出包含在口罩mask的人脸关键点;
S118、将对齐后的口罩直接覆盖相应人脸区域生成人脸口罩图像。
进一步的,步骤S20中,所述的人脸姿态估计的步骤包括以下内容:
对于每张人脸,从106个关键点中提取6个关键点,建立3D模型;并采用opencv中的solvePnP函数计算当前人脸的旋转向量。
进一步的,步骤S20中,所述的采集生成口罩样本的步骤包括以下内容:
S201、成对采集人脸在各种角度下戴各种样式的口罩图像mask-face与不带口罩图像clean-face;
S202、训练口罩检测的yolov5模型,并检测步骤S201中口罩图像mask-face上的口罩区域;
S203、采用opencvsobel边缘检测方法,对步骤S202中检测出的口罩区域中不规则口罩进行边缘检测,剔除人脸区域,进一步优化口罩图;
S204、对步骤S202中的口罩图像mask-face对应的不带口罩图像clean-face使用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S205、计算人脸欧拉角,估算口罩图像mask-face中口罩的姿态。
进一步的,口罩样本与人脸区域对齐的步骤包括以下内容:
S211、读入人脸照片;
S212、获取人脸关键点和姿态估计;
S213、将所有口罩样本与人脸进行姿态匹配,过滤姿态不符的口罩样本;
S214、提取人脸中左右两个关键点间x方向距离,与口罩宽度计算x方向缩放比例;
S215、提取人脸中上下两个关键点间y方向距离,与口罩宽度计算y方向缩放比例;
S216、将口罩样本根据x,y方向缩放比例进行缩放,以适应人脸尺寸;
S217、以上述的上、下、左、右四个关键点为基准,计算口罩样本中所有像素点在人脸图中相应的x坐标值和y坐标值。
进一步的,所述关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤包括以下内容:
S221、将口罩样本与人脸对齐;
S222、使用射线法计算所有关键点与口罩边缘轮廓坐标的包含关系,口罩边缘轮廓坐标记为mask;
S223、保留不包含于mask的关键点,以0填充包含于mask的关键点;
S224、将人脸区域中与mask重叠部分以口罩相应像素覆盖,生成相应戴口罩人脸图。
本发明的有益效果是:本发明提供了一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,该方法基于无口罩人脸检测、人脸关键点检测算法,可以高效的生成大量戴口罩人脸图像及对应关键点;本发明生成的戴口罩人脸图片可包含各种角度和口罩类型,可用于各种场景下的戴口罩人脸关键点模型训练。
附图说明
图1为本发明的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法的框架示意图。
图2为本发明中无口罩人脸关键点的步骤的实施例图。
图3为本发明中戴口罩人脸关键点生成的步骤的实施例图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本发明的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本发明的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本发明保护的范围。另外,专利中涉及到的所有联接/连接关系,并非单指构件直接相接,而是指可根据具体实施情况,通过添加或减少联接辅件,来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征,在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
参照图1所示,本发明揭示了一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,具体的,该方法包括步骤S10和步骤S20,其内容如下:
S10、戴口罩人脸关键点数据生成,包括无口罩人脸关键点生成的步骤和戴口罩人脸关键点生成的步骤;
S20、口罩与人脸匹配对齐,依次包括人脸姿态估计的步骤、采集生成口罩样本的步骤、口罩样本与人脸区域对齐的步骤以及关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤。
通过步骤S10和步骤S20,该方法可以通过普通人脸图片生成大量戴口罩人脸关键点数据,从而提升戴口罩人脸关键点算法的精度。
在本实施例中,参照图2所示,所述无口罩人脸关键点的步骤包括以下内容:
S101、从公开数据集中获取大量人脸图片数据;
S102、通过opencv读取一张含人脸的图片;
S103、通过人脸检测算法retinaface,检测图片中人脸框及相应5点关键点;
S104、采用人脸框裁剪获得单人脸图片;
S105、采用相应的5点关键点计算仿射变换矩阵;
S106、使用仿射变换矩阵对人脸进行校正对齐到统一尺寸112*112;
S107、使用开源人脸关键点检测模型pfld对人脸进行106点关键点检测。
进一步的,步骤S10中,参照图3所示,戴口罩人脸关键点生成的步骤包括以下内容:
S111、采集生成各种样式各种佩戴方式的口罩样本,并计算其姿态;
S112、从公开数据集和网络上获取大量含有无口罩人脸图像;
S113、采用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S114、对于每个人脸图像及其对应关键点,计算人脸姿态,与所有口罩姿态基于欧氏距离进行匹配,最近距离即为该人脸最合适的口罩图;
S115、以口罩图与人脸相应点,对口罩图进行x方向和y方向上的伸缩,完成尺寸对齐;
S116、计算得到口罩边缘轮廓坐标,换算成人脸图像中坐标;
S117、采用射线法计算人脸关键点与人脸上口罩区域的包含关系,从该人脸106点关键点中提出包含在口罩mask的人脸关键点;
S118、将对齐后的口罩直接覆盖相应人脸区域生成人脸口罩图像。
通过上述的步骤S10,能够实现无口罩人脸关键点数据的生成,以及戴口罩人脸关键点数据的生成。
更进一步的,在所述的步骤20中,包括人脸姿态估计的步骤、采集生成口罩样本的步骤、口罩样本与人脸区域对齐的步骤以及关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤。
在本实施例中,所述人脸姿态估计的步骤,包括以下内容:对于每张人脸,从106个关键点中提取6个关键点,建立3D模型;并采用opencv中的solvePnP函数计算当前人脸的旋转向量。
对于采集生成口罩样本的步骤,本发明提供了一具体实施例,包括以下内容:
S201、成对采集人脸在各种角度下戴各种样式的口罩图像mask-face与不带口罩图像clean-face;
S202、训练口罩检测的yolov5模型,并检测步骤S201中口罩图像mask-face上的口罩区域;
S203、采用opencvsobel边缘检测方法,对步骤S202中检测出的口罩区域中不规则口罩进行边缘检测,剔除人脸区域,进一步优化口罩图;
S204、对步骤S202中的口罩图像mask-face对应的不带口罩图像clean-face使用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S205、计算人脸欧拉角,估算口罩图像mask-face中口罩的姿态。
在本实施例中,对于口罩样本与人脸区域对齐的步骤,本发明提供了一具体实施例,包括以下内容:
S211、读入人脸照片;
S212、获取人脸关键点和姿态估计;
S213、将所有口罩样本与人脸进行姿态匹配,过滤姿态不符的口罩样本;
S214、提取人脸中左右两个关键点间x方向距离,与口罩宽度计算x方向缩放比例;
S215、提取人脸中上下两个关键点间y方向距离,与口罩宽度计算y方向缩放比例;
S216、将口罩样本根据x,y方向缩放比例进行缩放,以适应人脸尺寸;
S217、以上述的上、下、左、右四个关键点为基准,计算口罩样本中所有像素点在人脸图中相应的x坐标值和y坐标值。
更进一步的,上述实施例中,关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤包括以下内容:
S221、将口罩样本与人脸对齐;
S222、使用射线法计算所有关键点与口罩边缘轮廓坐标的包含关系,口罩边缘轮廓坐标记为mask;
S223、保留不包含于mask的关键点,以0填充包含于mask的关键点;
S224、将人脸区域中与mask重叠部分以口罩相应像素覆盖,生成相应戴口罩人脸图。
基于此,本发明提供了一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,该方法基于无口罩人脸检测、人脸关键点检测算法,可以高效的生成大量戴口罩人脸图像及对应关键点;通过普通人脸图片生成大量戴口罩人脸关键点数据,提升戴口罩人脸关键点算法的精度。整个过程基于算法自动实现,无需人工参与,可节省大量的人力物力;另外,本发明生成的戴口罩人脸图片可包含各种角度和口罩类型,可用于各种场景下的戴口罩人脸关键点模型训练。
以上是对本发明的较佳实施进行了具体说明,但本发明创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

Claims (7)

1.一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,该方法包括以下的步骤:
S10、戴口罩人脸关键点数据生成,包括无口罩人脸关键点生成的步骤和戴口罩人脸关键点生成的步骤;
S20、口罩与人脸匹配对齐,依次包括人脸姿态估计的步骤、采集生成口罩样本的步骤、口罩样本与人脸区域对齐的步骤以及关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤。
2.根据权利要求1所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,步骤S10中,所述无口罩人脸关键点的步骤包括以下内容:
S101、从公开数据集中获取人脸图片数据;
S102、通过opencv读取一张含人脸的图片;
S103、通过人脸检测算法retinaface,检测图片中人脸框及相应5点关键点;
S104、采用人脸框裁剪获得单人脸图片;
S105、采用相应的5点关键点计算仿射变换矩阵;
S106、使用仿射变换矩阵对人脸进行校正对齐到统一尺寸112*112;
S107、使用开源人脸关键点检测模型pfld对人脸进行106点关键点检测。
3.根据权利要求2所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,步骤S10中,戴口罩人脸关键点生成的步骤包括以下内容:
S111、采集生成各种样式各种佩戴方式的口罩样本,并计算其姿态;
S112、从公开数据集和网络上获取大量含有无口罩人脸图像;
S113、采用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S114、对于每个人脸图像及其对应关键点,计算人脸姿态,与所有口罩姿态基于欧氏距离进行匹配,最近距离即为该人脸最合适的口罩图;
S115、以口罩图与人脸相应点,对口罩图进行x方向和y方向上的伸缩,完成尺寸对齐;
S116、计算得到口罩边缘轮廓坐标,换算成人脸图像中坐标;
S117、采用射线法计算人脸关键点与人脸上口罩区域的包含关系,从该人脸106点关键点中提出包含在口罩mask的人脸关键点;
S118、将对齐后的口罩直接覆盖相应人脸区域生成人脸口罩图像。
4.根据权利要求1所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,步骤S20中,所述的人脸姿态估计的步骤包括以下内容:
对于每张人脸,从106个关键点中提取6个关键点,建立3D模型;并采用opencv中的solvePnP函数计算当前人脸的旋转向量。
5.根据权利要求4所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,步骤S20中,所述的采集生成口罩样本的步骤包括以下内容:
S201、成对采集人脸在各种角度下戴各种样式的口罩图像mask-face与不带口罩图像clean-face;
S202、训练口罩检测的yolov5模型,并检测步骤S201中口罩图像mask-face上的口罩区域;
S203、采用opencvsobel边缘检测方法,对步骤S202中检测出的口罩区域中不规则口罩进行边缘检测,剔除人脸区域,进一步优化口罩图;
S204、对步骤S202中的口罩图像mask-face对应的不带口罩图像clean-face使用retinaface采集人脸,仿射对齐后使用pfld获取106点关键点;
S205、计算人脸欧拉角,估算口罩图像mask-face中口罩的姿态。
6.根据权利要求5所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,口罩样本与人脸区域对齐的步骤包括以下内容:
S211、读入人脸照片;
S212、获取人脸关键点和姿态估计;
S213、将所有口罩样本与人脸进行姿态匹配,过滤姿态不符的口罩样本;
S214、提取人脸中左右两个关键点间x方向距离,与口罩宽度计算x方向缩放比例;
S215、提取人脸中上下两个关键点间y方向距离,与口罩宽度计算y方向缩放比例;
S216、将口罩样本根据x,y方向缩放比例进行缩放,以适应人脸尺寸;
S217、以上述的上、下、左、右四个关键点为基准,计算口罩样本中所有像素点在人脸图中相应的x坐标值和y坐标值。
7.根据权利要求6所述的一种戴口罩人脸关键点数据生成方法,其特征在于,所述关键点剔除与人脸区域覆盖的步骤包括以下内容:
S221、将口罩样本与人脸对齐;
S222、使用射线法计算所有关键点与口罩边缘轮廓坐标的包含关系,口罩边缘轮廓坐标记为mask;
S223、保留不包含于mask的关键点,以0填充包含于mask的关键点;
S224、将人脸区域中与mask重叠部分以口罩相应像素覆盖,生成相应戴口罩人脸图。
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