CN114893374A - 一种强化电离的射频离子推力器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种强化电离的射频离子推力器，包括：射频源、阻抗匹配网络、射频线圈、电离室、中和器、光学系统、栅极电路、直流电源和推进工质高压存储瓶；在电离室的输入端与推进工质高压存储瓶之间设有两个供气通道；每一供气通道的输出端均设有径向扩散供气装置；径向扩散供气装置包括封闭盖板，封闭盖板覆盖于供气通道的输出端，封闭盖板与供气通道连接处设有若干个供气孔；电离室的内侧壁面上绕设有波纹凸起。通过优化进气方式和改变电离室内壁面的结构，强化电离室内的电离，提高射频离子推力器的射频电磁场能量耦合效率，提高射频离子体推力器的性能及放电稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及等离子体推进技术领域，特别是涉及一种强化电离的射频离子推力器。
背景技术
面对未来各式各样的空间推进任务需求，射频离子推力器凭借高比冲、长寿命、体积小且高效率等特点，使得航天器有效载荷得以增加，其发射成本降低，并且增长航天器在轨运行时间，因此具有巨大的发展潜能和应用前景。
射频离子推力器系统中的等离子体源工作在射频波段，即频率在1MHz到500MHz之间，常用13.56MHz，采用电感耦合(inductively coupledplasma，ICP)发生器结构，射频线圈缠绕至电离外壁面，通过一个介质窗口(电离室)将射频线圈与等离子体隔离，把射频电流通入射频线圈中，在电离室内将产生射频电磁场并与推进工质耦合，将电磁场的能量传递给推进工质，使得电子被激发，从而电离推进工质并维持等离子体放电，在光学系统的作用下，等离子体被加速喷出产生推力，因此电离室内射频电磁场能量耦合效率极大程度地影响了射频离子推力器的性能。现有射频离子推力器由于推进工质进入电离室的流速快，并且推进剂工质在电离室中心密度大，靠近电离室壁面密度小，导致电离程度弱且等离子体分布不均匀，射频电磁场能量耦合效率低，降低放电稳定性，进而降低射频离子推力器性能。对此，本发明提出一种能够实现强化电离的射频离子推力器。
发明内容
本发明的目的是提供一种强化电离的射频离子推力器，能够增强电离室中的电离程度，提高射频离子推力器的射频电磁场能量耦合效率，从而提高射频离子体推力器的性能及放电稳定性。
为实现上述目的，本发明提供了如下方案：
一种强化电离的射频离子推力器，包括：射频源、阻抗匹配网络、射频线圈、电离室、中和器、光学系统、栅极电路、直流电源和推进工质高压存储瓶；
所述射频源的输出端连接所述阻抗匹配网络，所述射频线圈的两端连接于所述阻抗匹配网络中；所述射频线圈绕设于所述电离室的外侧面；所述中和器设于所述电离室的侧壁；
所述电离室的输出端连接所述光学系统；所述光学系统通过所述栅极电路与所述直流电源连接；
所述电离室的输入端与所述推进工质高压存储瓶之间设有两个供气通道，每一所述供气通道上设有一通路控制阀单元；
每一所述供气通道的输出端均设有径向扩散供气装置；所述径向扩散供气装置包括封闭盖板，所述封闭盖板覆盖于所述供气通道的输出端，所述封闭盖板与所述供气通道连接处设有若干个供气孔；
所述电离室的内侧壁面上绕设有若干个波纹凸起。
可选的，每一所述供气通道的输出端延伸至所述电离室内。
可选的，若干个所述供气孔均匀的分布于所述封闭盖板与所述供气通道连接处。
可选的，若干个所述波纹凸起为若干个圆环波纹凸起或若干个所述波纹凸起为组成螺旋环波纹凸起。
可选的，当若干个所述波纹凸起为若干个所述圆环波纹凸起时，所述圆环波纹凸起等间距的排布于所述电离室内侧壁。
可选的，相邻两个所述圆环波纹凸起之间绕设所述射频线圈。
可选的，当若干个所述波纹凸起组成所述螺旋环波纹凸起时，所述螺旋环波纹凸起的螺距与所述射频线圈的螺距相同；
在所述螺旋环波纹凸起的各匝之间绕设所述射频线圈。
可选的，两个所述供气通道沿所述电离室的中心轴对称设置。
可选的，所述光学系统包括屏栅和加速栅；
所述屏栅和所述加速栅沿所述电离室中离子引出的方向依次连接所述电离室的输出端；所述屏栅和所述加速栅均与所述栅极电路连接。
根据本发明提供的具体实施例，本发明公开了以下技术效果：
本发明涉及一种强化电离的射频离子推力器，包括：射频源、阻抗匹配网络、射频线圈、电离室、中和器、光学系统、栅极电路、直流电源和推进工质高压存储瓶；射频源的输出端连接阻抗匹配网络，射频线圈的两端连接于所述阻抗匹配网络中；射频线圈绕设于所述电离室的外侧面；中和器设于电离室的侧壁；电离室的输出端连接所述光学系统；所述光学系统通过所述栅极电路与所述直流电源连接；电离室的输入端与推进工质高压存储瓶之间设有两个供气通道；每一供气通道的输出端均设有径向扩散供气装置；径向扩散供气装置包括封闭盖板，封闭盖板覆盖于所述供气通道的输出端，封闭盖板与所述供气通道连接处设有若干个供气孔；电离室的内侧壁面上绕设有若干个波纹凸起。通过优化进气方式和改变电离室内壁面的结构，能够实现在不改变射频放电的功率和阻抗匹配网络的情况下有效强化电离室内的电离，并且使等离子体均匀分布，提高射频离子推力器的射频电磁场能量耦合效率，从而提高射频离子体推力器的性能及放电稳定性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1提供的一种强化电离的射频离子推力器结构示意图。
附图标记：
1-射频功率源；2-阻抗匹配网络；3-第一通路控制阀单元；4-第一供气通道；5-射频线圈；6-中和器；7-光学系统；8-栅极电路；9-直流电源；10-波纹凸起；11-电离室；12-第二供气通道；13-第二通路控制阀单元；14-推进工质高压存储瓶；15-径向扩散供气装置。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的目的是提供一种强化电离的射频离子推力器，能够增强电离室中的电离程度，提高射频离子推力器的射频电磁场能量耦合效率，从而提高射频离子体推力器的性能及放电稳定性。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
如图1所示，本实施例提供一种强化电离的射频离子推力器，包括：射频功率源1、阻抗匹配网络2、射频线圈5、电离室11、中和器6、光学系统7、栅极电路8、直流电源9和推进工质高压存储瓶14。
所述射频功率源1的输出端连接所述阻抗匹配网络2，所述射频线圈5的两端连接于所述阻抗匹配网络2中；所述射频线圈5绕设于所述电离室11的外侧面；所述中和器6设于所述电离室11的侧壁。
所述电离室11的输出端连接所述光学系统7；所述光学系统7通过所述栅极电路8与所述直流电源9连接。
所述光学系统7包括屏栅和加速栅；所述屏栅和所述加速栅沿所述电离室11中离子引出的方向依次连接所述电离室11的输出端；所述屏栅和所述加速栅均与所述栅极电路8连接。
所述电离室11的输入端与所述推进工质高压存储瓶14之间设有两个供气通道(图1中的第一供气通道4和第二供气通道12)，每一所述供气通道上设有一通路控制阀单元(图1中的第一通路控制阀单元3和第二通路控制阀单元13)。
每一所述供气通道的输出端均设有径向扩散供气装置15；所述径向扩散供气装置15包括封闭盖板，所述封闭盖板覆盖于所述供气通道的输出端，所述封闭盖板与所述供气通道连接处设有若干个供气孔。
径向扩散供气装置15可以选择圆盘径向扩散供气装置，即封闭盖板为一圆盘，圆盘的周向设置多个供气孔，并且为了能够使得供入电离室11的气体更加均匀可以要求若干个所述供气孔均匀的分布于所述封闭盖板与所述供气通道连接处，即在圆盘周向上均匀设置多个供气孔，这样的结构使得供气通道的输出端的轴向输出是封闭的，推进工质只能够沿着供气孔通入电离室11，即使得推进工质沿着电离室11径向喷入，增大在电离室11内壁面的推进工质密度，使得电离室11内推进工质分布更加均匀。
每一所述供气通道的输出端延伸至所述电离室11内，缩短推进工质与电离室11外壁面射频天线的距离，增强感应电场的强度，使得电离得以加强，并且两个所述供气通道沿所述电离室11的中心轴对称设置，使得通过供气通道供入的气体更均匀的分布于电离室11内。
所述电离室11的内侧壁面上绕设有若干个波纹凸起10。其中，若干个所述波纹凸起10为若干个圆环波纹凸起或若干个所述波纹凸起10组成螺旋环波纹凸起。波纹凸起10绕设于所述电离室内侧壁面上且与所述电离室11内侧壁一体成型。无论是圆环波纹凸起还是螺旋环波纹凸起均需要分布于电离室11的整个内侧壁面上。
当若干个所述波纹凸起10为若干个所述圆环波纹凸起时，所述圆环波纹凸起等间距的排布于所述电离室11内侧壁。相邻两个所述圆环波纹凸起之间绕设所述射频线圈5。
当若干个所述波纹凸起10组成所述螺旋环波纹凸起时，所述螺旋环波纹凸起的螺距与所述射频线圈5的螺距相同；在所述螺旋环波纹凸起的各匝之间绕设所述射频线圈5。
根据ICP激励电离特性，采取了双进气方案，进气通道靠近电离室11内壁，沿着电离室11中心轴对称布置，并且设计了径向扩散供气装置15，增大在电离室11内侧壁面的推进工质密度，使得电离室11内推进工质分布更加均匀，同时将电离室11内侧壁面设计成等间距凸起的波纹，射频线圈5缠绕于波纹凸起10之间(两个所述圆环波纹凸起之间或所述螺旋环波纹凸起的各匝之间)，能够有效减小推进工质的流动速度，并且在两个波纹之间，即在射频线圈5处，推进工质流速低而密度大，从而实现有效强化电离，并且使等离子体均匀分布，提高射频离子推力器的性能及放电稳定性。
本实施例的射频推力器有效强化电离室11内的电离的工作原理：
射频功率源1产生特定频率(常用13.56MHz)的射频电流，射频电流通过对应的阻抗匹配网络2将射频能量最大程度的馈入射频线圈5，根据感应耦合(ICP)放电机制，在电离室11内将产生射频感应电磁场，随即开启第一通路控制阀单元3和第二通路控制阀单元13，使得推进工质高压存储瓶14中的推进工质以特定微小流量(微小流量在1-5sccm)分别流入第一供气通道4和第二供气通道12，并在第一供气通道4和第二供气通道12的出口分别安装圆盘径向扩散供气装置15，推进工质通过圆盘径向扩散供气装置15径向均匀地流向电离室11中，在电离室波纹形内壁面的作用下，电离室11内截面收缩扩张，使得推进工质先加速后减速，并且推进工质在波纹凸起10之间存在滞留，即在射频线圈5附近推进工质密度大，同时在射频感应电磁场的作用下，能量耦合入推进工质中使之电离，产生高密度的等离子体，此时直流电源9和对应的栅极电路8加持直流电压在光学系统7的屏栅和加速栅之间(如图1，沿离子引出的方向，第一个虚线代表屏栅，第二个虚线代表加速栅)，在两个栅极的加速电场作用下，扩散至光学系统7第一个栅极(屏栅)附近的正离子加速喷出形成束流并产生推力，同时中和器6引出电子进入带正电位的束流中，中和其正离子，使得羽流呈电中性。此方法有效提高了射频电磁场能量耦合效率，强化电离室11内推进工质电离强度，等离子体均匀分布，使得提高羽流中的离子密度，进而提高推力器的性能及放电稳定性。
本实施例的射频离子体推力器能够有效强化电离室11内的电离，并且使等离子体均匀分布，在不改变射频放电的功率和阻抗匹配网络2的情况下，通过优化进气方式和改变电离室11内壁面的结构，实现均匀供给推进工质进入电离室11，并且在靠近壁面电离强的区域，推进工质密度大，处于电离室11中心电离弱的区域，推进工质密度小，减小在射频线圈5及整体的推进工质的流动速度，使得推进工质得以充分电离且等离子体分布均匀，解决了现有射频离子推力器存在射频电磁场能量耦合效率低，导致电离强度低，并且电离室11内等离子体分布不均，进而降低射频离子推力器性能的问题。同时避免增大射频电源的功率和重新设计与之匹配的阻抗电路的问题。
本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (9)
1.一种强化电离的射频离子推力器，其特征在于，包括：射频源、阻抗匹配网络、射频线圈、电离室、中和器、光学系统、栅极电路、直流电源和推进工质高压存储瓶；
所述射频源的输出端连接所述阻抗匹配网络，所述射频线圈的两端连接于所述阻抗匹配网络中；所述射频线圈绕设于所述电离室的外侧面；所述中和器设于所述电离室的侧壁；
所述电离室的输出端连接所述光学系统；所述光学系统通过所述栅极电路与所述直流电源连接；
所述电离室的输入端与所述推进工质高压存储瓶之间设有两个供气通道，每一所述供气通道上设有一通路控制阀单元；
每一所述供气通道的输出端均设有径向扩散供气装置；所述径向扩散供气装置包括封闭盖板，所述封闭盖板覆盖于所述供气通道的输出端，所述封闭盖板与所述供气通道连接处设有若干个供气孔；
所述电离室的内侧壁面上绕设有若干个波纹凸起。
2.根据权利要求1所述的射频离子推力器，其特征在于，每一所述供气通道的输出端延伸至所述电离室内。
3.根据权利要求1所述的射频离子推力器，其特征在于，若干个所述供气孔均匀的分布于所述封闭盖板与所述供气通道连接处。
4.根据权利要求1所述的射频离子推力器，其特征在于，若干个所述波纹凸起为若干个圆环波纹凸起或若干个所述波纹凸起组成螺旋环波纹凸起。
5.根据权利要求4所述的射频离子推力器，其特征在于，当若干个所述波纹凸起为若干个所述圆环波纹凸起时，所述圆环波纹凸起等间距的排布于所述电离室内侧壁。
6.根据权利要求5所述的射频离子推力器，其特征在于，相邻两个所述圆环波纹凸起之间绕设所述射频线圈。
7.根据权利要求4所述的射频离子推力器，其特征在于，当若干个所述波纹凸起组成所述螺旋环波纹凸起时，所述螺旋环波纹凸起的螺距与所述射频线圈的螺距相同；
在所述螺旋环波纹凸起的各匝之间绕设所述射频线圈。
8.根据权利要求1所述的射频离子推力器，其特征在于，两个所述供气通道沿所述电离室的中心轴对称设置。
9.根据权利要求1所述的射频离子推力器，其特征在于，所述光学系统包括屏栅和加速栅；
所述屏栅和所述加速栅沿所述电离室中离子引出的方向依次连接所述电离室的输出端；所述屏栅和所述加速栅均与所述栅极电路连接。
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| CN (1) | CN114893374B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115450875A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-09 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种高速中性气流发生装置 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101681781A (zh) * | 2007-02-26 | 2010-03-24 | 威科仪器有限公司 | 离子源以及操作离子源电磁体的方法 |
| US20140077699A1 (en) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | Oregon Physics, Llc | Rf system, magnetic filter, and high voltage isolation for an inductively coupled plasma ion source |
| CN106937474A (zh) * | 2015-12-31 | 2017-07-07 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种电感耦合等离子处理器 |
| CN108271309A (zh) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种电感耦合等离子处理装置 |
| CN108770168A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-06 | 南京航空航天大学 | 一种气体绝缘的介质阻挡放电装置 |
| CN109162882A (zh) * | 2018-10-09 | 2019-01-08 | 西安交通大学 | 一种基于射频自偏压原理的离子推力器 |
| CN111322214A (zh) * | 2020-02-13 | 2020-06-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种会切场低推力射频离子推力器 |
| CN113404658A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-09-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种自中和射频离子推力器 |
-
2022
- 2022-05-19 CN CN202210553768.6A patent/CN114893374B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101681781A (zh) * | 2007-02-26 | 2010-03-24 | 威科仪器有限公司 | 离子源以及操作离子源电磁体的方法 |
| US20140077699A1 (en) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | Oregon Physics, Llc | Rf system, magnetic filter, and high voltage isolation for an inductively coupled plasma ion source |
| CN106937474A (zh) * | 2015-12-31 | 2017-07-07 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种电感耦合等离子处理器 |
| CN108271309A (zh) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种电感耦合等离子处理装置 |
| CN108770168A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-06 | 南京航空航天大学 | 一种气体绝缘的介质阻挡放电装置 |
| CN109162882A (zh) * | 2018-10-09 | 2019-01-08 | 西安交通大学 | 一种基于射频自偏压原理的离子推力器 |
| CN111322214A (zh) * | 2020-02-13 | 2020-06-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种会切场低推力射频离子推力器 |
| CN113404658A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-09-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种自中和射频离子推力器 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 夏广庆;郝剑昆;徐宗琦;王伟宗;邹存祚;王鹏;: "螺旋波等离子体推力器地面实验原理样机设计", 中国科学:技术科学, no. 01, 20 January 2015 (2015-01-20), pages 9 - 14 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115450875A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-09 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种高速中性气流发生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114893374B (zh) | 2024-05-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Wei Liqiu Inventor after: Jiang Wenjia Inventor after: Yang Zhou Inventor after: Ding Yongjie Inventor after: Li Hong Inventor before: Yang Zhou Inventor before: Wei Liqiu Inventor before: Jiang Wenjia Inventor before: Ding Yongjie Inventor before: Li Hong |
|
| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |