CN115079454A - 显示模组及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示模组及显示装置,该显示模组包括:显示面板、光程调整层以及设置在所述显示面板出光侧的控光组件。其中,控光组件包括多个透镜;显示面板包括像素层,像素层包括多个像素岛,像素岛与透镜对应设置,具有沿透镜口径方向分布的多个像素区;光程调整层设置在像素层中每个像素岛与相应透镜之间,用于补偿同一所述像素岛中不同像素区与相应透镜之间的光程差异。这样能够补偿大视角像素发出的光线的像差,有利于在实现更大主瓣视角的情况下,提高显示效果,达到较好的观看体验。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示模组及显示装置。
背景技术
基于透镜的3D显示可以在实现裸眼3D的基础上具备较好的成像效果,因而具有较好的发展前景。一般来说,在基于透镜的3D成像中,主瓣视角在 10°到15°之间,可以近似的认为符合傍轴条件,此时几何透镜本身的各种像差一般较小,可以忽略,因此可以根据简单的几何关系进行光学系统的设计。但随着应用场景的逐渐拓展,也对其规格提出了更高的要求,比如需要实现更大的主瓣视角等。
然而,在基于几何透镜的成像中,大视角的成像质量差一直是困扰业界的一个难题。在照相系统中可以通过由多片透镜组成的透镜组辅以算法处理纠正畸变造成的影响,但在基于透镜的3D成像技术中,这一方法由于对透镜的需求由单个变成了阵列同时光路方向翻转,使用算法进行补偿的难度提升而不再有效。
发明内容
鉴于上述问题,提出了本申请以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的显示模组及显示装置。
第一方面,本申请实施例提供了一种显示模组,包括:显示面板、光程调整层以及设置在所述显示面板出光侧的控光组件;
所述控光组件包括多个透镜;
所述显示面板包括像素层,所述像素层包括多个像素岛,所述像素岛与所述透镜对应设置,每个所述像素岛具有沿所述透镜口径方向分布的多个像素区;
所述光程调整层设置在所述像素层中每个像素岛与相应透镜之间,用于补偿同一所述像素岛中不同像素区与相应透镜之间的光程差异。
进一步地,所述光程调整层包括多个调整单元,每个所述调整单元对应一个所述像素岛,
所述调整单元包括多个调节区,每个所述调节区对应一个所述像素区,各个所述调节区的折射率与第一目标距离呈负相关,所述第一目标距离为沿所述透镜口径方向,所述调节区与相应像素岛中心之间的距离。
进一步地,所述调整单元包括:控制组件以及折射率可调的填充材料层,所述填充材料层设置在所述像素岛与相应透镜之间;
所述控制组件用于产生目标能量场,调节所述填充材料层中不同区域的折射率,以形成所述多个调节区。
进一步地,所述填充材料层为液晶材料层,所述控制组件包括第一电极和第二电极,所述第一电极设置在所述液晶材料层的靠近所述透镜的一侧,所述第二电极设置在所述液晶材料层的靠近所述像素岛的一侧;
所述第一电极和/或所述第二电极包括多个子电极,所述多个子电极之间相互绝缘,每个所述子电极具有独立的电压控制端,以通过分别控制每个子电极的驱动电压,调整对应液晶区域的折射率,形成所述多个调节区。
进一步地,上述显示模组还包括:偏光片,设置在所述像素层与所述光程调整层之间。
进一步地,不同所述调节区填充不同折射率的介质材料。
进一步地,所述显示面板还包括衬底基板,所述像素层设置在所述衬底基板上;
沿垂直于所述衬底基板的方向,所述像素岛中不同像素区相对于所述衬底基板的位置高度与第二目标距离呈正相关,所述第二目标距离为所述像素区与相应像素岛中心之间的距离;
所述光程调整层填充所述像素岛中各像素区所形成的凹面。
进一步地,每个所述像素区包括一个或多个子像素;每个所述像素区内各子像素与相应透镜汇聚点之间的最大偏差值小于所述透镜焦深的一半。
进一步,上述显示模组还包括:隔垫层,所述隔垫层设置在所述控光组件与所述光程调整层之间。
第二方面,本申请实施例提供了一种显示装置,包括上述第一方面提供的显示模组。
本申请实施例提供的技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
本申请实施例提供的显示模组,通过在像素岛与相应透镜之间增设光程调整层,减小同一像素岛中不同像素区到相应透镜之间的光程差异,补偿大视角像素发出的光线的像差,有利于在实现更大主瓣视角的情况下,提高显示效果,以达到较好的观看体验。
上述说明仅是本申请技术方案的概述,为了能够更清楚了解本申请的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本申请的具体实施方式。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:
图1为不同视场角下透镜汇聚点示意图;
图2为本申请实施例中一种显示模组的结构示意图;
图3为图2中单个像素岛对应的模组结构示意图一;
图4为本申请实施例中像素区的传输距离示意图;
图5为本申请实施例中调整单元的结构示意图一;
图6为本申请实施例中调整单元的结构示意图二;
图7为图2中单个像素岛对应的模组结构示意图二。
具体实施方式
基于透镜的3D显示技术,是在显示面板的出光侧设置透镜阵列,显示面板的成像平面(即发光平面)位于透镜阵列的焦平面上。利用每个透镜对光的折射作用,将不同的显示内容折射到空间中不同区域,到达人眼时显示的内容被分开,使得人眼接收到具有视差的图像,这样便产生了立体效果。
根据几何光学的相关原理,不同视场角下透镜的各种像差在光路上最终体现为透射平行光的焦点并不在同一平面内,而是呈曲面分布。例如,当透镜为柱透镜时,相对圆透镜而言少了一个调制方向,其焦点分布则呈曲线,如图1 所示意。
在基于透镜的3D成像中,主瓣视角(指像素岛的发射光线经过其正上方的透镜分光后在空间形成的视角)一般在10°到15°之间,可以近似的认为符合傍轴条件,此时几何透镜本身的各种像差一般较小,可以忽略,因此可以根据简单的几何关系进行光学系统的设计。基于这种设计规则,可以实际清晰成像的最大视角对应的像素范围可以达到主瓣视场对应的像素范围的5到9 倍,若以清晰成像范围内的像素作为一个像素岛,以像素岛尺寸与透镜尺寸作为透镜开口率进行计算,此时开口率一般不超过20%。而在实际器件结构中,通过像素的复用,各个像素岛之间互相重叠,透镜在实际排布上是密接的,可以在控光层中实现接近100%的光透过率。
然而,这种设计在保证了光效的同时也导致了主瓣与旁瓣之间的死区以及物体呈现视差角度范围的偏小(与主瓣视角大小一致)。若要解决以上问题,则需要实现更大的主瓣视角,此时必须要将像素岛之间的距离拉开,减少像素的复用,若沿用原有设计势必会导致控光层开口率的下降。在不改变焦距的基础上,增大透镜的开口率,势必会导致透镜像差的增大,因此大视角下几何透镜的像差补偿问题是实现基于透镜的超大视角3D成像的关键问题。
要解决透镜的像差补偿问题,主要有两种思路,一是将透镜阵列改为透镜组阵列,通过透镜组来矫正像差,二是改变像素岛内不同角度下像素与透镜的位置关系,即改变其等效光程。
本申请基于第二种思路提供了一种显示模组及显示装置。下面将参照附图详细地描述本申请提供的显示模组及显示装置的示例性实施例。需要指出的是,在附图中,为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反,提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。本文中出现的术语“和/或”,仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B 这三种情况。术语“多个”包括两个或大于两个的情况。
第一方面,本申请实施例提供了一种显示模组,如图2所示,该显示模组包括:显示面板100、光程调整层120以及设置在显示面板100出光侧的控光组件110。当然,除此之外,显示模组还包括:隔垫层130,设置在控光组件110 与光程调整层120之间。需要说明的是,本文中的隔垫层130泛指介于光程调整层120与控光组件110之间的各类膜层及胶层,主要作用包括支撑以及控制控光组件110的放置高度,具体可以参见相关技术,此处不做详述。
控光组件110包括多个透镜111。例如,透镜111可以是圆透镜,多个圆透镜呈二维阵列排布。又例如,透镜111也可以是柱透镜,多个柱透镜沿图中的X 方向排布,且每个柱透镜向着Z方向延伸,Z方向为垂直于XY平面的方向。
显示面板100的成像平面(即发光平面)位于透镜111的焦平面上。显示面板100包括像素层,像素层包括多个像素岛101,像素岛101与透镜111对应设置,具体设置方式可以参见相关技术,此处不做详述。本文中,主要以显示模组中单个像素岛101对应的结构为例进行说明。
如图3所示,每个像素岛101具有沿透镜111口径方向(如图3中的X方向) 分布的多个像素区1011。每个像素区1011包括一个或多个子像素,具体数量可以根据实际透镜补偿像差的需求以及加工的工艺水平确定。例如,若透镜111 为圆透镜,则对应像素岛101的形状呈现为圆形,沿圆透镜口径方向可以划分为多个呈环状的像素区1011;若透镜111为柱透镜,则对应像素岛101的形状呈现为长条形,沿柱透镜口径方向可以划分为多个条形像素区1011。
在一些示例中,划分像素区1011的宗旨可以为:每个像素区1011内各子像素的实际位置与相应透镜汇聚点之间的最大偏差值小于透镜111焦深的一半。这样可以将同一像素区1011内各子像素的光程差异控制在可接受的范围内,有利于提高对各像素区1011光程补偿的准确性。
可以理解的是,平行于光轴的光线经过透镜111后汇聚于透镜111焦点处,而其他视角下的平行光经过透镜111后也会汇聚到一点,本文中将该点称为汇聚点。焦点即为位于光轴上的汇聚点。上述“相应透镜汇聚点”是指像素区视角对应的平行光,即像素区1011中心与透镜111光心连线方向的平行光经过该透镜111后在该像素区1011处的汇聚点。
光程调整层120设置在像素层中每个像素岛101与相应透镜111之间,用于补偿同一像素岛101中不同像素区1011与相应透镜111之间的光程差异。需要说明的是,本文中的像素区1011与相应透镜111之间的“光程”是指像素区1011 发出的光传输到相应透镜111中心(光心)的光程。
例如,图4中示出了像素岛101的中心像素区以及边缘像素区到相应透镜 111中心以及两端的实际距离。在传输介质相同的情况下,由于中心像素区到透镜111中心的实际距离小于边缘像素区到透镜111中心的实际距离,中心像素区1011的光程也就小于边缘像素区到透镜111中心的光程,在主瓣视角较大的情况下,该光程差异也相应增大,从而导致大视角光线的像差。
通过在像素岛101与相应透镜111之间增设光程调整层120,能够减小同一像素岛101中不同像素区1011到相应透镜111之间的光程差异,补偿大视角像素发出的光线的像差,有利于在实现更大的主瓣视角的情况下,保证显示效果,以达到较好的观看体验。
具体的,光程调整层120的实现方式有多种。例如,考虑到光程大小受传输介质的折射率影响,可以通过差异化设置不同像素区1011与透镜111之间的介质折射率,实现对各像素区1011光程差异的补偿。
在一些示例中,光程调整层120包括多个调整单元121,每个调整单元121 对应一个像素岛101。由于各调整单元121的结构类似,本文中主要以一个调整单元121为例进行说明。如图5所示,调整单元121包括多个调节区1211,每个调节区1211对应一个像素区1011,各个调节区1211的折射率与第一目标距离呈负相关。其中,第一目标距离为沿透镜111口径方向,调节区1211与相应像素岛101中心(如图5中的虚线位置)之间的距离。也就是说,越靠近像素岛101 中心的像素区1011,所对应的调节区1211的折射率越大,反之,越远离像素岛101中心即越靠近像素岛101边缘的像素区1011,所对应的调节区1211的折射率越小。
同一像素岛101中,中心像素区与透镜111中心的实际距离相对较短,随着视角的增大,靠近边缘位置的像素区1011与透镜111中心的实际距离变长。相应地,中心像素区对应的调节区1211的折射率相对较大,可以实现更长的光程,边缘像素区对应的调节区1211的折射率相对较小,可以相对减小光程,从而将像素岛101的中心像素与边缘像素实际光程的差距减小,相当于补偿了透镜大视角下变化的光程,从而补偿其像差,减小对透镜111焦深的要求。
具体的,各调节区1211的实现方式有多种。例如,考虑到按照目前的工艺水平,在透镜111与显示面板100进行对位贴合时加工精度有限,可能导致透镜 111的位置与预计位置存在位移,从而使得原本设计位置与透镜111中心对应的像素实际位于透镜111边缘位置。因此,为了实现调节区1211的灵活配置,降低对透镜111与显示面板100的对位贴合精度的要求,在一些示例中,上述调整单元121可以包括:控制组件以及折射率可调的填充材料层,填充材料层设置在像素岛101与相应透镜111之间。控制组件用于产生目标能量场,调节填充材料层中不同区域的折射率,以在填充材料层中形成上述的多个调节区1211。这样就可以在完成透镜111与显示面板100的贴合后,再根据实际位置情况调整各调节区1211,有利于进一步提高光程调整的准确性,以实现更好的像差补偿效果。
例如,目标能量场可以为电场或磁场。例如,目标能量场为电场时,填充材料层可以为液晶材料层,如可以为TN(Twisted Nematic,扭曲向列型)液晶,或者,也可以是其他折射率受电场调节的液晶,本实施例对此不做限制。例如,目标能量场为磁场时,填充材料层可以为磁流体材料层。当然,在本申请其他实施例中,也可以采用其他能量场以及其他配合能量场实现折射率调整的填充材料层,本实施例对此不做限制。
以目标能量场为电场、填充材料层为液晶材料层为例,在一些示例中,如图6所示,控制组件可以包括第一电极211和第二电极212,第一电极211设置在液晶材料层220的靠近透镜111的一侧,第二电极212设置在液晶材料层220的靠近像素岛101的一侧。在第一电极211与第二电极212之间施加电压,即可产生垂直于液晶材料层220的电场。
第一电极211和/或第二电极212包括多个子电极。例如,第一电极211 包括多个子电极,第二电极212为整层设置,或者,第一电极211为整层设置,第二电极212包括多个子电极,又或者,如图6所示,第一电极211和第二电极212均包括多个子电极,且第一电极211的各子电极201a与第二电极212 中的各子电极201b成对设置。
多个子电极之间相互绝缘,且每个子电极具有独立的电压控制端,以通过分别控制每个子电极的驱动电压,控制作用在对应液晶区域的电场,从而调整对应液晶区域的折射率,形成上述的多个调节区1211。例如,可以调整中心像素区1011对应的子电极的驱动电压,使得相应液晶区域的折射率接近于ne(e 光的折射率),调整其他像素区1011对应的子电极的驱动电压,使得相应液晶区域的折射率随着第一目标距离的增加依次降低。
在一些示例中,子电极的宽度可以与像素区1011的宽度匹配,使得一个或一对子电极对应一个像素区1011,通过控制其驱动电压,形成该像素区1011 对应的调节区1211,有利于简化控制。需要说明的是,本文中的“宽度”是指沿透镜口径方向即图中X方向上的宽度。
在一些示例中,子电极的宽度可以小于像素区1011的宽度,每个像素区1011可以对应设置多个或多对子电极。这样可以通过控制各子电极的驱动电压,方便实现各调节区1211的“位置调整”。例如,每个像素区1011可以对应设置四个或四对条形子电极,具体可以根据加工精度、像素区1011宽度以及调节区1211的位置调整精度需求设计。
例如,假设第一电极211包括相邻设置的条形子电极slit1~slit8,第二电极 212包括与slit1~slit8相对设置的条形子电极slit1′~slit8′,分别组成子电极对: slit1-slit1′、……、slit8-slit8′。具体各条形子电极对的驱动方式根据透镜111与像素岛101的实际位置关系确定。例如,在一种场景中,可以对 slit1-slit1′~slit4-slit4′施加同样的驱动电压,对相应液晶区域进行折射率调整,以形成对应于像素区A的调节区;在另一种场景中,可以对slit2-slit2′~slit5-slit5′施加同样的驱动电压,对相应液晶区域进行折射率调整,以形成对应于像素区 A的调节区。
进一步地,在一些示例中,像素层出射的光为非线偏光,考虑到液晶材料的光学特性,如图6所示,显示模组还包括:偏光片122。该偏光片122设置在像素层与光程调整层120之间,也就是像素层与上述第二电极212之间,将像素层出射的光调整为线偏振光。
需要说明的是,在具体设计时,为了尽量降低光程调整层120对相邻区域的像素光程产生预期范围之外的影响,产生杂散光,导致3D显示的串扰,光程调整层120的整体厚度应尽可能低。另外,要在光程调整层120厚度尽量低的前提下实现更好的光程调控效果,则需要液晶材料具有较大的折射率调整范围。考虑到液晶的响应时间并不影响实际效果,因此可以在牺牲响应时间的情况下进行液晶材料的选材。
另外,目标能量场为磁场,填充材料层可以为磁流体材料层时,磁控调整单元的结构可以与电控液晶调整单元的结构类似,不同之处在于磁控调整单元的控制组件应采用电磁感应结构如成对设置的电磁铁单元,具体原理可以参见相关技术,本实施例对此不做详述。
在一些示例中,除此之外,还可以通过对各像素区1011对应的光程调整层120填充不同折射率的介质材料的方式实现上述多个调节区1211。也就是说,不同调节区1211填充有不同折射率的介质材料。此处的“不同调节区1211”是指折射率不同的调节区1211。
例如,如图5所示,以透镜111为柱透镜为例,像素岛101划分为位于中心的像素区P0、以及对称分布在像素区P0两侧的像素区PL1-PL5以及像素区 PR1-PR5,且像素区P0的中心正对相应透镜111中心。像素区P0对应的调节区 1211填充介质材料a0,像素区PL1和PR1对应的调节区1211填充介质材料a1,像素区PL2和PR2对应的调节区1211填充介质材料a2,像素区PL3和PR3对应的调节区1211填充介质材料a3,像素区PL4和PR4对应的调节区1211填充介质材料a4,像素区PL5和PR5对应的调节区1211填充介质材料a5,其中,各介质材料的折射率关系为:na0>na1>na2>na3>na4>na5。
例如,不同折射率的介质材料可以是具有不同折射率的不同材料,或者,也可以是在同一基底材料如树脂材料中掺杂不同浓度的纳米粒子,实现不同折射率。具体可以根据实际需要设计,本实施例对此不做限制。
通过填充不同折射率介质材料的方式,实现具有不同折射率的调节区 1211,有利于实现更薄的光程调整层120厚度,从而有利于减少杂散光,实现更好的显示效果,也有利于实现较大的折射率调整范围。
另外,考虑到光程大小除了受传输介质的折射率影响以外,还受到实际传输距离的影响。在一些示例中,也可以通过调整显示面板100像素层中不同像素区1011的发光面(或出光面)的实际位置高度,补偿不同像素区1011到透镜 111中心的光程差异,从而实现像差补偿。例如,若显示面板100为液晶显示面板,则像素区1011的发光面可以为彩膜基板表面,若显示面板100为自发光显示面板如OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)或QLED (Quantum dot Light-Emitting Diode,量子点发光二极管)显示面板,则像素区 1011的发光面可以为OLED器件或QLED器件的发光面。
具体的,显示面板100还包括衬底基板(图中未示出),像素层设置在衬底基板上。沿垂直于衬底基板的方向(即图7中示出的Y方向),如图7所示,像素岛101中不同像素区1011相对于衬底基板的位置高度与第二目标距离呈正相关。其中,第二目标距离为像素区1011与相应像素岛101中心之间的距离。也就是说,以衬底基板为高度基准,距离像素岛101中心越近的像素区1011的发光面位置越低,反之,距离像素岛101中心越远的像素区1011的发光面位置越高,具体位置高度可以根据实际光程差异的补偿需求设置,以使得各像素区1011的中心与透镜光心连线方向的平行光束经过透镜汇聚在相应像素区1011 的发光面上。
相邻像素区1011的发光面之间的高度差异可以根据实际二者的光程差异设置,例如,从中心像素区1011到边缘像素区1011,发光面位置高度可以呈等梯度增加,或者,也可以按照不同梯度增加,本实施例对此不做限制。
例如,仍以上述像素区P0、PL1-PL5以及PR1-PR5为例,像素区P0的发光面位置高度为h0,像素区PL1和PR1的发光面位置高度为h1,像素区PL2和PR2的发光面位置高度为h2,像素区PL3和PR3的发光面位置高度为h3,像素区PL4和PR4的发光面位置高度为h4,像素区PL5和PR5的发光面位置高度为h5,其中,各位置高度的大小关系为:h0<h1<h2<h3<h4<h5。
此时,如图7所示,像素岛101中各像素区1011的发光面组成的面不再是平面,而是凹面。光程调整层120填充像素岛101中各像素区1011所形成的凹面,对其进行平坦化。也就是说,距离像素岛101中心越近的像素区1011正对的光程调整层120区域的厚度越大,使得发光面到透镜111中心的实际传输距离相对增大;反之,距离像素岛101中心越远的像素区1011正对的光程调整层120区域的厚度越小,使得发光面到透镜111中心的实际传输距离相对减小,从而减小各像素区1011到透镜中心的光程差异,实现像差补偿。
例如,光程调整层120可以采用均匀折射率的材料如采用与隔垫层130类似的透明树脂材料。或者,光程调整层120也可以包括上述具有折射率差异的多个调节区1211,结合实际传输距离与介质折射率,对各像素区1011的光程差异进行补偿。
第二方面,本申请实施例还提供了一种显示装置,包括:上述第一方面提供的显示模组。例如,该显示装置可以为:电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、可穿戴电子设备、数码相框、导航仪等具有显示功能的产品或部件。
在以上的描述中,对于产品各层的构图等技术细节并没有做出详细的说明。但是本领域技术人员应当理解,可以通过各种技术手段,来形成所需形状的层、区域等。另外,为了形成同一结构,本领域技术人员还可以设计出与以上描述的方法并不完全相同的方法。尽管在以上分别描述了各实施例,但是这并不意味着各个实施例中的措施不能有利地结合使用。
在此处所提供的说明书中,说明了大量具体细节。然而,能够理解,本公开的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中,并未详细示出公知的方法、结构和技术,以便不模糊对本公开的理解。
另外,所属领域的普通技术人员应当理解:以上任何实施例的讨论仅为示例性的,并非旨在暗示本公开的范围被限于这些例子;在本公开的思路下,以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合,步骤可以以任意顺序实现,并存在如上所述的本公开一个或多个实施例的不同方面的许多其它变化,为了简明它们没有在细节中提供。
尽管已描述了本公开的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本公开范围的所有变更和修改。
Claims (10)
1.一种显示模组,其特征在于,包括:显示面板、光程调整层以及设置在所述显示面板出光侧的控光组件;
所述控光组件包括多个透镜;
所述显示面板包括像素层,所述像素层包括多个像素岛,所述像素岛与所述透镜对应设置,每个所述像素岛具有沿所述透镜口径方向分布的多个像素区;
所述光程调整层设置在所述像素层中每个像素岛与相应透镜之间,用于补偿同一所述像素岛中不同像素区与相应透镜之间的光程差异。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述光程调整层包括多个调整单元,每个所述调整单元对应一个所述像素岛;
所述调整单元包括多个调节区,每个所述调节区对应一个所述像素区,各个所述调节区的折射率与第一目标距离呈负相关,所述第一目标距离为沿所述透镜口径方向,所述调节区与相应像素岛中心之间的距离。
3.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述调整单元包括:控制组件以及折射率可调的填充材料层,所述填充材料层设置在所述像素岛与相应透镜之间;
所述控制组件用于产生目标能量场,调节所述填充材料层中不同区域的折射率,以形成所述多个调节区。
4.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述填充材料层为液晶材料层,所述控制组件包括第一电极和第二电极,所述第一电极设置在所述液晶材料层的靠近所述透镜的一侧,所述第二电极设置在所述液晶材料层的靠近所述像素岛的一侧;
所述第一电极和/或所述第二电极包括多个子电极,所述多个子电极之间相互绝缘,每个所述子电极具有独立的电压控制端,以通过分别控制每个子电极的驱动电压,调整对应液晶区域的折射率,形成所述多个调节区。
5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,还包括:
偏光片,设置在所述像素层与所述光程调整层之间。
6.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,不同所述调节区填充不同折射率的介质材料。
7.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述显示面板还包括衬底基板,所述像素层设置在所述衬底基板上;
沿垂直于所述衬底基板的方向,所述像素岛中不同像素区相对于所述衬底基板的位置高度与第二目标距离呈正相关,所述第二目标距离为所述像素区与相应像素岛中心之间的距离;
所述光程调整层填充所述像素岛中各像素区所形成的凹面。
8.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,每个所述像素区包括一个或多个子像素;
每个所述像素区内各子像素与相应透镜汇聚点之间的最大偏差值小于所述透镜焦深的一半。
9.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,还包括:隔垫层,所述隔垫层设置在所述控光组件与所述光程调整层之间。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-9中任一项所述的显示模组。
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