CN115066893A - 用于校准、安装和/或检查光电学系统的设备、方法和设备的应用 - Google Patents

Abstract

用于制造光敏系统(10)、尤其未激活的光敏系统(10)的设备(1)，其特征在于设有：具有至少一个成像装置(20)的成像设备(2)，其中至少一个成像装置(20)具有射线穿透平面(SE)和光学轴线(O)，并且至少一个成像装置(20)构成用于，产生电磁射线，所述电磁射线沿着光路伸展并且在射线穿透平面(SE)中穿过成像装置(20)，并且为了待制造的光敏系统(10)的光敏装置(11)的评估图像的成像，将电磁射线沿着光路在光敏装置(11)处反射，并且在成像装置(20)中在第一焦平面(B1)中成像，并且为了检测光敏装置(11)的评估图像，在第一焦平面(B1)中检测光路的电磁射线；和具有第一保持平面(Ha)的第一保持设备(3a)，用于将待制造的光敏系统(10)的光学装置(12)保持在第一保持平面(Ha)中；和具有第二保持平面(3b)的第二保持设备(3b)，用于将光敏装置(11)保持在第二保持平面(Hb)中；其中在工作状态中，具有第一保持平面(Ha)的第一保持设备(3a)和/或具有第二保持平面(Ha)的第二保持设备(3a)相对于成像设备(2)可运动地设置。

Description

用于校准、安装和/或检查光电学系统的设备、方法和设备的 应用

技术领域

本发明涉及用于制造光敏系统的设备、方法和应用。尤其地，光敏系统为了制造借助设备和方法未激活(未激活的光敏系统)。本发明尤其涉及用于制造相机的未激活的光敏系统的设备、方法和设备的应用。

背景技术

光敏系统例如用作为用于移动电话的相机模块、在车辆辅助系统中使用、用作为消费电子装置的相机或在医学技术中使用。此外，光敏系统也是激光雷达系统的传感器。作为光敏系统在本申请中尤其理解成功能光学系统，所述功能光学系统包括一个或多个光电学转换器。一方面对借助光敏系统要达到的图像品质的提高的要求和另一方面光敏系统越来越微型化日益提高对光敏系统制造关于质量、时间和成本的要求。

已知用于制造光敏系统的设备和方法，其为了制造光敏系统必须强制性地激活光敏系统。激活要求将光敏系统连接到一个或多个电子接触部上，用以用电能供应光敏系统并且用以读取一个或多个电信号作为数据(被激活的光敏系统)。在这种已知的设备和方法中，待制造的光敏系统本身形成测量机构，所述测量机构本身提供对于光敏系统制造必要的数据。尤其地，将数据用于将待制造的光敏系统的光学装置、例如一个或多个光学透镜相对于待制造的光敏系统的光敏装置、例如在承载件上安装的相机芯片定向。对于定向已知的是，例如光学装置在保持设备中可运动地设置并且借助调节设备根据检测的数据由光敏装置操控，以便借助待制造的光敏系统获得测试结构的期望的成像质量。

这种用于制造光敏系统的将光敏系统以激活的方式用作为用于其制造的测量机构、即用作为激活的光敏系统的已知的设备和方法由于对于电能供应和数据传输所需的硬件可能是相对昂贵的。尤其地，已知设备和方法的对制造光敏系统所需的将光敏装置连接于一个或多个电接触部相对时间较密集的。此外，借助通常要用于制造光敏系统的光敏装置和其通常低图像频率检测测试结构的成像品质持续相对长时间。就此而言，在将待制造的光敏系统用作为测量机构的设备和方法中，应顾及用于光敏系统的相对长的制造时间。此外，借助待制造的光敏系统、尤其用于移动终端设备的待制造的光敏系统，实现相对较低的图像质量。因此，光学装置相对于光敏装置的定向的精度和从而借助已知设备和方法待制造的光学系统的质量受限。这基于发明人的如下知识，对于制造要激活的光敏系统仅具有一个或多个测量信号的低采集率并且就此而言调节率受保持设备的运动的要生成的调节指令限制。

发明内容

因此，本发明的目的是，提供用于制造光敏系统的设备、方法和设备的应用，其减小或消除一个或多个上述缺点和/或相对于现有的技术方案改进。尤其地，本发明的目的是，提供用于制造光敏系统的设备、方法和设备的应用，其能够实现成本更有利地制造光敏系统。此外尤其地，本发明的目的是，提供用于制造光敏系统的设备、方法和设备的应用，其能够实现高质量制造的光敏系统。此外尤其地，本发明的目的是，提供用于制造光敏系统的设备、方法和设备的应用，其能够实现更快地制造光敏系统。

所述目的根据本发明的第一方面根据权利要求1来实现。

要理解的是，本发明的任意在本文中描述的设备特征和方法步骤以及优选的实施方式优选地为了制造唯一的光敏系统以及为了制造多个光敏系统同时地或顺序地不仅彼此独立地和/或彼此关联地构成。就此而言，借助制造，尤其校准、安装和/或检查光敏系统包括制造，尤其校准、安装和/或检查唯一的或多个光敏系统。尤其要理解的是，待制造的光敏系统具有唯一或多个光学装置和/或唯一的或多个光敏装置。

用于制造尤其用于投影和/或成像光电学系统的光敏系统、尤其未激活的光敏系统、光电学和/或光电子系统优选地包括成像设备、第一保持设备和第二保持设备。成像设备包括至少一个成像装置。至少一个成像装置具有射线穿透平面和光学轴线。优选地，成像装置构成为，产生和尤其成形电磁射线，所述电磁射线沿着光路伸展并且在射线穿透平面中穿过成像装置。此外，成像装置优选地构成为，借助在光敏装置处反射的电磁射线将待制造的光敏系统的光敏装置和/或测试结构的评估图像成像在成像装置的第一焦平面中。对此，从成像装置中在射线穿透平面处射出的电磁射线在工作状态中在光敏装置处反射。由光敏装置反射的电磁射线在工作状态中通过射线穿透平面再次射入到成像装置中。此外，成像装置尤其构成为，检测在第一焦平面中成像的评估图像。第一保持设备优选地具有第一保持平面，在所述第一保持平面中能够设置待制造的光敏系统的光学装置以用于制造。第二保持设备优选地具有第二保持平面，在所述第二保持平面中能够设置光敏装置以用于制造。尤其地，第一保持设备借助第一保持平面和/或第二保持设备借助第二保持平面相对于成像设备可运动地设置。尤其地，在工作状态中，第一保持设备借助第一保持平面和/或第二保持设备借助第二保持平面相对于成像设备可运动地设置。

优选地，第一保持设备包括第一设备轴线，所述第一设备轴线正交于第一保持平面延伸。此外，第二保持设备优选地包括第二设备轴线，所述第二设备轴线正交于第二保持平面延伸。尤其地，第一和/或第二设备轴线正交于至少一个成像装置之一的射线穿透平面定向。也能够优选的是，第一和/或第二设备轴线与至少一个成像设备之一成角度地定向。

评估图像尤其是光敏装置和/或测试结构或测试结构和/或校准标记的反射的成像。测试结构和/或校准标记优选地是棋盘图案、西门子星状测试图(Siemensstern)、十字形、H结构等。尤其地，测试结构能够是射线源单元例如LED的结构。测试结构尤其对于制造具有镜反射的光敏装置的光敏系统是有利的。镜反射的光敏装置尤其具有反射性的表面。校准标记尤其用于，将光学装置相对于光敏装置校准。优选地，一个或多个校准标记设置在光敏装置的边缘区域或外部区域中。优选地，一个或多个校准标记设置在光敏装置的承载件上。此外，一个或多个校准标记在工作状态中在光敏装置的旁边设置。尤其地，一个或多个校准标记设置在第一和/或第二保持设备上。校准标记尤其是实体的设置的或引入的参考结构。

尤其地，测试结构是待制造的光敏系统的光敏装置。在所述优选的实施方式中，光敏装置的光学功能结构用作为用于制造光敏系统的参考。这尤其具有如下优点，能够取消设备相对于标记或其他测试结构的参考。

待制造的光敏系统尤其包括光电学或光电子系统。光电学系统构成为，将电子产生的日期(Datum)和/或电子产生的能量转化成光发射，尤其电磁辐射。光电子系统构成为，将光发射、尤其电磁辐射转化成电子日期或电能。尤其地，在待制造的光敏系统中，也应在成像或投影系统之间区分。成像系统例如是相机或望远镜。投影系统例如是移动终端设备中的用于人脸和/或手势识别的点图案投影仪。

待制造的光敏系统尤其是投影系统(发送单元)和成像系统(接收单元)的组合。这种光敏系统例如是激光雷达传感器。尤其地，待制造的光敏系统也能够包括两个或更多个投影系统和/或两个或更多个成像系统。

这种待制造的光敏系统、尤其待制造的未激活的光敏系统尤其包括光敏装置和光学装置。光学装置能够包括一个或多个透镜。尤其地，一个或多个透镜能够是球面的和/或非球面的和/或自由成型的透镜。例如，作为球面透镜已知会聚透镜、半月板和散射透镜。优选的会聚透镜例如是双凸透镜、平凸透镜或凹凸透镜。优选的散射透镜例如是凸凹透镜、平凹透镜或双凹透镜。光学装置尤其能够包括多个不同的透镜、尤其多个不同的球面的和/或非球面的和/或自由成型的透镜的组合。尤其地，光学装置能够构成为，使得其将电磁射线在一个方向上在无穷远处或在有限远处聚焦在焦平面中。此外，光学装置优选地能够构成为，使得其将电磁射线在与所述方向相反的方向上在无穷远处中或在有限远处聚焦在另一焦平面中。尤其地，光学装置能够构成为物镜。光敏装置尤其包括图像传感器或相机的芯片和/或电路板。优选地，光敏装置包括设置在承载件上的图像传感器或相机的芯片。尤其地，光敏装置例如能够是CCD芯片、CMOS芯片、VCSEL阵列、SPAD阵列、InGaAs芯片、微测辐射热计或用于检测和/或产生电磁辐射的类似的构件。

制造光敏系统优选地包括校准和/或安装和/或检查光敏系统。制造光敏系统尤其包括相对于光敏装置校准光学装置和/或将光学装置安装在光敏装置处和/或检查校准的和/或安装的光敏系统。尤其地，制造光敏系统包括将光敏系统相对于一个或多个另外的已经校准的和/或安装的和/或检查的光敏系统校准和/或安装和/或检查。尤其地，制造光敏系统包括将光敏装置相对于待制造的光敏系统的光学装置相对于一个或多个另外的已经校准的和/或安装的和/或检查的光敏系统、尤其相对于其光学装置和/或光敏装置校准和/或安装和/或检查。

在工作状态中，校准包括将光学装置相对于光敏装置校准；移动光学装置和光敏装置；或者相对于位置固定地设置的光敏装置移动光学装置；或者相对于位置固定地设置的光学装置移动光敏装置。这在必要修正的情况下适用于设备的第一和第二保持设备。尤其地，校准包括光学装置的平移定向和光敏装置的旋转定向。也能够优选的是，校准包括光学装置的旋转定向和光敏装置的平移定向。能够优选的是，校准包括不仅光学装置而且光敏装置的旋转和平移定向。

在校准时，将第一保持设备连同待校准的光学装置相对于第二保持设备连同待校准的光敏装置定向和/或反之亦然。尤其地，在校准时，检查相应的至少一个成像装置的待校准的光敏系统的评估图像。尤其地，校准包括检测相应的至少一个成像装置的评估图像的成像品质。成像品质例如是评估图像的成像锐度。优选地，评估图像是唯一的待制造的光敏系统的成像。尤其能够优选的是，评估图像是两个或更多个待制造的光敏系统的两个或更多个成像的叠加。在校准时，尤其设定光学装置和光敏装置相对于彼此的方位和/或位置。校准优选地根据相应的至少一个成像装置的待检测的评估图像、尤其根据相应的评估图像的待检测的成像品质进行。优选地，校准根据从对两个评估图像的叠加的数学评估中得出的值进行。尤其地，校准借助于工业图像处理的常见方法或根据借此提取的特征进行。通常，在此评估和/或叠加测试结构的两个或更多个图像。尤其地，校准根据描述两个测试结构在通过叠加两个成像产生的评估图像中的差的值进行。尤其地，校准基于根据可运动地设置的第一和/或第二保持设备相对于在工作状态中位置固定地设置的成像设备的方位和/或位置来评估相应的评估图像的成像品质。对此，在工作状态中，调整可运动地设置的第一和/或第二保持设备相对于在工作状态中位置固定地设置的成像设备的方位和/或位置，并且根据可运动地设置的第一和/或第二保持设备的调整，关于位置固定地设置的成像设备检测相应的评估图像的成像品质。

优选的是，为了确定对于可运动地设置的第一和/或第二保持设备的一个或多个调节信号，将相应的评估图像的检测到的成像品质变换到频域中。尤其随后例如是评估图像的成像锐度的所检测的图像品质例如能够借助傅里叶变换而变换到频域中。频域的最大频率在此尤其对应于最高成像锐度，对其已知可运动地设置的第一和/或第二保持设备的方位和/或位置。优选地，在上部的检查的频率范围中具有大部分频率份额的成像对应于具有最佳的成像锐度的成像，对此已知可运动地设置的第一和/或第二保持设备的方位和/或位置。优选地，能够根据从两个评估图像的叠加的数学评估中得出的值求取调节信号。尤其地，调节信号能够借助于工业图像处理的常见方法根据借此提取的特征求取。此外，调节信号也能够从测试结构之间的位置差中求取，所述测试结构在图像范围中从评估图像中已提取。

基于此，优选地，求取一个或多个调节信号，以相对于光敏装置校准光学装置和/或相对于另一光敏系统校准或者反之亦然。此外，调节信号能够从在图像范围中从评估图像中已提取的值中求取。

至少一个成像装置中的一个成像装置优选地设置成，使得其光学轴线基本上、尤其在相对于光敏装置进行光学装置校准之后与第一和/或第二设备轴线平行地、优选同心地定向。尤其地，至少一个成像装置中的一个成像装置优选地设置成，使得其光学轴线基本上、尤其在相对于两个或更多个光敏装置进行两个或更多个光学装置校准之后优选与第一和/或第二设备轴线同心地定向。此外优选的是，至少一个成像装置的至少一个另外的成像装置设置成，使得其光学轴线与第一和/或第二设备轴线成角度地定向。尤其要理解的是，相应的至少一个成像装置为了制造光敏系统检测光敏装置的不同的区域。尤其地，其光学轴线与第一和/或第二设备轴线平行地、优选同心地定向的至少一个成像装置检测光敏装置的中心，而至少一个成像装置中的其相应的光学轴线与第一和/或第二设备轴线成角度地定向的至少一个另外的成像装置分别检测光敏装置的边缘区域。这种优选的实施方式尤其具有如下优点，待制造的光敏系统的光学装置和光敏装置平移地和旋转地借助第一和/或第二保持设备相对于彼此定向。

尤其地，在校准时，考虑对于安装需要的偏移。这种偏移例如对于补偿接合造成的收缩和/或设定无限远处设定的、随后成像到有限远处的系统等而言会是必要的。此外尤其地，需要用于校准的偏移，以便从待制造的光敏系统的光敏装置中的存在非光学功能结构的平面聚焦到待制造的光敏系统的光敏装置的期望的光学功能结构上，对于所述非光学功能结构然而已检测通常高的频率份额。此外，偏移也会需要来达到在评估图像中的两个测试结构之间的期望的距离，例如以考虑视差效应。这种偏移也能够适合于补偿图像拱曲效应、考虑在光敏系统的轴上和偏轴区域中成像锐度梯度。

要理解的是，设备的偏移尤其通过第一和/或第二保持设备的平移的和/或旋转的运动或调整来设定。尤其地，偏移基本上在第一和/或第二保持平面中沿着两个独立的轴线设定和/或围绕两个独立的轴线设定。此外能够优选的是，将偏移基本上正交于第一和/或第二保持平面、尤其沿着第三独立的轴线移动和/或调整。优选地也提出，偏移围绕第三独立的轴线设定。

在安装时，第一保持设备连同待安装的光学装置相对于第二保持设备连同待安装的光敏装置保持在相对于彼此规定的方位和/或位置中。尤其地，在安装时，将光学装置与光敏装置连接，例如接合地连接。尤其地，在安装时，能够将光学装置与光敏装置形状配合地和/或力配合地和/或材料配合地连接。尤其地，安装包括粘接、钎焊和/或熔焊，用于将光学装置与光敏装置连接。优选地，安装包括连接的硬化，尤其UV硬化。

在检查时，检查校准的和/或安装的光敏系统。尤其地，在检查时，检查相应的成像装置的待检查的光敏系统的评估图像。尤其地，检查相应的评估图像包括检查相应的评估图像的成像锐度。尤其地，在检查时，检查相对于彼此校准的和/或安装的光学装置和光敏装置的方位和/或位置。优选地，数学地和/或图像处理地评估两个评估图像的叠加。尤其地，在检查时，能够检验在评估图像中的第一测试结构和第二测试结构的位置之间的差。当借助设备同时地或顺序地制造多个光敏系统时，这种评估图像尤其通过多个评估图像的叠加产生。

应注意的是，在检查时，制造的光敏系统设置在第一或第二保持设备中。优选地，制造的光敏系统为了检查设置在第二保持设备中。

运行状态是根据本发明的设备处于运行中的状态。根据本发明的设备的运行状态包括工作状态和优选地包括定位状态。此外，运行状态优选地能够包括物流状态和/或优选地包括维护状态。根据本发明的设备的工作状态尤其包括制造光敏系统。尤其地，根据本发明的设备的工作状态包括校准和/或安装和/或检查光敏系统。

在根据本发明的设备的定位状态中，成像设备可运动地设置。尤其地，成像设备在定位状态中在平行于第一和/或第二保持平面的平面中可运动地设置。尤其地，在定位状态中，第一和/或第二保持设备位置固定地设置并且成像设备可运动地设置。尤其地，设备为了移动成像设备具有成像驱动设备和/或成像支承设备和/或成像控制设备。

在根据本发明的设备的物流状态中，优选地将光学装置和光敏装置提供和输送给相应的保持设备并且将制造的光敏系统输出。输送和/或输出能够逐件地、批量地或连续地进行。能够优选的是，多个光学装置和/或多个光敏装置尤其可以同时输送。尤其地，物流状态还包括将光学装置和光敏装置设置在相应的保持设备中。

根据本发明的设备的维护状态尤其能够包括根据本发明的设备的各个元件的维护和保养的状态。

尤其地，根据本发明的设备的各个元件、设备、单元和/或装置在工作状态中与例如在定位状态和/或物流状态和/或维护状态中相对于彼此不同地设置和/或相对于彼此处于不同的功能中。

第一和/或第二保持设备构成为，保持光学装置和/或光敏装置。尤其地，相应的保持设备构成为，形状配合地和/或力配合地保持和/或容纳光学装置或光敏装置。根据本发明的第一方面，设备的特征尤其能够在于，第一保持设备构成为，容纳光敏装置，并且第二保持设备构成为，容纳光学装置。尤其地，相应的保持设备可以构成为，容纳具有一个或多个光学装置的储库和/或具有一个或多个光敏装置的储库。优选地，第一和/或第二保持设备作为储库构成用于，容纳光学装置和/或光敏装置并且提供用于制造光敏系统。也能够优选的是，向相应的保持设备单独地输送光学装置或光敏装置。尤其地，相应的保持设备构成为，将光学装置和/或光敏装置输送给保持设备以制造光敏系统并且在制造光敏系统之后输出。储库优选构成为容纳或者为了制造光敏系统暂存一个或多个光敏装置和/或一个或多个光学装置。尤其地，第一和/或第二保持设备可以构成为，容纳两个或更多个光学装置和/或两个或更多个光敏装置。尤其地，借助这种能够容纳两个或更多个光学装置和/或两个或更多个光敏装置的第一和/或第二保持设备，两个或更多个光敏系统能够同时地和/或顺序地独立地和彼此相关地制造。尤其地，对此建立光敏系统相对于彼此的功能关系。尤其地，也能够将多个光学装置依次通过移动成像设备和移动第一和/或第二保持装置安装在具有多个光敏装置的承载单元上。优选地，成像设备和第一和/或第二保持设备移动成，使得其沿相同的方向以相同的速度移动，即在移动时相对于彼此位置固定。这尤其能够在如下情况下是优选的：即待制造的光敏系统例如是双相机或三相机的一部分。

尤其优选的是，多个光敏系统、优选投影系统和成像系统或尤其两个成像系统应顺序地制造。

优选地，在工作状态中，第一保持设备和第二保持设备相对于成像设备可运动地设置，其中成像设备位置固定地设置。尤其这在如下情况下是优选的：即多个光敏系统，尤其投影系统和成像系统，尤其激光雷达系统，优选两个或更多个成像系统，例如多相机系统应顺序地或同时地制造。此外能够优选的是，在工作状态中，第一保持设备相对于第二保持设备和成像设备可运动地设置，其中第二保持设备和成像设备位置固定地设置。尤其地，在工作状态中，能够优选的是，第二保持设备相对于第一保持设备和成像设备可运动地设置，其中第一保持设备和成像设备位置固定地设置。优选地，第一保持设备和/或第二保持设备沿着光学轴线可平移运动地设置。尤其地，第一和/或第二保持设备能够横向于光学轴线可平移运动地设置。尤其地，第一和/或第二保持设备可旋转运动地设置。优选地，第一和/或第二保持设备围绕两个或三个彼此正交定向的轴线可旋转运动地设置。尤其地，第一和/或第二保持设备相对于至少一个成像装置的射线穿透平面可运动地设置。尤其地，第一和/或第二保持设备相对于至少一个成像装置的射线穿透平面可平移和/或旋转运动地设置。

根据本发明的设备构成为，在工作状态中制造第一光敏系统之后切换到定位状态中并且在定位状态中将相对于第一光敏系统光学定向的成像设备移动，使得其相对于第二(仍)待制造的光敏系统定向。为了制造第二待制造的光敏系统，设备再次切换到工作状态中。尤其地，根据本发明的设备构成用于，在其再次切换到工作状态中之后，将至少一个另外的光敏系统、尤其至少一个另外的光学装置和另外的光敏装置相对于彼此和关于已经校准的和/或安装的光敏系统校准。为了相对于已经校准和/或安装的光敏系统校准还应校准和/或安装的光敏系统，优选地使用虚拟的测试结构，所述测试结构从已经校准的和/或安装的光敏系统(在校准之后)的测试结构的评估图像中存储，或者其中叠加同时地或顺序地由相同的成像设备记录的评估图像。

尤其地，第一保持设备的第一保持平面相对于第二保持设备的第二保持平面设置成，使得可置入第一保持设备中的光学装置将电磁射线的光路聚焦在焦平面中，所述光路尤其位于光敏装置中，所述光敏装置可置于第二保持设备中并且将电磁射线朝向至少一个成像装置的射线穿透平面的方向反射。反射的电磁射线穿过至少一个成像装置的射线穿透平面射入到至少一个成像装置中。

设备、装置、单元、元件等于是在如下情况下尤其可运动地设置，即设备、装置、单元、元件等相对于位置固定地设置的装置、位置固定地设置的单元、位置固定地设置的元件等的方位和/或位置在空间上是可变的。设备、装置、单元、元件等在如下情况下尤其位置固定地设置，即设备、装置、单元、元件等的方位和/或位置在空间上是不可变的。设备、装置、单元、元件等在其不可运动时于是尤其位置固定地设置。

成像设备优选地包括两个、三个、四个、五个或六个成像装置。尤其地，成像设备也能够包括多于六个的成像装置。能够优选的是，成像设备尤其包括7、8、9、10、11、12或更多个成像装置。相应的成像装置尤其能够分别包括射线穿透平面和光学轴线。至少一个成像装置的光学轴线优选正交于射线穿透平面设置。能够优选的是，至少一个成像装置的第一部分对准待制造的第一光敏系统，并且至少一个成像装置的第二部分对准待制造的第二光敏系统。此外能够有利的是，成像设备可移动地构成，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统。

用于制造未激活的光敏系统的设备的特征尤其在于，待检测的评估图像不借助待制造的光敏系统检测。根据第一方面的根据本发明的设备的特征尤其在于，在工作状态中，待制造的未激活的光敏系统、尤其是其光敏装置不连接于一个或多个电接触部，即尤其不被供应电能和不构成用于数据传输。优选地，待制造的未激活的光敏系统在制造期间未激活。这种未激活的光敏系统尤其在其制造期间不被供应电能。此外，这种未激活的光敏系统在其制造期间尤其并不为了数据传输而与电接触部接触。尤其地，在工作状态中，在制造未激活的光敏系统期间，不检测待制造的光敏系统或光敏装置的信号或数据用于制造，例如涉及成像锐度，所述成像锐度用于制造光敏系统，尤其用于光学装置相对于光敏装置的定向。

就此而言，根据本发明的设备优选地不包括用于传输电能和/或作为待制造的光敏系统的数据的电信号的端子。尤其地，设备的特征在于，在设备的工作状态中，不将待制造的光敏系统、尤其是其光敏装置的数据用于光学装置相对于光敏装置的定向。尤其地，根据本发明的设备的特征在于，在设备的工作状态中，第一或第二保持设备构成为，容纳光敏装置，其中光敏装置构成为，在设备的工作状态中反射电磁射线，其中反射的射线通过至少一个成像装置的射线穿透平面射入到至少一个成像装置中并且在那里被检测。

尤其地，用于制造未激活的光敏系统的设备具有如下优点，该设备不要求电接触待制造的未激活的光敏系统。这有利地降低该设备的制造成本和维护成本。此外，为了制造未激活的光敏系统，未激活的光敏系统不连接到电接触部上。这能够明显地降低光敏系统的制造时间。

有利地，尤其取消用于与待制造的光敏系统接触、用于操控和用于运行待制造的光敏系统所需的硬件。这能够引起工艺时间的明显缩短和降低的成本。

尤其地，具有多个成像装置的成像设备能够实现制造具有特别高的成像锐度的光敏系统。此外，成像设备的敏感度能够以特别有利的方式通过穿过待校准的和/或待安装的光学装置的双重射线穿透来正面影响，因为通过电磁射线的反射可能增强成像误差。

尤其地，根据本发明的设备基于发明人的如下构思，光敏系统借助迄今的设备的制造时间受光敏装置的图像速率限制。成像设备的有利的设置基于成像设备的明显更高的图像速率连同明显更高的速度允许检测评估图像和对评估图像的评估。这以特别有利的方式降低待制造的光敏系统的制造时间。

根据第一优选的实施方式，第一保持设备设置在第二保持设备和成像设备之间。尤其地，在所述优选的实施方式中，该设备在用于反射照明法(Auflichtverfahren)的构造处取向。该实施方式的这种优选的设置能够实现特别成本有利地且快速地制造光敏系统。尤其地，该实施方式基于成像设备和待制造的光学装置和光敏装置的简单的待实现的设置。

根据该设备的另一优选的改进方案，至少一个成像装置和第一保持设备沿着光学轴线以第一间距彼此间隔开地设置；并且第一保持设备和第二保持设备沿着光学轴线以第二间距彼此间隔开地设置。如果成像设备包括多个成像装置，那么在第一保持设备和相应的成像装置之间的第一间距能够改变。能够优选的是，在第一保持设备和相应的成像装置之间的第一间距是相同的。第三间距尤其是成像模块的焦距。间距尤其是在成像模块的主平面和第一焦平面之间的间距。

渐晕效应尤其限制第一间距的最大值。优选地，第三间距相对于第二间距的比值至少为1:1并且最大为100:1。尤其地，第三间距相对于第二间距的比值能够至少为0.5:1。此外，第三间距相对于第二间距的比值优选在1:1至10:1的数量级中。尤其地，第二间距基本上对应于待制造的光敏系统的光学装置的焦距。尤其地，第一保持设备相对于第二保持设备在执行了校准和/或安装和/或检查之后间隔开，使得光学装置的第三焦平面沿着光学轴线朝着第二保持平面的方向位于光敏装置中，尤其位于第二保持设备的第二保持平面中。优选地，光敏装置具有光敏成像平面，其中光敏装置优选地设置在第二保持设备中，使得第二保持平面处于光敏成像平面中。

根据另一优选的改进方案，第一和/或第二保持设备构成为，容纳两个或更多个光学装置和/或两个或更多个光敏装置，其中优选地，第一保持设备构成为，使两个或更多个光学装置彼此独立地旋转和/或平移运动；和/或优选地，第二保持设备构成为，使两个或更多个光敏装置彼此独立地旋转和/或平移运动。此外，能够优选的是，设备构成为，使成像设备与第一和/或第二保持设备无关地旋转地和/或平移地相对于第一和/或第二保持设备运动。

在所述优选的实施方式中，第一保持设备构成用于，使光学装置彼此独立地旋转地和/或平移地运动。尤其地，第一保持设备对此能够具有两个或更多个保持单元，所述保持单元可彼此独立地旋转和/或平移运动地设置和/或支承和/或驱动。此外，在所述优选的实施方式中，第二保持设备构成用于，使光敏装置彼此独立地旋转地和/或平移地运动。尤其地，第二保持设备能够对此具有两个或更多个保持单元，所述保持单元可彼此独立地旋转和/或平移运动地设置和/或支承和/或驱动。旋转运动包括第一和/或第二保持设备围绕三个独立的轴线(三个旋转自由度)的转动和/或枢转。平移运动包括沿着三个独立的轴线(三个平移自由度)的推动和/或移动。

所述优选的实施方式具有如下优点，两个或更多个光敏系统能够同时地或依次地、即顺序地、独立地和彼此相关地校准和/或安装。

此外要理解的是，成像设备构成为，将两个或更多个待制造的光敏系统、尤其待制造的光敏系统的两个或更多个光敏装置同时地成像。尤其地，具有唯一的成像装置的成像设备构成用于，将两个或更多个待制造的光敏系统、尤其待制造的光敏系统的两个或更多个光敏装置同时地成像。优选地，成像设备、尤其唯一的成像装置作为成像模块的成像元件包括会聚透镜。在此提出，射线源单元首先照亮第一待制造的光敏系统并且随后照亮第二或另外的待制造的光敏系统。此外，优选地能够使用全局照亮单元，尤其射线源单元，并且通过可切换的遮暗单元、尤其转动支承的遮暗单元来单独地照亮分别待制造的光敏系统。此外能够优选的是，经由设置在成像设备之外的射线源，其电磁射线与成像设备的光学轴线同轴地在射线穿透平面和第一保持平面之间被耦合输入，使得其交替地照亮左边的和右边的光敏系统。此外能够优选的是，第一和第二待制造的光敏系统经由光导纤维交替地照亮，所述光导纤维为了照亮待制造的光敏系统优选地设置在第一和第二待制造的光敏系统的光学装置处。

这尤其具有如下优点：借助成像设备，尤其借助唯一的成像装置，能够同时地检测两个或更多个待制造的光敏系统，尤其待制造的光敏系统的两个或更多个光敏装置。此外，这具有如下优点，两个或更多个待制造的光敏系统的评估图像同时地在成像设备中、尤其在唯一的成像装置中能够实体地叠加并且就此而言能够取消在下游的虚拟的叠加。这有利地一方面使安装时间最小化并且使构造的复杂性最小化。

根据另一优选的实施方式，成像设备可移动地构成，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统。优选地，成像设备的一个或多个成像装置可移动地构成。尤其地，成像设备、尤其至少一个成像装置基本上平行于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面可移动。补充地或替选地优选的是，成像设备、尤其至少一个成像装置相对于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面可枢转地设置和/或支承和/或驱动。

此外，根据一个优选的改进方案提出，至少一个成像装置的第一部分对准待制造的第一光敏系统，并且至少一个成像装置的第二部分对准待制造的第二光敏系统。至少一个成像装置的第一部分尤其是自由孔径的第一区域、优选第一子区域。至少一个成像装置的第二部分尤其是自由孔径的第二区域、优选第二子区域。尤其地，自由孔径是至少一个成像装置的成像模块和/或成像元件、优选会聚透镜的自由孔径。

根据另一优选的实施方式，成像设备具有两个成像装置，其中这两个成像装置设置成，使得其光学轴线彼此平行地伸展，其中这两个成像装置中的一个成像装置对准待制造的光敏系统，并且这两个成像装置中的另一成像装置对准另一待制造的光敏系统。

借助所述优选的实施方式，能够优选地将两个待制造的光敏系统相对于其自身校准。尤其地，校准能够同时地进行并且就此而言不必顺序地进行。这具有如下优点，对于制造多个光敏系统能够节约制造时间。对于校准多个光敏系统，在成像设备中叠加和比较评估图像。

根据该设备的另一优选的改进方案，第一保持设备的第一保持平面相对于至少一个成像装置中的至少一个成像装置的射线穿透平面基本上平行地和/或相对于至少一个成像装置中的至少一个另外的成像装置的射线穿透平面不平行间隔开地设置。尤其地，至少一个、尤其唯一的至少一个成像装置设置成，使得其光学轴线与第一和/或第二设备轴线平行地、尤其同心地定向。此外优选的是，至少一个成像装置中的至少一个成像装置设置成，使得其光学轴线相对于第一和/或第二设备轴线成角度地设置。尤其地，至少一个成像装置设置成，使得其光学轴线在工作状态中在中央延伸穿过在第一和/或第二保持设备中设置的光学装置。尤其地，至少一个成像装置设置成，使得其光学轴线在工作状态中与设置的光学装置中的第一和/或第二设备轴线相交。

优选地，唯一的成像装置以射线穿透平面基本上平行于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面定向地设置。尤其地，其光学轴线基本上与第一和/或第二设备轴线同心地定向。这种设置尤其适合于相对于光敏装置沿着唯一的成像装置的光学轴线平移地校准光学装置。此外能够优选的是，成像设备具有一个或多个成像装置，其射线穿透平面分别基本上与第一和/或第二保持平面成角度地定向地设置。这种优选的设置尤其适合于相对于光敏装置旋转地校准光学装置。优选地，相对于第一和/或第二保持设备成角度地设置的成像装置尤其关于第一和/或第二保持平面以至少0°和最大90°的角度设置。尤其地，相对于第一和/或第二保持平面成角度地定向地设置的成像装置具有距第一和/或第二保持设备基本上相同的间距。此外优选的是，相对于第一和/或第二保持平面成角度定向地设置的成像装置设置在圆形轨道上。圆形轨道能够具有恒定的或改变的曲率。尤其地，圆形轨道是椭圆形。优选地，在圆形轨道上设置的成像装置基本上以基本上相同的间距彼此间隔开。尤其地，在圆形轨道上设置的成像装置关于圆形轨道的中点以30°、45°、60°、90°或120°的角度相对于彼此设置。其他角度也能够是优选的。尤其地，角度与待制造的光敏系统相关。优选地，角度与开度角、即待制造的光敏系统的光学装置的数值孔径和光敏系统的光敏装置的几何形状以及校准标记的位置相关。

根据设备的进一步优选的实施方式，至少一个成像设备包括：成像模块，在所述成像模块中设置有射线穿透平面并且所述成像模块具有光学轴线，其中成像模块构成为，朝向第二保持平面的方向沿着光学轴线在无穷远处或在有限远处以第二焦距成像在第二焦平面中，并且沿相反的方向在无穷远处或在有限远处以第一焦距成像在第一焦平面中；和/或射线源单元，所述射线源单元提供用于产生和检测评估图像的电磁射线；和/或分束器单元，所述分束器单元将射线源单元的电磁射线的至少一部分朝向待制造的光敏系统的方向偏转；和/或图像检测单元，所述图像检测单元构成为，检测待制造的光敏系统的评估图像，其中图像检测单元为了检测待制造的光敏系统的评估图像设置在成像模块的第一焦平面中；和/或漫散射器单元，用于散射射线源单元的电磁射线；和/或过滤器单元，用于过滤具有应过滤的波长的电磁射线；和/或测试结构设备，用于在待制造的光敏系统的光敏装置上产生测试结构，所述测试结构由光敏装置反射并且作为评估图像在成像设备中检测和评估。这尤其具有如下优点，能够制造具有光敏装置的光敏系统，其具有小的对比度和/或镜反射的表面。尤其地，这种优选的实施方式对于信号处理会是优选的。

成像模块能够包括一个或多个成像元件。成像元件能够是透镜。尤其地，透镜能够是球面的和/或非球面的和/或自由成型的透镜。例如，作为球面透镜已知的是会聚透镜、半月板和散射透镜。优选的会聚透镜例如是双凸形的、平凸形的或凹凸形的透镜。优选的散射透镜例如是凸凹形的、平凹形的或双凹形的透镜。优选地，成像模块包括会聚透镜。尤其地，成像模块构成为，将射线源单元的电磁射线转换成平行的电磁射线束并且将作为物镜的光敏装置的被反射的电磁射线在第一焦平面中聚束，以检测评估图像。优选地，成像模块包括固定焦距物镜。

分束器单元能够优选地是玻璃盘。玻璃盘例如能够相对于光学轴线以45°的角度被引入。分束器构成为，将电磁射线的一部分在玻璃盘处反射，其中其余部分穿透玻璃盘。通过将适合的部分反射的覆层施加到玻璃盘上，电磁射线能够优选地分配成相同强度的两个电磁射线。这种分束器单元也作为半透镜已知。此外，分束器单元优选地包括楔形棱镜、薄膜、双棱镜和/或五棱镜。

射线源单元优选地是基本上点状的光源。优选地，射线源单元是LED、光导纤维或白炽灯丝。特别优选地，射线源单元产生单色的电磁射线。尤其地，射线源单元是可见光的光源。射线源单元尤其构成为，将电磁射线经由成像设备的分束器耦合输入到光路中。尤其地，耦合输入的电磁射线经由射线穿透平面从成像设备射出并且由光敏装置反射地经由射线穿透平面再次射入到成像设备中。

漫散射器单元构成为，控制电磁射线。尤其地，漫散射器单元构成为，将待制造的光敏系统均匀地照亮。优选地，漫散射器单元设置在焦平面B1中。尤其地，该设备能够对漫散射器单元补充地和/或替选地具有狭缝结构化的盘。

过滤器单元构成为，过滤特定的波长的电磁射线。尤其地，过滤器单元优选构成为，仅在窄带的波长范围中不过滤电磁射线。窄带的波长范围优选地位于至少10nm、20nm、50nm、100nm或200nm和最大10nm、20nm、50nm、100nm或200nm之间。尤其地，过滤器单元构成为，过滤长波的电磁射线。尤其地，过滤器单元构成为，不过滤具有在紫外范围中和更小范围中的波长的电磁射线。仅不过滤在窄带的波长范围中的电磁射线的这种过滤器单元和/或不过滤具有在紫外范围中和更小范围中的波长的电磁射线的过滤器单元能够实现以明显更高的成像锐度对评估图像成像。尤其地，借助这种过滤器单元，能够以明显更高的成像锐度对光敏装置或测试结构的结构成像、检测和/或评估。过滤器单元尤其设置在射线源单元和分束器单元之间。补充地或替选地，过滤器单元尤其能够设置在分束器单元和图像检测单元之间。

由测试结构设备产生的测试结构尤其是测试图像。测试结构设备将测试结构耦合输入到电磁射线的光路中。测试结构设备尤其构成为，产生测试结构，所述测试结构将待制造的光敏系统的光学装置成像在待制造的光敏系统的光敏装置上。优选地，测试结构设备设置在射线源单元和分束器单元之间。优选地，测试结构设备设置在焦平面B1中。尤其地，测试结构设备能够设置在成像模块的焦平面中。优选地，在测试结构设备和射线源单元之间设置有漫散射器单元。尤其地，漫散射器单元和测试结构设备在成像模块的第一焦平面中朝向射线源单元的一侧设置在射线分配器之后。尤其地，测试结构设备可以构成在漫散射器单元的表面上，所述漫散射器单元优选在成像模块的第一焦平面中朝向射线源单元的一侧处于分束器之后。优选地，测试结构设备沿着电磁射线设置在漫散射器单元旁边。

优选地，光源单元和/或图像检测单元和/或分束器单元包括测试结构设备。此外能够优选的是，测试结构设备是与成像设备单独的设备。这尤其对于待制造的光敏系统而言会是相关的，所述光敏系统是投影光敏系统。

根据该设备的进一步优选的实施方式，成像设备包括：准直器，优选地可聚焦的准直器，和尤其自动准直器。这种优选的实施方式尤其基于用于成像设备的常见的构造。就此而言，所述优选的实施方式是特别成本有利的且可简单操作。

在另一优选的改进方案中，图像检测单元包括：相机，用于检测相应的至少一个成像装置的由待制造的光电学系统产生的评估图像；和/或尤其功率电子模块，用于处理和传输由图像检测单元检测的相应的评估图像；和/或尤其图像传感器，用于检测由待制造的光电学系统产生的相应的评估图像。

相机尤其包括图像传感器，所述图像传感器设置在成像平面中。图像传感器尤其是芯片。相机尤其设置成，使得成像平面正交于光学轴线定向地设置。此外，相机能够设置成，使得成像平面基本上不正交于第一和/或第二设备轴线设置。

尤其地，图像检测单元相对于成像模块位置固定地设置。优选地，相机相对于成像模块设置成，使得成像平面以第一焦距与成像模块间隔开地设置。尤其地，相机相对于成像模块设置成，使得成像模块的第一焦平面位于相机的成像平面中。优选地，图像传感器相对于成像模块设置成，使得成像平面以第一焦距与成像模块间隔开地设置。尤其地，图像传感器相对于成像模块设置成，使得成像模块的第一焦平面处于图像传感器的成像平面中。

此外优选地，图像检测单元和成像模块相对于第二保持设备位置固定地设置。在所述优选的实施方案中，待制造的光敏系统能够通过调整第一保持设备来制造，尤其校准和/或安装和/或检查。

所述优选的实施方案尤其具有如下优点，制造光敏系统，尤其校准光敏系统，而不将光敏系统的光敏装置连接到电能供应装置和/或用于信号传输的控制装置上。

功率电子模块尤其能够构成为，检测待制造的光敏系统的光敏装置的待检测的评估图像。优选地，功率电子模块构成为，评估检测的评估图像。尤其地，功率电子模块构成为，确定检测的评估图像的成像锐度。此外，功率电子模块尤其构成为，生成用于相对于第二保持设备定向第一保持设备的信号。用于定向的信号尤其根据分别检测的评估图像生成。用于定向的信号尤其是调节信号。评估检测的评估图像尤其包括评估成像锐度。评估优选是调制传递功能。功率电子模块为了评估待检测的评估图像优选地包括专用集成电路(ASIC)和/或现场可编程门阵列(FPGA)和/或微控制器(PIC)。尤其地，功率电子模块构成为，根据评估为调节设备提供调节信号，用于调整第一和/或第二保持设备相对于至少一个成像装置的射线穿透平面的方位和/或位置。

尤其地，功率电子模块构成为，确定第一测试结构和第二测试结构的位置之间的差。第一测试结构的位置从光敏系统的同时检测的和/或存储的评估图像中在校准之后得出。第二测试结构从尚待制造的另外的光敏系统的检测的第二评估图像中得出。尤其地，评估图像的评估也包括评估在第一和第二测试结构的位置之间的差。尤其地，评估也包括在检测的评估图像的真实的和/或虚拟的测试结构之间形成矢量差。

要理解的是，功率电子模块在本申请的上下文中尤其涉及快速的信号处理和生成调节和调控信号，用于更快地执行校准。类似的功率电子模块例如是镜反射相机的自动聚焦单元。功率电子模块尤其能够实现快速地执行测量、调控和控制过程。

功率电子模块优选地以信号技术的方式与相机和/或调节设备连接，用于调整第一和/或第二保持设备相对于至少一个成像装置的射线穿透平面的方位和/或位置。尤其地，功率电子模块能够集成在相机中。

尤其地，图像检测单元能够包括自动聚焦功能模块，所述自动聚焦功能模块构成用于评估所检测的评估图像并且根据评估为调节设备提供调节信号，以调整第一和/或第二保持设备相对于至少一个成像装置的射线穿透平面的方位和/或位置。

根据另一优选的实施方式，根据本发明的设备包括调节设备，用于调整第一保持设备的第一保持平面和/或第二保持设备的第二保持平面相对于至少一个成像装置的射线穿透平面的方位和/或位置，其中调节设备优选具有驱动设备。尤其地，驱动设备包括至少一个压电驱动器和/或电磁驱动器和/或并联运动学。

调节设备构成为，将第一和第二保持设备相对于彼此的方位和位置设定。尤其地，调节设备构成为，相对于位置固定地设置的第二保持设备设定可运动地设置的第一保持设备的方位和位置。此外，调节设备优选地构成为，相对于可运动地设置的第二保持设备设定位置固定地设置的第一保持设备的方位和位置。此外能够优选的是，调节设备构成为，相对于可运动地设置的第二保持设备设定可运动地设置的第一保持设备的方位和位置。尤其能够优选的是，第一保持设备可平移运动地设置，并且第二保持设备可旋转运动地设置，或者反之亦然。尤其地，调节设备与分别可运动地设置的保持设备连接。

在该设备的工作状态中，调节设备尤其构成为，设定在第一保持设备中保持的光学装置和在第二保持设备中保持的光敏装置相对于彼此的方位和位置。优选地，第二保持设备在工作状态中相对于成像设备位置固定地设置，并且第一保持设备相对于成像设备和第二保持设备可运动地设置。在所述优选的设置中，调节设备构成为，通过移动第一保持设备设定第一保持设备相对于第二保持设备的方位和位置。

调节设备优选地具有一个或多个轴线。一个或多个轴线能够堆叠地设置。尤其地，一个或多个轴线是线性轴线和/或测角轴线。一个或多个轴线优选分别彼此正交地定向。尤其地，调节设备能够具有或者是并联运动学，其能够实现移动、尤其自由移动枢转点。尤其地，调节设备能够是或包括并联运动学。尤其地，并联运动学是六腿并联机构(Hexapod)。

优选地，调节设备还构成为，将第一和/或第二保持设备位置固定地保持在位置和方位中，尤其是如下位置和方位，在所述位置和方位中，光学装置相对于光敏装置定向，使得光敏装置借助具有要求的成像质量的评估图像被成像。尤其地，调节设备构成为，保持多个光学装置和/或光敏装置，以检测一个或多个评估图像。

在所述优选的实施方式中，光敏系统能够以特别适合的方式快速地、准确地和成本示意地制造。

在另一优选的改进方案中，该设备包括：支承设备，所述支承设备构成为，在工作状态中将第一保持设备和/或第二保持设备相对于成像设备平移地和/或旋转地支承；和/或驱动设备，所述驱动设备构成为，在工作状态中将第一保持设备和/或第二保持设备平移地和/或旋转地驱动。

优选地，支承设备构成为，将第一保持设备和/或第二保持设备相对于成像设备可平移和/或旋转运动地支承。尤其地，支承设备和/或驱动设备构成为，将保持设备沿着一个、两个或三个线性轴线平移地支承和/或运动和/或旋转地围绕一个、两个或三个线性轴线支承和/或运动。优选地，两个或三个线性轴线彼此正交定向地设置。尤其地，支承设备和/或驱动设备构成为，使得支承设备和/或驱动设备具有多达六个的自由度。支承设备和/或驱动设备也能够具有多于六个的自由度。

尤其地，支承设备和/或驱动设备构成用于，将两个或更多个在第一和/或第二保持设备中设置的光学装置和/或光敏装置彼此独立地平移地和/或旋转地支承和/或驱动。

根据另一优选的实施方式，根据本发明的设备还包括接合设备，所述接合设备构成为，将光敏装置和光学装置彼此连接，尤其彼此接合地连接。接合设备尤其构成为在光学装置和光敏装置之间建立熔焊的、钎焊的和/或粘接的连接。尤其地，接合设备构成用于UV粘接。优选地，接合设备包括UV粘接单元。

在另一优选的改进方案中，该设备包括：评估设备，用于评估至少一个成像装置的检测的评估图像，其中评估设备优选地与成像设备、尤其图像检测单元和/或调节设备和/或接合设备以信号技术的方式耦联；和/或尤其功率电子模块，用于处理和传输由相应的图像检测单元检测的评估图像；和/或尤其控制单元，用于根据对检测的相应的评估图像评估的结果来控制调节设备和/或用于控制接合设备；其中控制单元尤其包括自动聚焦功能模块，用于在工作状态中自动聚焦所述设备。

评估单元优选地构成为执行如下步骤：检测相应的评估图像；和/或评估相应的评估图像；和/或根据评估相应的评估图像的结果求取用于控制第一和/或第二保持设备的一个或多个调节信号；和/或提供一个或多个用于操控的调节信号。尤其地，评估相应的评估图像包括评估相应的评估图像的成像锐度。评估成像锐度尤其包括将评估图像变换到频域中和分析评估图像的频域。尤其地，成像锐度的变换借助傅里叶变换进行。

尤其地，评估单元构成为，评估待制造的光敏系统的由成像设备检测的评估图像，并且尤其探测在光敏装置之外或在光敏装置的边缘区域中的校准标记并且推导出调节指令。尤其地，评估单元构成为，执行产生照亮的步骤。

尤其地，功率电子模块构成用于评估相应的评估图像。尤其地，功率电子模块包括之前描述的优选地包括图像检测单元的功率电子模块的特征、功能和其他特性。能够优选的是，不仅图像检测单元而且评估单元具有功率电子模块。

尤其地，控制单元构成为，确定用于控制第一和/或第二保持设备的调节设备的一个或多个调节信号和/或以信号技术的方式提供给调节设备，尤其驱动设备。

数据评估单元是或包括数字数据处理单元，例如个人计算机、工作站、实时机器控制装置和/或电子电路。

根据本发明的第二方面，所述目的根据权利要求13来实现。

根据本发明的第二方面，用于制造光敏系统、尤其用于制造尤其用于投影和/或成像光电学系统的未激活的光敏系统、光电学和/或光电子系统的方法优选地包括如下步骤：提供根据本发明的第一方面和/或其优选的实施方式的设备；和/或将光敏装置提供和设置在第二保持设备中，尤其将两个或更多个光敏装置提供和设置在第二保持设备中；和/或将光学装置提供和设置在第一保持设备中，尤其将两个或更多个光学装置提供和设置在第一保持设备中。

在第一优选的实施方式中，用于制造光敏系统的方法尤其包括以下步骤：相对于光敏装置校准光学装置；和/或安装相对于光敏装置校准的光学装置；和/或检查相对于光敏装置安装的光学装置。

校准的步骤尤其包括如下步骤：提供电磁射线，以在各至少一个成像装置中成像待制造的光敏系统的评估图像；和/或在各至少一个成像装置中成像待制造的光敏系统的评估图像；和/或在各至少一个成像装置中检测评估图像；和/或评估分别检测的评估图像；和/或根据对分别检测的评估图像的评估，调整第一保持设备连同在其中设置的光学装置和/或第二保持设备连同在其中设置的光敏装置。要理解的是，校准的步骤尤其迭代地经历。

所述方法尤其包括如下步骤：确定至少一个成像装置的检测的评估图像的成像品质，尤其成像锐度。

对评估图像的评估尤其包括评估由相应的成像装置检测的评估图像的成像锐度。对成像锐度的评估尤其通过分析借助相应的成像装置检测的评估图像的成像锐度的调制传递函数进行。此外，评估优选地包括辨识和/或检测光敏装置的边缘区域。辨识尤其包括根据对评估图像的评估识别光敏装置的直接周围中的一个或多个棱边或者校准标记。

尤其地，借助具有带有两个或更多个成像装置的成像设备的设备进行评估，其中第一成像装置相对于第一和/或第二保持设备定向成，使得射线穿透平面基本上平行于第一和/或第二保持平面设置，并且另一成像装置相对于第一和/或第二保持设备定向成，使得其相应的射线穿透平面相对于第一和/或第二保持平面成角度地设置，所述评估包括：通过分析借助第一成像装置检测的评估图像的成像锐度的调制传递函数来评估成像锐度，以确定用于沿着一个或多个轴线平移地调整第一和/或第二保持设备的一个或多个调节信号；和/或通过分析借助另外的成像装置检测的评估图像的成像锐度的调制传递函数来评估成像锐度，以确定用于围绕一个或多个轴线旋转调整第一和/或第二保持设备的一个或多个调节信号。

调整第一保持设备连同在其中设置的光学装置和/或第二保持设备连同在其中设置的光敏装置尤其根据对分别检测的评估图像的特定的成像锐度的评估进行。尤其地，调整第一和/或第二保持设备能够与对多个评估图像的评估相关，所述评估图像已由多个成像装置检测。尤其地，调整第一和/或第二保持设备平移地沿着一个或多个轴线和/或旋转地围绕一个或多个轴线进行。

优选地，调整第一和/或第二保持设备的步骤多步地进行。尤其地，能够沿着一个或多个平移轴线调整第一或第二保持设备。此外，调整第一和/或第二保持设备能够围绕一个或多个轴线旋转地进行。

调整尤其能够根据唯一的评估图像的成像品质或根据多个评估图像的相应的成像品质进行。尤其地，旋转地调整第一和/或第二保持设备的步骤根据光敏装置的边缘区域中的检测的评估图像的成像锐度进行。优选地，平移调整的步骤沿正交于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二设备轴线的两个空间方向、尤其根据检测的评估图像、优选根据一个或多个参考标记的位置进行，所述参考标记不设置在光敏装置和/或光学装置或光敏装置的一个或多个棱边上。尤其地，旋转地调整第一和/或第二保持设备的步骤尤其根据对检测的评估图像、尤其成像装置的、光敏装置的边缘区域的检测的评估图像的待制造的光学系统的边缘区域中的成像锐度进行，所述成像装置的射线穿透平面不平行于第一和/或第二保持平面定向。从光敏装置的边缘区域中的评估图像的成像品质的差得出用于旋转地调整第一和/或第二保持设备的调节信号。尤其借助优选地直接在光敏装置旁边设置的校准标记，待制造的光敏系统的光学装置和光敏装置能够沿平移方向相对于彼此校准。补充地或替选地能够优选的是，对此使用光敏装置的棱边。对此，其位置和/或方位优选地通过评估分别检测的评估图像借助评估单元评估并且计算和执行修正运动。修正运动能够通过平移和/或旋转运动进行。修正运动能够包括多个平移和/或多个旋转运动的叠加。

安装的步骤优选地包括将光学装置与光敏装置连接、尤其接合的步骤。连接的步骤尤其包括材料配合的和/或力配合的和/或形状配合的连接。优选地，连接的步骤包括粘接和硬化，尤其UV硬化。

检查的步骤优选地包括如下步骤：提供电磁射线，用于在分别至少一个成像装置中成像待制造的光敏系统的评估图像；和/或在分别至少一个成像装置中成像经校准的和/或安装的光敏系统的评估图像；和/或在分别至少一个成像装置中检测评估图像；和/或评估分别检测的评估图像。

此外优选的是，用于制造光敏系统的方法包括移动成像设备，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统。移动成像设备尤其是基本上平行于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面移动成像设备。此外能够优选的是，移动成像设备尤其是基本上正交于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面移动成像设备。尤其地，移动成像设备是相对于第一和/或第二保持设备的第一和/或第二保持平面平移地和/或旋转地移动成像设备。

在另一优选的实施方式中，在至少一个成像装置中检测评估图像包括如下步骤：相对于成像设备和/或光敏装置将光学装置设置在无穷远处；和/或相对于成像设备和/或光敏装置在期望位置和/或期望方位设置光学装置。尤其地，光学装置能够相对于成像设备和/或光敏装置在期望位置和/或期望方位通过设定一个或多个偏移值来设置。

在一个此外优选的改进方案中，评估分别检测的评估图像包括如下步骤：确定检测的评估图像的频率特性；和/或将检测的评估图像与已经根据在上文中描述的方法校准和/或安装的光敏系统的检测的评估图像比较，其中尤其地，评估图像同时地或顺序地在分别至少一个成像装置中检测；其中尤其地，比较同时检测的评估图像基于在分别至少一个成像装置中的实体叠加；和/或尤其地，比较同时地或顺序地检测的评估图像基于在分别至少一个成像装置中的虚拟的叠加；和/或将检测的评估图像和/或检测的评估图像的确定的频率特性与期望的期望状态比较；和/或根据如下情况产生用于调整第一和/或第二保持设备的调节信号：即根据检测的评估图像与已经根据在上文中描述的方法校准和/或安装的光敏系统的检测的评估图像的比较，和/或检测的频率特性的比较和/或确定的偏移的比较，和/或根据检测的评估图像与期望的期望状态的比较，只要检测的评估图像不对应于期望的期望状态；和/或根据检测的评估图像的确定的频率特性与期望的期望状态的比较，只要检测的评估图像的频率特性不对应于期望的期望状态。

尤其要理解的是，用于制造的方法迭代地历经，直至检测的评估图像和/或检测的评估图像的确定的频率特性对应于期望的期望状态。优选地，当检测的评估图像和/或检测的评估图像的确定的频率特性对应于期望的期望状态时，光敏系统的校准方法结束。如果检测的评估图像和/或检测的评估图像的确定的频率特性不对应于期望的期望状态，尤其优选的是，用于校准光敏系统的步骤重新地或重复地历经。就此而言，用于校准光敏系统的方法尤其理解成用于校准光敏系统的迭代方法。

期望的期望状态尤其是光学装置相对于待制造的、尤其待校准的光敏系统的光敏装置的期望地设置。优选地，期望的期望状态是借助待制造的光敏系统、尤其待校准的光敏系统要实现的期望的频率特性和/或期望的成像锐度。优选地，期望的期望状态是具有期望状态上限和与其不同的期望状态下限的期望的期望状态范围。尤其地，当检测的评估图像和/或检测的评估图像的频率特性处于期望的期望状态范围之内、尤其处于期望状态上限和期望状态下限之间时，检测的评估图像和/或检测的评估图像的频率特性对应于期望的期望状态。

所述优选的实施方式尤其包括模拟的步骤，以确定一个或多个偏移值。一个或多个偏移值尤其在开始制造光敏系统之前确定，例如通过光学设计师。特别有利地，在所述优选的实施方式中，根据在上文中描述的优选的实施方式的检查是可有可无的。期望位置和/或期望方位尤其是第一保持设备相对于第二保持设备和/或相对于至少一个成像装置的如下位置和/或方位，在所述位置和/或方位中，在相应的至少一个成像装置中的评估图像的成像锐度是最大的。

根据另一优选的实施方式，该方法的特征在于，待制造的光敏系统的光敏装置在校准和/或安装和/或检查期间是未激活的。

根据本发明的第三方面，所述目的根据权利要求17来实现。

本发明的第三方面涉及根据在上文中描述的实施方式之一的设备用于制造光敏系统，尤其用于制造尤其用于投影和/或成像光电学系统的未激活的光敏系统、光电学和/或光电子系统的应用。尤其地，包括在上文中描述的优选的实施方式之一中的设备用于校准和/或安装和/或检查光敏系统的应用。此外，在上文中描述的优选的实施方式之一中的设备的应用适合于校准和/或安装和/或检查未激活的光敏系统。

对于本发明的所述其他方面和其改进方案的优点、实施变型形式和实施细节，也参照在上文中对用于制造光敏系统的设备或相应的其他方面的对应的特征的描述。

本发明的实施方式现在在下文中根据附图描述。所述附图不一定要符合比例地示出实施方式，更确切地说，附图在这对于阐述有益时以示意的和/或轻微扭曲的方式构成。关于补充从附图中直接可得知的教导，参照有关的现有技术。在此要考虑的是，能够进行涉及一个实施方式的形式和细节的多种修改和改变，而不脱离本发明的一般构思。本发明的在说明书、附图以及权利要求中公开的特征能够单独地和以任意组合的方式对于本发明的改进方案是重要的。此外，所有由至少两个在说明书、附图和/或权利要求中公开的特征构成的组合落入本发明的范围中。本发明的一般构思不限于在下文中示出的和描述的优选的实施方式的详细的形式或细节或者不限于与在权利要求中要求保护的主题相比受限的主题。在给出的测定范围中，位于提到的边界之内的值也应作为边界值公开并且可任意使用和可要求保护。出于简单性，在下文中对于相同的或相似的部分或具有相同的或相似的功能的部分使用相同的附图标记。

附图说明

本发明的其他优点、特征和细节从下面对优选的实施方式的描述中以及根据附图得出；所述附图示出：

图1示出用于制造光敏系统的设备的一个优选的实施方式的侧视图的示意图；

图1a示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图1b示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图1c-e示出用于交替地照亮两个待制造的光敏系统的不同的优选的实施方式的示意图；

图1f示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图2示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图3示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图4示出用于制造光敏系统的设备的另一优选的实施方式的侧视图的示意图；

图5示出根据图4的用于制造光敏系统的设备的优选的实施方式的俯视图的示意图；

图6示出待制造的光敏系统的光敏装置的俯视图的示意图；

图7示出用于制造光敏系统的第一优选的方法的示意流程图；

图8示出用于制造光敏系统的另一优选的方法的示意流程图。

具体实施方式

图1示出用于制造光敏系统10的设备1的一个优选的实施方式的侧视图的示意图。示意地示出的设备1包括成像设备2和第一和第二保持设备3a、3b。成像设备2在该优选的实施方式中包括唯一的成像装置20。所述成像装置20具有射线穿透平面SE，光学轴线O相对于所述射线穿透平面基本上正交地定向地设置。第一和第二保持设备3a、3b分别具有第一和第二保持平面Ha、Hb，所述第一和第二保持平面基本上平行于射线穿透平面SE定向。尤其地，具有第一保持平面Ha的第一保持设备3a以第一间距A1与射线穿透平面SE间隔开地设置。具有第二保持平面Hb的第二保持设备3b以第二间距A2与第一保持平面Ha间隔开地设置。

图1示出工作状态中的设备1。在工作状态中，在相应的保持设备3a、3b中已经设置有待制造的光敏系统10的光敏装置11和光敏系统10的光学装置12。光学装置12在此相对于成像设备2设置在无穷远处并且将光敏装置11成像到无穷远处。光敏装置11和光学装置12在前置的工艺步骤中、在设备1的物流状态中输送给相应的保持设备3a、3b。尤其地，光学装置12和光敏装置在工作状态中为了制造未激活的光敏系统不与一个或多个用于能量供应和/或数据传输的电子接触部接触。在图1中示意地示出的优选的实施方式中，在第一保持设备3a中设置有光学装置12并且在第二保持设备3b中设置有光敏装置11。第一和第二保持设备3a、3b构成为，保持地容纳光学装置12和/或光敏装置11。尤其地，光学装置12和/或光敏装置11在工作状态中力配合地和/或形状配合地设置在相应的保持设备3a、3b中或者由其容纳。例如，相应的保持设备包括夹爪夹具和/或真空夹具，用于将光学装置12或光敏装置11保持在相应的保持设备3a、3b中。

在图1中示意地示出的设备1的成像装置20具有成像模块21，所述成像模块基本上设置在射线穿透平面SE中并且与光学轴线O同心地定向。在所述优选的实施方式中，成像模块21是会聚透镜。在图1中示出的优选的实施方式中，成像模块21构成为，将电磁射线沿着光学轴线O朝向第一或第二保持平面Ha、Hb的方向在无穷远处成像。在背离第一或第二保持平面Ha、Hb的与所述方向相反的方向上，成像模块21构成为，将电磁射线沿着光学轴线O在有限远处在成像模块21的第一焦平面B1中成像。

在当前的实施方式中，待制造的光敏系统10的光学装置12是会聚透镜并且待制造的光敏系统10的光敏装置11是在承载件上设置的图像传感器。第一和第二保持设备3a、3b尤其构成为，使得在工作状态中在相应的保持设备3a、3b中设置的会聚透镜11和图像传感器12基本上在相应的保持平面Ha、Hb中保持地设置。会聚透镜尤其构成为，将从成像装置20射出的电磁射线朝向第二保持平面Hb的方向在第三焦平面B3中聚焦。尤其地，光敏装置11的图像传感器在第二保持平面Hb中定向地设置。优选地，在用于制造光敏系统的工作状态中，第一保持设备3a连同在其中设置的会聚透镜12和第二保持设备3b连同在其中设置的光敏装置12相对于彼此定向成，使得第二间距A2基本上对应于待制造的光敏系统10的会聚透镜12的焦距，即会聚透镜12的第三焦平面B3处于第二保持平面Hb中的光敏装置11的图像传感器中。

在图1中示意地示出的成像装置20构成为，产生电磁射线。电磁射线通过在射线穿透平面SE中设置的成像模块21离开成像装置20。成像装置20的成像模块21构成为，将电磁射线成像在无穷远处。成像装置20此外构成为，将由光敏装置11的图像传感器反射的且由会聚透镜12朝向射线穿透平面SE的方向聚焦在无穷远处的电磁射线聚焦在第一焦平面B1中以借助成像模块21成像评估图像并且检测评估图像。根据检测的评估图像的成像品质，在工作状态中，将第一保持设备3a连同在那里设置的会聚透镜12相对于第二保持设备3b连同在那里设置的光敏装置11的图像传感器在方位和位置方面校准。

为了校准，在图1中示意地示出的设备1的第一保持设备3a相对于成像设备2和第二保持设备3b可运动地设置，并且成像设备2和第二保持设备3b位置固定地设置。第一保持设备3a尤其能够平移地沿着光学轴线O和旋转地围绕光学轴线O运动。此外，第一保持设备3a能够沿着两个另外的轴线(未示出)平移地并且围绕其旋转地运动。光学轴线O和两个另外的轴线分别彼此正交地定向。会聚透镜相对于图像传感器的方位和/或位置能够通过第一保持设备3a沿着三个轴线之一的平移运动和/或通过围绕三个轴线之一的旋转运动设定。如果在光敏装置11相对于光学装置12的方位和/或位置中实现期望的成像品质，那么设备1构成为，将第一保持设备3a相对于第二保持设备3b为了安装、即为了将光学装置12与光敏装置11连接在方位和/或位置中位置固定地保持。

图1a至1f示出该设备的优选的实施方式。该设备的在图1a至1f中示出的优选的实施方式基于该设备的在图1中示出的实施方式。在图1a至1f中示出的实施方式与在图1中示出的实施方式不同地具有两个第一保持设备3a和两个第二保持设备3b。在图1a至1f中示出的设备构成用于制造两个光敏系统。

在图1a中示出的设备1具有可移动的成像设备2。成像设备2基本上平行于第一和/或第二保持设备3a、3b的第一和/或第二保持平面Ha、Hb可移动。首先，制造在图1a中在左边示出的光敏系统10。如果已制造左边的光敏系统，成像设备2从左边的位置(连续的线)向右移动到右边的位置(虚线)中，以相对于已经制造的、在图1a中在左边示出的第一光敏系统制造第二光敏系统10。对此，由已经制造的光敏系统10存储的成像虚拟地与尚待制造的光敏系统10的成像叠加并且根据其经由第一和/或第二保持设备3a、3b校准尚待制造的光敏系统。

此外，在图1a中示出的成像设备2、尤其成像设备2的至少一个成像装置20相对于待制造的光敏系统10以轨道的方式枢转。在图1a中在右边的位置中(点状线)示意地示出枢转的成像装置20。

在图1b中示出的设备1构成为，借助成像设备同时地检测两个待制造的光敏系统。可以提出，成像设备2的成像装置20可移动，尤其可枢转。在图1b中示意地对于成像设备2的两个成像装置20中的一个成像装置示出以轨道的方式枢转的位置(点状线)。当然也能够优选的是，成像设备2的第二成像装置20也枢转。在所述优选的实施方式中，首先制造第一光敏系统(在图1b中在左边)并且随后——对此不必如在图1a中示出的实施方式中那样移动成像设备2——将第二待制造的光敏系统(在图1b在右边)成像。对此，至少一个成像装置20的第一部分对准待制造的第一光敏系统并且至少一个成像装置20的第二部分对准待制造的第二光敏系统。至少一个成像装置20的第一和第二部分尤其对应于相应的成像装置20的成像模块21的自由孔径的第一和第二子区域，尤其构成为会聚透镜的成像装置20的自由孔径的第一和第二子区域。

为了根据在图1b中示出的设备1制造光敏系统提出，交替地照亮左边的和右边的光敏系统，并且将左边的已经校准的和/或安装的光敏系统的成像和右边的尚待制造的光敏系统的成像在成像设备中、尤其实体地叠加，并且根据此经由第一和/或第二保持设备3a、3b校准还应校准的和/或应安装的光敏系统。优选地，这种成像设备2的成像装置20作为成像元件21包括会聚透镜。

图1c-1e以具有唯一的成像装置20的成像设备2为例示出不同的优选的实施方案，以便交替地照亮第一(在图中在左边)和第二(在图中在右边)光敏系统。所述照亮构思也可在设备1中应用，该设备的成像设备1具有两个或更多个成像装置20，如这例如在图1b中示意地示出的那样。

图1c示出具有旋转支承的遮暗单元13a的设备1的一个优选的示意的实施方案。旋转支承的遮暗单元13a交替地对左边的和右边的光敏系统遮挡住由射线源单元22(在图1c中未示出)产生的电磁射线。图1d示出设备1的一个优选的示意的实施方案，其中射线源13b设置在成像设备1之外并且其电磁射线z同轴地扫过射线穿透平面SE并且耦合输入第一保持平面Ha，使得其交替地照亮左边的和右边的光敏系统。图1d示出设备1的一个优选的示意的实施方案，其中左边的和右边的光敏系统交替地借助光导纤维13c照亮，其中光优选地在待制造的光敏系统10的光学装置12处耦合输入光导纤维。

图1f示出的设备1构成为，同时地检测两个待制造的光敏系统10。对此，在所述优选的实施方式中示出的设备1的成像设备2具有两个成像装置20。在所述优选的构成方案中，这两个成像装置20相对于彼此基本上平行地设置。尤其地，成像设备2的两个成像装置20设置成，使得这两个成像装置20的光学轴线O基本上彼此平行地定向。在图1c中示出的设备包括两个成像装置20，其光学轴线O基本上正交于第一和/或第二保持平面定向。要理解的是，也能够优选的是，两个成像装置以光学轴线O倾斜地相对于第一和/或第二保持平面Ha、Hb设置。在这两个成像装置20的所述倾斜的定向中，其光学轴线O彼此平行地定向。在图1f中示意地示出成像设备2的枢转的位置(点状线)。

借助在图1f中示出的设备1，尤其能够同时制造两个光敏系统。然而借助具有多于两个的成像装置20和多于两个的第一和第二保持设备3a、3b的设备1，也能够制造多于两个的光敏系统。

对于制造两个或更多个光敏系统提出，检测待制造的光敏系统的图像。对于制造尚待校准的和/或安装的光敏系统，将尚待制造的光敏系统的成像与已经制造的光敏系统的成像虚拟地叠加。尚待校准的和/或安装的光敏系统10、尤其第一和/或第二保持设备相对于已经制造的光敏系统的定向同时地发生。这具有如下优点，取消图像的存储并且节约制造时间。

图2示出用于制造光敏系统的设备1的另一优选的实施方式。设备1的所述优选的实施方式基于设备1的在图1中示意地示出的优选的实施方式，其成像装置20借助成像模块朝向第一或第二保持平面Ha、Hb的方向聚焦在无穷远处。在图2中示意地示出的设备1与在图1中示意地示出的设备1不同地包括具有成像模块21的成像装置20，所述成像模块朝向第一或第二保持平面Ha、Hb的方向在有限远处在第二焦平面B2中聚焦在有限远处。在图2中示意地示出的设备1尤其适合于制造光敏系统，所述光敏系统具有光学装置12，所述光学装置在工作状态中设置在第一保持设备中，所述第一保持设备将由光敏装置11反射的电磁射线朝向射线穿透平面SE的方向聚焦在焦平面中。在所述设备1中，第一保持设备3a连同在工作状态中在其中设置的光学装置12相对于成像装置设置成，使得光学装置的焦平面朝向射线穿透平面SE的方向对应于第二焦平面B2。此外，在图2中示意地示出的优选的实施方式具有测试结构设备25。这种实施方式尤其适合于制造光敏系统10，所述光敏系统包括低对比度的或镜反射的光敏装置11。通常，在示出的优选的实施方式中，电磁射线优选地分配用于照亮和借助测试结构设备的工作(未示出)。

设备1的在图3中示意地示出的另外的优选的实施方式包括成像设备2，第一和第二保持设备3a、3b，调节设备4，评估设备5，支承设备6和接合设备7。

在图3中示意地示出的用于制造光敏系统10的设备1的优选的实施方式包括成像设备2，所述成像设备具有两个相同的成像装置20。第一成像装置20根据设备1的在图1中示意地示出的优选的实施方式的成像装置20设置。尤其地，第一和第二保持设备3a、3b借助第一和第二保持平面Ha、Hb根据在图1中示意地示出的优选的实施方式设置。成像设备2的第二成像装置20相对于第一成像装置20、尤其相对于相应的保持设备3a、3b的第一和/或第二保持平面Ha、Hb成角度地设置。这两个成像装置20包括成像模块21、射线源单元22、分束器单元23和图像检测单元24。图像检测单元24包括相机24a、功率电子装置24b和图像传感器24c。

射线源单元22在所述优选的实施方式中是可见光的电磁射线的点状的射线源。射线源单元22在一个优选的实施方式中也能够发射不可见的光。由射线源单元22产生的电磁射线在工作状态中射到分束器单元23上。在分束器23和射线源单元22之间设置有用于散射电磁射线的漫散射器单元26。分束器单元23设置在成像模块21和图像检测单元24之间。分束器单元23将电磁射线的一部分朝向成像模块21的方向偏转。由射线源单元22产生的并且由分束器单元23偏转的电磁射线穿过在射线穿透平面SE设置的成像模块21从成像装置20射出。成像模块21在设备1的当前的优选的实施方式中构成为，将从成像装置中射出的电磁射线聚焦在无穷远处。待制造的光敏系统的光学装置12将在无穷远处聚焦的电磁射线聚焦在光敏装置上，如针对设备1的在图1中示意地示出的优选的实施方式在上文中描述的那样。

成像装置20的成像模块21此外构成为，将在工作状态中由光敏装置12反射的电磁射线聚焦在第一焦平面B1中。在设备1的在图2中示意地示出的优选的实施方式中，成像装置的图像检测单元24设置成，使得图像检测单元24的图像传感器24c相对于成像模块21设置成，使得图像检测单元24的图像传感器24c处于成像模块21的第一焦平面B1中。图像检测单元24的图像传感器24c检测由光敏装置11反射的电磁射线的评估图像。在分束器单元23和图像检测单元之间设置有过滤器单元27，用于过滤具有特定的波长的电磁射线。尤其优选的是，过滤器单元27能够让短波的电磁射线、尤其仅在窄带的波长范围中朝向图像检测单元的方向通过。这以有利的方式提高相应的评估图像的成像锐度或对比度。功率电子模块24b尤其能够构成为，求取检测的评估图像的成像品质并且根据求取的成像品质提供用于控制调节设备4的一个或多个调节信号。能够优选的是，功率电子模块24b直接地以信号技术的方式与调节设备耦合(未示出)。尤其地，功率电子模块24b能够借助图像检测单元24的常见的自动聚焦功能来求取调节信号并且提供给调节设备4。

设备1的在图3中示意地示出的优选的实施方式具有评估设备5，尤其是集成电子电路5a和控制单元5b。功率电子模块24b构成为，求取检测的评估图像的成像品质并且根据求取的成像品质提供用于控制调节设备4的一个或多个调节信号。控制单元构成为，将一个或多个调节信号传输给以信号技术的方式耦合的调节设备4。调节设备4包括驱动设备4a，所述驱动设备优选地包括一个或多个压电执行器或电磁执行器。其他执行器在该优选的实施方式中补充地或替选地是优选可行的。驱动设备4a根据一个或多个调节信号驱动第一保持设备3a。根据调节信号，改变第一保持设备3a相对于第二保持设备3b的方位和/或位置，直至相对于待制造的光敏系统10的光学装置12校准待制造的光敏系统10的光敏装置11的评估图像，使得求取期望的成像品质。

为了相对于第二保持设备3b校准第一保持设备3a，设备1的在图3中示意地示出的优选的实施方式包括支承设备，所述支承设备构成为，支承第一保持设备3a，使得第一保持设备3a在工作状态中能够将光学装置沿着三个彼此正交定向的轴线平移地和围绕这三个轴线旋转地移动。为了校准，能够优选的是，第一保持设备3a可平移地设定并且第二保持设备可旋转地设定，或者反之亦然。也能够优选的是，两个保持设备3a、3b具有高达6个自由度。

接合设备构成为，安装经校准的光敏系统10。接合设备尤其构成为，在工作状态中将经校准的光敏系统10的光学装置12与经校准的光敏系统10的光敏装置11接合地彼此连接。

设备1的在图4中以侧视图并且在图5中以俯视图示意地示出的优选的实施方式包括具有四个相同的成像装置20的成像设备2。第一成像装置20根据设备1的在图1中示意地示出的优选的实施方式的成像装置20设置。尤其地，具有第一和第二保持平面Ha、Hb的第一和第二保持设备3a、3b根据在图1中示意地示出的优选的实施方式设置。三个常见的成像装置20相对于第一成像装置20成角度地优选设置在圆形的轨道上(图5中的点划线)。

在图6中示出待制造的光敏系统10的光敏装置11的俯视图的示意图。在图6中示出的光敏装置借助根据图4和5的设备1制造。在光敏装置11的俯视图中示意地示出第三焦平面B3，所述第三焦平面分别与在图4和5中示意地示出的设备的成像装置20相关联。相应的第三焦平面B3为四个成像装置20的相应的检测区域，检测所述检测区域以产生相应的评估图像和其评估。分别在检测区域中设置的十字形是校准标记，所述校准标记直接在光敏装置旁边实体引入。

根据图4-6示意地示出的设备1允许相对于光学装置12校准光敏装置11。对此，首先能够正交于在光敏装置11的中央在图6中示出的焦平面B3进行粗校准。在粗聚焦中，在光学装置12和光敏装置11之间的间距被粗略校准。基于三个校准标记，将光敏装置11相对于光学装置12沿着两个轴线平移地彼此定向。随后，能够将光敏装置11围绕两个彼此正交定向的、位于焦平面B3中的轴线定向。对此，优选地，检测在光敏装置11的边缘区域中的成像锐度并且校准光敏装置，即围绕两个所述轴线旋转，直至边缘区域中的成像锐度至少近似，优选地基本上相等。尤其地，在校准时，力求相应的边缘区域的调制传输功能(Modulationsübertragungsfunktion)的对称性。也能够优选的是，两个之前提到的步骤以相反的顺序执行。随后，细校准能够是优选的。在细校准中，在当前的实施例中在四个检测区域中确定模块传输功能(Modulübertragungsfunktion)并且根据优选顺序细校准确定的模块传输功能值。也能够优选的是，在细校准中将光敏装置11相对于光学装置12校准，使得中央的检测区域的成像装置20的成像锐度最大化。但是也能够优选的是，光敏装置11相对于光学装置12细校准，使得一个或多个成像装置20的成像锐度最大化，所述成像装置检测光敏装置11的边缘区域中的一个边缘区域。

图7示出用于制造光敏系统10的方法100的第一优选的实施方式的示意的流程图。方法100的所述优选的实施方式尤其适合于制造未激活的光敏系统10。优选的实施方式包括提供101用于制造光敏系统10的设备1的步骤，例如设备1的在图1至6中示意地示出并且在上文中描述的优选的实施方式之一。方法100的优选的实施方式作为另外的步骤包括提供和将光敏装置12设置102在第二保持设备3b中。作为另外的步骤，方法100的优选的实施方式包括提供和将光敏装置12设置103在第一保持设备3a中。所述优选的实施方式将待制造的光敏系统10的光敏装置11和光学装置12输送给设备1。对此，光敏装置11和光学装置12输送给相应的保持设备3a、3b。在图7中示意地示出的流程图描述设备1的物流状态。

在图8中示意地示出的流程图示出方法100的另一优选的实施方式。方法100的所述优选的实施方式基于方法100的在图7中示出的优选的实施方式。对提供101用于制造光敏系统10的设备1的步骤、提供和将光敏装置12设置102在第二保持设备3b中的步骤、和提供和将光学装置12设置103在第一保持设备3a中的步骤补充地，方法在附图中示意地示出的优选的实施方式中包括相对于光敏装置校准110光学装置和/或安装120相对于光敏装置校准的光学装置的步骤和/或检查130相对于光敏装置安装的光学装置的步骤。

校准110能够包括一个或多个下级方法步骤。校准110的第一优选的下级方法步骤是提供111电磁射线以对待制造的光敏系统10的光敏装置11或测试结构的评估图像成像。校准110的另一可选的下级方法步骤包括：在至少一个成像装置20的射线穿透平面(SE)中对待制造的光敏系统10的光敏装置11的评估图像成像112。此外，校准110能够包括在至少一个成像装置20的射线穿透平面SE中检测113评估图像。尤其地，校准110的方法包括评估114所检测的评估图像。最后，校准110的第五优选的下级方法步骤是根据检测的评估图像的评估来调整115第一保持设备3a连同在其中设置的光学装置12和/或第二保持设备3b连同在其中设置的光敏装置11。优选地，校准110的步骤迭代地历经。

安装120的步骤尤其包括将光学装置12与待制造的光敏系统10的光敏装置11连接的步骤。尤其地，在安装120或校准的步骤中会需要的是，通过偏移考虑在安装的过程中连接部的收缩等，所述偏移补偿收缩。连接部的收缩例如由例如在熔焊或钎焊或粘接时的热量输入造成。这种收缩例如在粘接时在用于粘接的粘接剂从液态到固态的聚集态的相变时出现。

检查130的步骤包括一个或多个可选的下级方法步骤。检查130的步骤尤其包括提供111电磁射线以对待制造的光敏系统10的光敏装置11的评估图像成像。此外，检查130包括在至少一个成像装置20的射线穿透平面SE中对经校准的和/或安装的光敏系统10的光敏装置11的评估图像成像112。此外，检查130能够包括检测113至少一个成像装置20的评估图像。尤其优选的是，检查具有评估114检测的评估图像，作为下级方法步骤。

评估114分别检测的评估图像的步骤尤其包括如下步骤：确定检测的评估图像的频率特性；和/或将所检测的评估图像与已经根据在上文中描述的方法校准和/或安装的光敏系统的所检测的评估图像比较；其中尤其地，评估图像同时地或顺序地在分别至少一个成像装置20中检测；其中尤其地，同时检测的评估图像的比较基于在各至少一个成像装置20中的实体叠加；和/或尤其地，比较同时地或顺序地检测的评估图像基于在各至少一个成像装置20中的虚拟叠加；和/或将检测的评估图像和/或检测的评估图像的特定的频率特性与期望的期望状态比较。

评估114分别检测的评估图像的步骤尤其包括产生用于调整第一和/或第二保持设备的调节信号。产生调节信号尤其根据如下进行：所检测的评估图像与已经根据之前描述的方法校准和/或安装的光敏系统的所检测的评估图像的比较，和/或确定的频率特性的比较，和/或确定的偏移的比较；和/或所检测的评估图像与期望的期望状态的比较，只要所检测的评估图像不对应于期望的期望状态；和/或所检测的评估图像的确定的频率特性与期望的期望状态的比较，只要所检测的评估图像的频率特性不对应于期望的期望状态。

此外能够优选的是，该方法优选地还包括移动成像设备2的步骤(未示出)，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统10。

附图标记列表：

1 用于制造光敏系统的设备

2 成像设备

3a/3b 第一和第二保持设备

4 调节设备

4a 驱动设备

5 评估设备

5a 集成电子电路

5b 控制单元

6 支承设备

7 接合设备

10 光敏系统

11 光敏装置

12 光学装置

13a 遮暗单元

13b 射线源

13c 光导纤维

20 至少一个成像设备

21 成像模块

22 射线源单元

23 分束器单元

24 图像检测单元

24a 相机

24b 功率电子模块

24c 图像传感器

25 测试结构设备

26 漫散射器单元

27 过滤器单元

100 用于制造光敏系统的方法

101 提供用于制造光敏系统的设备

102 提供光敏装置并且将设置在第二保持设备中

103 提供光学装置并且将其设置在第一保持设备中

110 相对于光敏装置校准光学装置

111 提供用于待制造的光敏系统的评估图像的成像的射线

112 在至少一个成像装置的射线穿透平面中将待制造的光敏系统的评估图像成像

113 在至少一个成像装置的射线穿透平面中检测评估图像

114 评估检测的评估图像，和/或

115 根据检测的评估图像的评估来调整第一保持设备和/或第二保持设备

120 安装相对于光敏装置校准的光学装置

121 将光学装置与光敏装置连接、尤其接合

130 检查相对于光敏装置安装的光学装置

A1/A2 第一和第二间距

SE 射线穿透平面

Ha/Hb 第一和第二保持平面

O 光学轴线

Claims (17)

1.一种用于制造光敏系统(10)的设备(1)，所述光敏系统尤其用于投影的和/或成像的光电学系统，所述光敏系统尤其是未激活的光敏系统(10)、光电学和/或光电子系统，其特征在于，设有：

-具有至少一个成像装置(20)的成像设备(2)，其中所述至少一个成像装置(20)具有射线穿透平面(SE)和光学轴线(O)，并且所述至少一个成像装置(20)构成用于，

○产生电磁射线，所述电磁射线沿着光路伸展并且在所述射线穿透平面(SE)中穿过所述成像装置(20)，和

○将在所述光敏装置(11)处反射的电磁射线的评估图像成像在所述成像装置(20)的第一焦平面(B1)中，和

○检测在所述第一焦平面(B1)中成像的评估图像；和

-具有第一保持平面(Ha)的第一保持设备(3a)，用于将待制造的光敏系统(10)的光学装置(12)保持在所述第一保持平面(Ha)中；和

-具有第二保持平面(3b)的第二保持设备(3b)，用于将所述光敏装置(11)保持在所述第二保持平面(Hb)中；其中

-具有所述第一保持平面(Ha)的所述第一保持设备(3a)和/或具有所述第二保持平面(Ha)的所述第二保持设备(3a)相对于所述成像设备(2)可运动地设置。

2.根据上述权利要求1所述的设备，

其特征在于，

所述第一保持设备(3a)设置在所述第二保持设备(3b)和所述成像设备(2)之间。

3.根据上述权利要求1至2中任一项所述的设备，

其中所述第一和/或第二保持设备构成为，容纳两个或更多个光学装置和/或两个或更多个光敏装置，其中

-优选地，所述第一保持设备(3a)构成为，使两个或更多个光学装置(12)彼此独立地旋转和/或平移运动；和/或

-优选地，所述第二保持设备(3b)构成为，使两个或更多个光敏装置(11)彼此独立地旋转和/或平移运动。

4.根据上述权利要求1至3中任一项所述的设备，

其特征在于，

-所述成像设备(2)可移动地构成，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统；和/或

-所述至少一个成像装置的第一部分对准待制造的第一光敏系统，并且所述至少一个成像装置的第二部分对准待制造的第二光敏系统；和/或

-所述成像设备(2)具有两个成像装置(20)，其中这两个成像装置(20)设置成，使得其光学轴线(O)彼此平行地伸展，其中这两个成像装置(20)中的一个成像装置对准一个待制造的光敏系统并且这两个成像装置(20)中的另一个成像装置对准另一个待制造的光敏系统。

5.根据上述权利要求1至4中任一项所述的设备，

其特征在于，

所述第一保持设备(3a)的所述第一保持平面(Ha)相对于所述至少一个成像装置(20)中的至少一个成像装置的射线穿透平面(SE)基本上平行地和/或相对于所述至少一个成像装置(20)中的至少一个另外的成像装置的射线穿透平面(SE)不平行地间隔开地设置。

6.根据上述权利要求1至5中任一项所述的设备，

其特征在于，

所述至少一个成像设备(2)包括：

-成像模块(21)，在所述成像模块中设置有所述射线穿透平面(SE)并且所述成像模块具有光学轴线(O)，其中所述成像模块(21)构成为，○朝向所述第二保持平面(Hb)的方向沿着所述光学轴线在无穷远处或在有限远处以第二焦距成像在第二焦平面(B2)中，和

○沿相反的方向在无穷远处或在有限远处以第一焦距成像在所述第一焦平面中；

和/或

-射线源单元(22)，所述射线源单元提供用于产生和检测所述评估图像的电磁射线；和/或

-分束器单元(23)，所述分束器单元将所述射线源单元(22)的电磁射线的至少一部分朝向待制造的光敏系统(10)的方向偏转；和/或

-图像检测单元(24)，所述图像检测单元构成为，检测待制造的光敏系统(10)的所述评估图像，其中所述图像检测单元(24)为了检测待制造的光敏系统(10)的所述评估图像而设置在所述成像模块(1)的所述第一焦平面中；和/或

-漫散射器单元(26)，用于将所述射线源单元(22)的电磁射线散射；和/或

-过滤器单元(27)，用于过滤具有待过滤的波长的电磁射线；和/或

-测试结构设备(25)，用于在待制造的光敏系统(10)的光敏装置(11)上产生测试结构。

7.根据上述权利要求1至6中任一项所述的设备，

其特征在于，

所述成像设备(2)包括准直器，优选可聚焦的准直器，和尤其自动准直器。

8.根据上述权利要求1至7中任一项所述的设备，

其特征在于，

所述图像检测单元(24)包括：

-相机(24a)，用于检测相应的至少一个成像装置的由待制造的光电学系统(10)产生的评估图像；和/或

-尤其功率电子模块(24b)，用于处理和传输由所述图像检测单元(24)检测的相应的评估图像；和/或

-尤其图像传感器(24c)，用于检测由待制造的光电学系统(10)产生的相应的评估图像。

9.根据上述权利要求1至8中任一项所述的设备，

其特征在于，

设有调节设备(4)，用于调整所述第一保持设备(3a)的所述第一保持平面(Ha)和/或所述第二保持设备(3b)的所述第二保持平面(Hb)相对于所述至少一个成像装置(20)的所述射线穿透平面(SE)的方位和/或位置，其中所述调节设备(4)优选地具有驱动设备(4a)。

10.根据上述权利要求1至9中任一项所述的设备，

其特征在于，

设有支承设备(6)，所述支承设备构成为，在工作状态中将所述第一保持设备(3a)和/或所述第二保持设备(3b)相对于所述成像设备(2)平移地和/或旋转地支承；和/或驱动设备(4a)，所述驱动设备构成为，在工作状态中将所述第一保持设备(3a)和/或所述第二保持设备(3b)平移地和/或旋转地驱动。

11.根据上述权利要求1至10中任一项所述的设备，

其特征在于，

设有接合设备(7)，所述接合设备构成为，将所述光敏装置(11)和所述光学装置(12)彼此连接，尤其彼此接合地连接。

12.根据上述权利要求1至11中任一项所述的设备，

其特征在于，

设有评估设备(5)，用于评估所述至少一个成像装置的所检测的评估图像，其中所述评估设备(5)

-优选地与所述成像设备(2)、尤其所述图像检测单元(24)、和/或所述调节设备(4)和/或所述接合设备以信号技术的方式耦合；和/或

-尤其地，具有功率电子模块(24b)，用于处理和传输由相应的图像检测单元(24)检测的评估图像；和/或

-尤其地，具有控制单元(5b)，用于根据评估检测的相应的评估图像的结果来控制所述调节设备(4)和/或用于控制所述接合设备；其中

-所述控制单元尤其包括用于所述设备在工作状态中自动聚焦的自动聚焦功能模块。

13.一种用于制造光敏系统(10)的方法(100)，所述光敏系统尤其用于投影的和/或成像的光电学系统，所述光敏系统尤其是未激活的光敏系统(10)、光电学和/或光电子系统，其特征在于，设有如下步骤：

-提供(101)根据上述权利要求1至10中任一项所述的设备(1)；和/或

-提供光敏装置(11)并且将其设置(102)在所述第二保持设备(3b)中，尤其提供两个和更多个光敏装置(11)并且将其设置(102)在所述第二保持设备(3b)中；和/或

-提供光学装置(12)并且将其设置(103)在所述第一保持设备(3a)中，尤其提供两个或更多个光学装置(112)并且将其设置(103)在所述第一保持设备(3b)中。

14.根据上述权利要求13所述的方法(100)，

其特征在于，设有如下步骤：

-相对于所述光敏装置(11)校准(110)所述光学装置(12)，其中校准(110)的步骤尤其包括：

○提供(111)电磁射线，用于在分别至少一个成像装置中成像评估图像，和/或

○在分别至少一个成像装置(20)中成像(112)所述评估图像，和/或

○在分别至少一个成像装置(20)中检测(113)所述评估图像(112)，和/或

○评估(114)分别检测的评估图像，和/或

○根据分别检测的评估图像的评估，调整(115)所述第一保持设备(3a)连同在其中设置的光学装置(12)和/或所述第二保持设备(3b)连同在其中设置的光敏装置(11)；和/或

-安装(120)相对于所述光敏装置(11)校准的光学装置(12)，其中安装(120)的步骤尤其包括：

○将所述光学装置(12)与所述光敏装置(11)连接(121)、尤其接合；和/或

-检查(130)相对于所述光敏装置(11)安装的光学装置(12)，其中检查(130)的步骤尤其包括：

○提供(111)电磁射线，用于在分别至少一个成像装置中成像评估图像，和/或

○在分别至少一个成像装置(20)中成像(112)经校准的和/或安装的光敏系统(10)的评估图像，和/或

○在分别至少一个成像装置(20)中检测(113)所述评估图像，和/或

○评估(114)分别检测的评估图像；和/或

-移动所述成像设备(2)，以便依次地和/或同时地制造多个相对于彼此待制造的光敏系统。

15.根据上述权利要求13至14中任一项所述的方法(100)，

其特征在于，

-在所述至少一个成像装置(20)中检测(113)所述评估图像包括如下步骤：

○将所述光学装置(12)相对于所述成像设备(2)和/或所述光敏装置(11)设置(113a)在无穷远处；和/或

○将所述光学装置(12)相对于所述成像设备(2)和/或所述光敏装置(11)设置(113b)在期望位置和/或期望方位中；和/或

-评估(114)分别检测的评估图像包括如下步骤：

○确定检测的所述评估图像的频率特性；和/或

○将所检测的评估图像与已经按照根据权利要求14所述的方法校准和/或安装的光敏系统的所检测的评估图像进行比较；其中

●尤其地，同时地或顺序地在分别至少一个成像装置(20)中检测所述评估图像；其中

●尤其地，对同时检测的评估图像的比较基于在分别至少一个成像装置(20)中的实体叠加；和/或

●尤其地，同时地或顺序地对检测的评估图像的比较基于在分别至少一个成像装置(20)中的虚拟叠加；和/或

○将检测的评估图像和/或检测的评估图像的确定的频率特性与期望的期望状态比较；和/或

○产生调节信号，用于根据如下内容来调整所述第一和/或第二保持设备

●将所检测的评估图像与已经按照根据权利要求14所述的方法校准的和/或安装的光敏系统的评估图像进行比较和/或比较所确定的频率特性和/或比较所确定的偏差；和/或

●只要检测的评估图像不对应于期望的期望状态，则将检测的评估图像与期望的期望状态进行比较；和/或

●只要检测的评估图像的频率特性不对应于期望的期望状态，则将检测的评估图像的确定的频率特性与期望的期望状态进行比较。

16.根据上述权利要求13至15中任一项所述的方法(100)，

其特征在于，

待制造的光敏系统(10)的所述光敏装置(11)在校准(110)和/或安装(120)和/或检查(130)期间是未激活的。

17.一种根据上述权利要求1至12中任一项所述的设备(1)的应用，所述设备用于制造光敏系统(10)，所述光敏系统尤其用于投影和/或成像的光电学系统，所述设备尤其用于制造未激活的光敏系统(10)、光电学和/或光电子系统。

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