CN115079463A - 一种液晶显示面板、液晶显示装置和制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种反射式液晶显示面板、显示装置和制作方法，其中一实施例的反射式液晶显示面板包括阵列基板、液晶层和对盒基板，液晶显示面板还包括：光线增强层、以及设置在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，其中，光线增强层，包括多个凸状的光线增强结构，用于散射光线；光线功能层，用于在液晶显示面板的出光方向上散射光线，并且，光线功能层的折射率、与光线功能层远离阵列基板一侧的结构的折射率不同。本发明提供的实施例通过设置在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，以及通过设置光线功能层与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率差异，能够增加液晶显示面板的观看视角，有效提高显示效果，具有广泛的应用前景。

Description

一种液晶显示面板、液晶显示装置和制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种液晶显示面板、液晶显示装置和制作方法。

背景技术

目前，液晶显示技术TFT-LCD得到了广泛发展，很多笔记本电脑和台式机的监视器都采用薄膜晶体管液晶显示器，液晶显示器已经具备较高的分辨率和彩色活动图像显示能力,以及满足需求的显示亮度。然后，由于TFT-LCD需要背照光源透射通过LCD，因而存在功耗较高、并且体积较大等问题。

TFT-LCD的厚度和重量严重制约了它的应用范围，例如，它不符合便携式应用领域的要求。目前研究的热点的反射式LCD由于具有较低的功耗可望用于便携式系统，例如，将彩色反射式LCD用于诸如电子报纸、电子书以及纸质媒体等替代物的便携系统。然而，传统反射式LCD存在图像质量差、反射率不高，视角低，对比度低等问题，导致其彩色图像质量远不能满足要求。除此之外，在实际工艺生产过程中易出现反射率均一性差和发黄等显示不良的问题。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

为了解决上述问题至少之一，本发明第一个实施例提供一种反射式液晶显示面板，包括阵列基板、液晶层和对盒基板，所述液晶显示面板还包括：光线增强层、以及设置在所述光线增强层靠近所述液晶层一侧的光线功能层，其中

所述光线增强层，包括多个凸状的光线增强结构，用于散射光线；

所述光线功能层，用于在所述液晶显示面板的出光方向上散射所述光线，并且，所述光线功能层的折射率、与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率不同。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述阵列基板包括第一衬底，层叠设置在所述第一衬底上的所述光线增强层、反射层、所述光线功能层和第一取向层；

所述反射层，用于反射所述光线；

所述光线功能层的折射率大于所述第一取向层的折射率，并且所述光线功能层的折射率大于所述液晶层的折射率。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述阵列基板包括设置在所述第一衬底的薄膜晶体管层、缓冲层、所述光线增强层、层间介质层、像素电极层、光线功能层、以及第一取向层，所述像素电极层远离所述第一衬底的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为所述反射层。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6，所述光线功能层为氧化铟锡、氧化锌、二氧化钛中的一种。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线增强层的各所述光线增强结构的曲率半径相同或不同、所述曲率半径大于等于5μm且小于等于12μm，各所述光线增强结构的坡度大于等于5°且小于等于10°，各所述光线增强结构间的间距相同或不同、所述间距大于等于1.5μm且小于等于9μm。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述对盒基板包括第二衬底、层叠设置在所述第二衬底上的所述光线增强层和所述光线功能层，其中，

所述光线功能层的折射率大于或小于所述光线增强层的折射率。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线增强层的材料与所述第二衬底的材料相同。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线功能层的折射率大于等于1.1且小于等于1.4、或者所述光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6。

例如，在本申请一些实施例提供的反射式液晶显示面板中，所述光线增强层的各所述光线增强结构的曲率半径相同或不同、所述曲率半径大于等于5μm且小于等于12μm，各所述光线增强结构的坡度大于等于5°且小于等于10°，各所述光线增强结构间的间距相同或不同、所述间距大于等于1.5μm且小于等于9μm。

本发明第二个实施例提供一种反射式液晶显示装置，包括如第一个实施例所述的反射式液晶显示面板。

本发明第三个实施例提供一种制作第一个实施例所述的反射式液晶显示面板的制作方法，形成阵列基板和形成对盒基板，包括

形成光线增强层，所述光线增强层包括用于散射光线的多个凸状的光线增强结构；

在所述光线增强层靠近液晶层的一侧形成光线功能层，所述光线功能层的折射率、与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率不同；

对盒所述阵列基板和对盒基板形成液晶显示面板。

例如，在本申请一些实施例提供的制作方法中，所述阵列基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成阵列基板进一步包括：

在第一衬底上形成薄膜晶体管层；

形成覆盖所述薄膜晶体管层的缓冲层；

在所述缓冲层上形成所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的层间介质层；

形成覆盖所述层间介质层的像素电极层，所述像素电极层远离所述第一衬底的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为反射层；

形成覆盖所述像素电极层的光线功能层，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的第一取向层，所述光线功能层的折射率大于所述第一取向层的折射率，并且所述光线功能层的折射率大于所述液晶层的折射率。

例如，在本申请一些实施例提供的制作方法中，所述对盒基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成对盒基板进一步包括：

在第二衬底上形成所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的光线功能层，所述光线功能层的折射率大于或小于所述光线增强层的折射率，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的公共电极层；

形成覆盖所述公共电极层的第二取向层。

例如，在本申请一些实施例提供的制作方法中，所述在第二衬底上形成所述光线增强层进一步包括：

采用同一制备工艺形成所述第二衬底和所述光线增强层。

本发明的有益效果如下：

本发明针对目前现有的问题，制定一种液晶显示面板、液晶显示装置和制作方法，所述液晶显示面板一个实施例通过设置在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，以及通过设置光线功能层与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率差异，能够增加液晶显示面板的观看视角，避免相关技术中存在的显示不良问题，有效提高显示效果，具有广泛的应用前景。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出本发明的一个实施例所述反射式液晶显示面板的结构示意图；

图2示出本发明的一个实施例所述反射式液晶显示面板的光路示意图；

图3示出本发明的一个实施例所述反射式液晶显示面板的阵列基板的结构示意图；

图4示出本发明的一个实施例所述制作方法的流程图；

图5示出本发明的另一个实施例所述反射式液晶显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

需要说明的是，本文中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。在本文中，除非另有说明，所采用的术语“位于同一层”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。在本文中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。

相关技术中，反射式液晶显示装置在树脂层上形成Bump凸起凹坑处理，再在树脂层上制作反射层，通过树脂层的凸起增加漫反射，从而降低反射过程中损失的光以提升反射率。但在实际工艺生产过程中，Bump形貌工艺波动太大，例如凸起凹坑深度范围达0.3～0.9μm，而产品的盒厚仅为2.8微米左右，凸起凹坑坡度过大易导致液晶盒的盒厚增高，增大液晶光程差，出现显示发黄现象。同时，由于Bump形貌引起的粗糙表面易引起液晶盒内的液晶排列异常，导致通过液晶的光的相位发生，从而改变通过液晶的光的偏振状态，使得液晶显示装置的对比度降低。另一方面，反射层的金属材料暴露在空气中，金属表面易被氧化出现黑点，使得反射层的反射率降低，导致液晶显示装置的反射率降低。

针对相关技术中存在的问题，如图1所示，本发明的一个实施例提供了一种包括阵列基板10、液晶层30和对盒基板20的反射式液晶显示面板，所述液晶显示面板还包括：光线增强层12、以及设置在所述光线增强层12靠近所述液晶层30一侧的光线功能层14，其中

所述光线增强层12，包括多个凸状的光线增强结构，用于散射光线；

所述光线功能层14，用于在所述液晶显示面板的出光方向上散射所述光线，并且，所述光线功能层14的折射率、与所述光线功能层14远离所述阵列基板10一侧的结构的折射率不同。

本实施例针对上述问题，通过设置在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，以及通过设置光线功能层与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率差异，能够增加液晶显示面板的观看视角；换句话说，光线功能层覆盖光线增强层的凸状结构，在光线增强层通过凸状结构散射光线的情况下，利用光线功能层和光线增强层的折射率差异对光线进行散射，从而增加液晶显示面板的观看角度，从而降低反射过程中损失的光以提升反射率。

为进一步增加液晶显示面板的观看角度，在一个可选的实施例中，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm。

在本实施例中，如图1所示，所述光线功能层14的表面粗糙度小于等于10nm，即所述光线功能层14为覆盖所述光线增强层12的平坦化层，光线功能层不仅增加了反射式液晶显示面板的观看角度，还能够确保液晶盒内高度的均一性。

在一个具体的示例中，如图1所示，所述阵列基板10包括第一衬底11，层叠设置在所述第一衬底11上的所述光线增强层12、反射层13、所述光线功能层14和第一取向层15；

所述反射层13，用于反射所述光线；

所述光线功能层14的折射率大于所述第一取向层15的折射率，并且所述光线功能层14的折射率大于所述液晶层30的折射率。

在本实施例中，所述光线增强层和光线功能层设置在阵列基板上，所述光线功能层为使用树脂材料形成的具有多个凸状的光线增强结构，使得形成在其上的反射层能够进一步增加漫反射，即通过所述光线增强结构散射所述光线从而提升反射层的反射率；同时，通过光线功能层与第一取向层和液晶层的折射率差异，即光线功能层的折射率大于第一取向层和液晶层的折射率，光线从光密介质进入光疏介质发生折射，表征为进一步增大反射层的反射角度。换句话说，设置在光线增强层的凸状光线增强结构上的反射层能够降低反射过程中损失的光以提升反射率，同时通过光线功能层进一步在液晶显示面板的出光方向上散射所述光线。

具体的，如图1和图2所示，入射液晶显示面板的光线经过光线功能层发生折射，即图1和图2示出的从液晶层30进入阵列基板10的光线在界面1发生折射，折射后的光线经过反射层发生反射，即图1和图2示出的光线在反射层的界面2发生反射，反射后的光线经过光线功能层再次发生折射，即图1和图2示出的从阵列基板10进入第一取向层和液晶层30的光线在界面3发生折射，因反射层粗糙带有角度，所以反射回液晶的光线的角度将比入射光线的入射角度增大。因此光线功能层通过与第一取向层和液晶层的折射率差异，能够增大光线增强层的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题，并且能够保护反射层的金属防止氧化。进一步的，由于光线功能层为覆盖所述光线增强层的平坦化层，能够进一步增大反射层的反射角度，即能够解决相关技术中的显示不良的同时能够确保液晶盒的盒内高度的均一性。

在一个具体的实施例中，如图3所示，所述阵列基板包括设置在所述第一衬底11的薄膜晶体管层16、缓冲层17、所述光线增强层12、层间介质层18、像素电极层13、光线功能层14、以及第一取向层19，所述像素电极层13远离所述第一衬底11的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层13复用为所述反射层。

在本实施例中，阵列基板包括层叠设置在第一衬底11上的多个膜层，其中：

所述薄膜晶体管层包括驱动液晶层的多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，所述薄膜晶体管可以为顶栅结构也可以为底栅结构，本申请对此不作具体限定。

光线增强层12采用树脂材料，光线增强层12的各光线增强结构的曲率半径相同、或者不同，光线增强结构的曲率半径大于等于5μm且小于等于12μm，光线增强结构的坡度大于等于5°且小于等于10°，各所述光线增强结构间的间距相同、或者不同，所述间距大于等于1.5μm且小于等于9μm。值得说明的是，本申请对光线增强层的各光线增强结构的曲率半径、坡度、各光线增强结构间的间距不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的结构，以具有能够散射光线的功能为设计准则，在此不再赘述。

在本实施例中，在光线增强层12上设置层间介质层18，在层间介质层18上形成像素电极层。光线增强层12包括多个凸状的增强结构，如图3所示，所述层间介质层为整层设置在光线增强层12上的膜层，也具有凸状结构；像素电极层也为整层设置在层间介质层18上的膜层，也具有凸状结构，并且，在本实施例中，像素电极层13为金属材料，复用为所述反射层，所述金属材料为金属铝或金属银材料。

在本实施例中，在像素电极层上形成光线功能层14，光线功能层14覆盖所述像素电极层，并且光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，即光线功能层靠近液晶层一侧的表面距离衬底的厚度相同，换句话说，所述光线功能层为所述阵列基板的平坦化层，使得反射层平坦化，不仅能够确保液晶盒的盒内高度的均一性，同时能够解决相关技术中因Bump形貌的凸起凹坑的粗糙表面引起的液晶盒内的液晶排列异常的问题。

在本实施例中，光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6；设置在光线功能层上的第一取向层的折射率为1.6左右，液晶层的折射率为1.5到1.6，即第一取向层和液晶层可以视为折射率相同的介质；光线功能层相对于取向层和液晶层为高折材料，光线功能层的材料可以为氧化铟锡ITO、折射率为1.8到2.1，可以为氧化锌ZnO、折射率为2.0，还可以为二氧化钛TiO2、折射率为2.6。光线在反射层界面反射后的光线经过光线功能层再次发生折射，因光线功能层的折射率大于第一取向层和液晶层的折射率，光线从阵列基板10进入第一取向层和液晶层30的光线在界面3发生折射，进一步增加光线的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题，并且光线功能层能够保护反射层的金属防止氧化。

考虑到进一步提高反射式液晶显示面板的光利用率，在一个可选的实施例中，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长。

在本实施例中，光线功能层的厚度满足：nh＝1/4λ的整数倍，其中，n为折射率，h为光线功能层的厚度，λ为可见光波长，满足该公式的光线功能层的厚度，能够确保反射率最大，从而进一步提高显示面板的光利用率。具体的，如图2所示，入射光线经过光线功能层发生折射，折射角经过反射层发生反射，再经过功能层再次发生折射，因反射层的金属材料粗糙即带有角度，所以反射回液晶的光线的角度将比入射显示面板的光线的角度大，因此设置在阵列基板上的覆盖光线增强层的光线功能层，既增大了光线的散射角度，增加了显示面板的观看视角、保护了发射层的金属，又确保了液晶盒盒厚的均一性。

如图4所示，下面以制作反射式液晶显示面板为例进行详细说明：

首先，如图1和图3所示，形成阵列基板10。具体包括：

第一步，在第一衬底11上形成薄膜晶体管层16。

在本实施例中，所述薄膜晶体管层包括驱动液晶层的多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，所述薄膜晶体管可以为顶栅结构也可以为底栅结构，本申请对此不作具体限定。

第二步，形成覆盖所述薄膜晶体管层16的缓冲层17。

第三步，在所述缓冲层17上形成所述光线增强层12。

在本实施例中，如图3所示，光线增强层12采用树脂材料，包括多个凸状的增强结构，光线增强层12的各光线增强结构的曲率半径相同、或者不同，光线增强结构的曲率半径大于等于5μm且小于等于12μm，光线增强结构的坡度大于等于5°且小于等于10°，各所述光线增强结构间的间距相同、或者不同，所述间距大于等于1.5μm且小于等于9μm。

第四步，形成覆盖所述光线增强层12的层间介质层18。

在本实施例中，如图3所示，所述层间介质层18为整层设置在光线增强层12上的膜层，也具有凸状结构。

第五步，形成覆盖所述层间介质层18的像素电极层13，所述像素电极层13远离所述第一衬底11的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为反射层。

在本实施例中，如图3所示，像素电极层也为整层设置在层间介质层18上的膜层，也具有凸状结构，并且，像素电极层13为金属材料，复用为所述反射层，所述金属材料为金属铝或金属银材料。

第六步，形成覆盖所述像素电极层13的光线功能层14，所述光线功能层14靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm。

在本实施例中，如图3所示，光线功能层14覆盖所述像素电极层，并且光线功能层靠近液晶层一侧的表面距离衬底的厚度相同，换句话说，所述光线功能层为所述阵列基板的平坦化层，使得反射层平坦化，不仅能够确保液晶盒的盒内高度的均一性，同时能够解决相关技术中因Bump形貌的凸起凹坑的粗糙表面引起的液晶盒内的液晶排列异常的问题。光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6，具体的，光线功能层的材料可以为氧化铟锡ITO、折射率为1.8到2.1，可以为氧化锌ZnO、折射率为2.0，还可以为二氧化钛TiO2、折射率为2.6。

在一个可选的实施例中，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长。

在本实施例中，光线功能层的厚度满足：nh＝1/4λ的整数倍，其中，n为折射率，h为光线功能层的厚度，λ为可见光波长，满足该公式的光线功能层的厚度，能够确保反射率最大，从而进一步提高显示面板的光利用率。

第七步，形成覆盖所述光线功能层14的第一取向层19，所述光线功能层14的折射率大于所述第一取向层19的折射率，并且所述光线功能层14的折射率大于所述液晶层30的折射率。

在本实施例中，设置在光线功能层14上的第一取向层的折射率为1.6左右，液晶层的折射率为1.5到1.6，即第一取向层19和液晶层30可以视为折射率相同的介质。光线功能层14相对于取向层19和液晶层30为高折材料，光线在反射层界面反射后的光线经过光线功能层再次发生折射，因光线功能层的折射率大于第一取向层和液晶层的折射率，光线从阵列基板10进入第一取向层和液晶层30的光线在界面3发生折射，进一步增加光线的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题，并且光线功能层能够保护反射层的金属防止氧化。

其次，如图1所示，形成对盒基板20。

在本实施例中，对盒基板20包括第二衬底21、彩膜层22、电极层24和第二取像层25，本申请对对盒基板的结构不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求，选择适当的对盒基板，以实现与阵列基板对盒为设计准则，在此不再赘述。

最后，如图1所示，对盒所述阵列基板10和对盒基板20。

在本实施例中，通过封框胶将液晶层30设置在阵列基板10和对盒基板20中间，形成如图1所示的反射式液晶显示面板。

至此，完成反射式液晶显示面板的制作。

在一个具体的实施例中，如图5所示，所述对盒基板20包括第二衬底21、层叠设置在所述第二衬底上的所述光线增强层26和所述光线功能层23，其中，

所述光线功能层23的折射率大于或小于所述光线增强层26的折射率。

在本实施例中，对盒基板包括层叠设置在第二衬底21上的多个膜层，其中：

所述光线增强层26包括多个光线增强结构，光线增强层26的各光线增强结构的曲率半径相同、或者不同，光线增强结构的曲率半径大于等于5μm且小于等于12μm，光线增强结构的坡度大于等于5°且小于等于10°，各所述光线增强结构间的间距相同、或者不同，所述间距大于等于1.5μm且小于等于9μm。值得说明的是，本申请对光线增强层的各光线增强结构的曲率半径、坡度、各光线增强结构间的间距不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的结构，以具有能够散射光线的功能为设计准则，在此不再赘述。

在本实施例中，在光线增强层26上设置光线功能层23，光线功能层23覆盖所述光线增强层26，并且光线功能层23靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，即光线功能层23靠近液晶层30一侧的表面距离第二衬底21的厚度相同，换句话说，所述光线功能层23为所述对盒基板20的平坦化层，使得光线增强层平坦化，不仅能够确保液晶盒的盒内高度的均一性，同时能够解决相关技术中因Bump形貌的凸起凹坑的粗糙表面引起的液晶盒内的液晶排列异常的问题。

在一个可选的实施例中，所述光线增强层的材料与所述第二衬底的材料相同。

在本实施例中，通过同一制备工艺形成光线增强层和第二衬底，即光线增强层和第二衬底的材料相同，有效简化制备工艺，节省制作成本。

在本实施例中，所述光线增强层的折射率为1.5，光线功能层相对于光线增强层为低折材料时，所述光线功能层的折射率大于等于1.1且小于等于1.4，例如为MgF2材料、折射率为1.38，还可以为聚二甲基硅氧烷PDMS、折射率为1.4；光线功能层相对于光线增强层为高折材料时，所述光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6。

在本实施例中，如图5所示，入射光线经过光线增强层26和光线功能层23的界面时发生散射并入射液晶，经过液晶返回的光线经过光线功能层23发生折射，折射后的光线再经过光线增强层26再次折射。由于光线功能层23的折射率与光线增强层26的折射率不同，能够增大光线增强层的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题；同时，对于正视角入射并出射的反射光，不发生折射，光路不变。

考虑到进一步提高反射式液晶显示面板的光利用率，在一个可选的实施例中，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长。

在本实施例中，光线功能层的厚度满足：nh＝1/2λ的整数倍，其中，n为折射率，h为光线功能层的厚度，λ为可见光波长，满足该公式的光线功能层的厚度，能够确保透射率最大，从而进一步提高显示面板的光利用率。具体的，入射光线经过光线增强层26和光线功能层23的界面时发生散射并入射液晶，经过液晶返回的光线经过光线功能层23发生折射，折射后的光线再经过光线增强层26再次折射，通过覆盖在光线增强层上的光线功能层，一方面增大了光线的散射角度、增加了显示面板的观看视角，另一方面确保了液晶盒盒厚的均一性。

如图4所示，下面以制作反射式液晶显示面板为例进行详细说明：

首先，如图5所示，形成阵列基板10。具体包括：

第一步，在第一衬底11上形成薄膜晶体管层16。

在本实施例中，所述薄膜晶体管层包括驱动液晶层的多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，所述薄膜晶体管可以为顶栅结构也可以为底栅结构，本申请对此不作具体限定。

第二步，形成覆盖所述薄膜晶体管层16的第一取向层19。

其次，如图5所示，形成对盒基板20。具体包括：

第一步，在第二衬底21上形成所述光线增强层26。

在本实施例中，在第二衬底21上形成光线增强层26，所述光线增强层26包括多个光线增强结构，从而对光线进行散射。

在一个可选的实施例中，采用同一制备工艺形成所述第二衬底21和所述光线增强层26，即光线增强层26和第二衬底21的材料相同，有效简化制备工艺，节省制作成本。

第二步，形成覆盖所述光线增强层26的光线功能层23，所述光线功能层23的折射率大于或小于所述光线增强层26的折射率。

在本实施例中，所述光线功能层23靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，光线功能层23靠近液晶层30一侧的表面距离第二衬底21的厚度相同，换句话说，所述光线功能层23为所述对盒基板20的平坦化层，使得光线增强层平坦化，不仅能够确保液晶盒的盒内高度的均一性，同时能够解决相关技术中因Bump形貌的凸起凹坑的粗糙表面引起的液晶盒内的液晶排列异常的问题。

为了进一步提高反射式液晶显示面板的光利用率，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长。所述光线功能层的厚度能够确保透射率最大，从而进一步提高显示面板的光利用率。

第三步，形成覆盖所述光线功能层23的公共电极层24。

第四步，形成覆盖所述公共电极层24的第二取向层25。

最后，如图5所示，对盒所述阵列基板10和对盒基板20。

在本实施例中，通过封框胶将液晶层30设置在阵列基板10和对盒基板20中间，形成如图1所示的反射式液晶显示面板。

至此，完成反射式液晶显示面板的制作。

本实施例通过设置在对盒基板上的光线增强层和光线功能层，以及光线增强层和光线功能层的折射率差，能够增大光线增强层的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题；同时，对于正视角入射并出射的反射光，不发生折射，光路不变。具体的，入射光线经过光线增强层26和光线功能层23的界面时发生散射并入射液晶，经过液晶返回的光线经过光线功能层23发生折射，折射后的光线再经过光线增强层26再次折射。

与上述实施例提供的液晶显示面板相对应，本申请的一个实施例还提供一种制作上述液晶显示面板的制作方法，由于本申请实施例提供的制作方法与上述几种实施例提供的液晶显示面板相对应，因此在前实施方式也适用于本实施例提供的制作方法，在本实施例中不再详细描述。

如图4所示，本申请的一个实施例还提供一种制作上述液晶显示面板的制作方法，包括

形成光线增强层，所述光线增强层包括用于散射光线的多个凸状的光线增强结构；

在所述光线增强层靠近液晶层的一侧形成光线功能层，所述光线功能层的折射率、与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率不同；

对盒所述阵列基板和对盒基板形成液晶显示面板。

本实施例通过形成在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，以及通过设置光线功能层与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率差异，能够增加液晶显示面板的观看视角，避免相关技术中存在的显示不良问题，有效提高显示效果，具有广泛的应用前景。

在一个可选的实施例中，所述阵列基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成阵列基板进一步包括：

在第一衬底上形成薄膜晶体管层；

形成覆盖所述薄膜晶体管层的缓冲层；

在所述缓冲层上形成所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的层间介质层；

形成覆盖所述层间介质层的像素电极层，所述像素电极层远离所述第一衬底的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为反射层；

形成覆盖所述像素电极层的光线功能层，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的第一取向层，所述光线功能层的折射率大于所述第一取向层的折射率，并且所述光线功能层的折射率大于所述液晶层的折射率。

在本实施例中，所述光线增强层和光线功能层设置在阵列基板上，所述光线功能层为使用树脂材料形成的具有多个凸状的光线增强结构，使得形成在其上的反射层能够进一步增加漫反射，即通过所述光线增强结构散射所述光线从而提升反射层的反射率；同时，通过光线功能层与第一取向层和液晶层的折射率差异，即光线功能层的折射率大于第一取向层和液晶层的折射率，光线从光密介质进入光疏介质发生折射，表征为进一步增大反射层的反射角度。换句话说，设置在光线增强层的凸状光线增强结构上的反射层能够降低反射过程中损失的光以提升反射率，同时通过光线功能层进一步在液晶显示面板的出光方向上散射所述光线。具体实施方式详见前述实施例，在此不再赘述。

在一个可选的实施例中，所述对盒基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成对盒基板进一步包括：

在第二衬底上形成所述光线增强层；特别的，采用同一制备工艺形成所述第二衬底和所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的光线功能层，所述光线功能层的折射率大于或小于所述光线增强层的折射率，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的公共电极层；

形成覆盖所述公共电极层的第二取向层。

在本实施例中，通过设置在对盒基板上的光线增强层和光线功能层，以及光线增强层和光线功能层的折射率差，能够增大光线增强层的散射角度，避免相关技术中存在的显示不良问题；同时，对于正视角入射并出射的反射光，不发生折射，光路不变。具体的，入射光线经过光线增强层和光线功能层的界面时发生散射并入射液晶，经过液晶返回的光线经过光线功能层发生折射，折射后的光线再经过光线增强层再次折射。具体实施方式详见前述实施例，在此不再赘述。

基于上述反射式液晶显示面板，本发明还提供一种反射式液晶显示装置，包括上述实施例中所述的液晶显示面板。所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明针对目前现有的问题，制定一种液晶显示面板、液晶显示装置和制作方法，所述液晶显示面板一个实施例通过设置在光线增强层靠近液晶层一侧的光线功能层，以及通过设置光线功能层与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率差异，能够增加液晶显示面板的观看视角，避免相关技术中存在的显示不良问题，有效提高显示效果，具有广泛的应用前景。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (15)

1.一种反射式液晶显示面板，包括阵列基板、液晶层和对盒基板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括：光线增强层、以及设置在所述光线增强层靠近所述液晶层一侧的光线功能层，其中

所述光线增强层，包括多个凸状的光线增强结构，用于散射光线；

所述光线功能层，用于在所述液晶显示面板的出光方向上散射所述光线，并且，所述光线功能层的折射率、与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率不同。

2.根据权利要求1所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm。

3.根据权利要求1或2所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括第一衬底、层叠设置在所述第一衬底上的所述光线增强层、反射层、所述光线功能层和第一取向层；

所述反射层，用于反射所述光线；

所述光线功能层的折射率大于所述第一取向层的折射率，并且所述光线功能层的折射率大于所述液晶层的折射率。

4.根据权利要求3所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括设置在所述第一衬底的薄膜晶体管层、缓冲层、所述光线增强层、层间介质层、像素电极层、光线功能层、以及第一取向层，所述像素电极层远离所述第一衬底的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为所述反射层。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，

所述光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6，所述光线功能层为氧化铟锡、氧化锌、二氧化钛中的一种。

7.根据权利要求1所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述对盒基板包括第二衬底、层叠设置在所述第二衬底上的所述光线增强层和所述光线功能层，其中，

所述光线功能层的折射率大于或小于所述光线增强层的折射率。

8.根据权利要求7所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述光线增强层的材料与所述第二衬底的材料相同。

9.根据权利要求7所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的反射式液晶显示面板，其特征在于，

所述光线功能层的折射率大于等于1.1且小于等于1.4、或者所述光线功能层的折射率大于等于1.8且小于等于2.6。

11.一种反射式液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-10中任一项所述的反射式液晶显示面板。

12.一种制作如权利要求1-10中任一项所述的反射式液晶显示面板的制作方法，形成阵列基板和形成对盒基板，其特征在于，包括

形成光线增强层，所述光线增强层包括用于散射光线的多个凸状的光线增强结构；

在所述光线增强层靠近液晶层的一侧形成光线功能层，所述光线功能层的折射率、与所述光线功能层远离所述阵列基板一侧的结构的折射率不同；

对盒所述阵列基板和对盒基板形成液晶显示面板。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述阵列基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成阵列基板进一步包括：

在第一衬底上形成薄膜晶体管层；

形成覆盖所述薄膜晶体管层的缓冲层；

在所述缓冲层上形成所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的层间介质层；

形成覆盖所述层间介质层的像素电极层，所述像素电极层远离所述第一衬底的一侧为凸状结构，并且，所述像素电极层复用为反射层；

形成覆盖所述像素电极层的光线功能层，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述缓冲层在垂直于所述第一衬底的第一方向上的厚度为1/4λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的第一取向层，所述光线功能层的折射率大于所述第一取向层的折射率，并且所述光线功能层的折射率大于所述液晶层的折射率。

14.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述对盒基板包括光线增强层和光线功能层，所述形成对盒基板进一步包括：

在第二衬底上形成所述光线增强层；

形成覆盖所述光线增强层的光线功能层，所述光线功能层的折射率大于或小于所述光线增强层的折射率，所述光线功能层靠近所述液晶层一侧的表面的表面粗糙度小于等于10nm，所述光线功能层相对于所述第二衬底在垂直于所述第二衬底的第二方向上的厚度为1/2λ的整数倍，λ为可见光波长；

形成覆盖所述光线功能层的公共电极层；

形成覆盖所述公共电极层的第二取向层。

15.根据权利要求14所述的制作方法，其特征在于，所述在第二衬底上形成所述光线增强层进一步包括：

采用同一制备工艺形成所述第二衬底和所述光线增强层。

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