CN114740689A - 基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法 - Google Patents

基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学薄膜制备、半导体工艺、多光谱成像领域，特别涉及一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法，所述方法是采用法布里‑珀罗周期性干涉滤光膜系结构，利用纳米压印技术，通过刻蚀或者紫外辐照固化等手段，完成微滤光单元的法布里‑珀罗腔厚度的调控，从而便捷地制备出马赛克快照式微滤光片阵列。所述方法，可以是在衬底上制备微滤光片阵列时采用，也可以是直接在图像传感器芯片上制备微滤光片阵列时采用。本发明不受滤波通道数目限制，并行地一次性完成所有工作波长膜系的法布里‑珀罗腔厚度调节，工艺简单，易于批量化生产，有利于多光谱检测技术的推广和普及，具有很大的实用价值。

Description

基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法
技术领域
本发明涉及光学薄膜制备、半导体工艺、多光谱成像领域，特别涉及一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法，利用纳米加压方法调节法布里-珀罗周期性干涉膜系的腔厚，制备马赛克快照式微滤光片阵列，可以应用于光谱成像。
背景技术
70年代末80年代初，在研究归纳各种地物光谱特征的基础上，大家逐渐认识到，如果能实现连续的窄波段成像，那么就有可能实现地面矿物的直接识别，由此产生了光谱和图像结合为一体的成像光谱技术。1983年，美国喷气推进实验室研制出第一台航空成像光谱仪(AIS-1)，随后包括中国在内的许多国家都研制成功了一系列成像光谱仪，其中有以线阵探测器为基础的光机扫描型，有以面阵探测器为基础的固态推扫型，也有以面阵探测器加光机的并扫型。
光谱成像技术是一种将光谱分析技术与光学成像技术结合而成的探测技术，不同于传统黑白或者RGB三色成像，光谱成像可以从光谱维度上获得若干个任意通道。光谱成像技术不仅可以实现定性定量的光谱分析功能，还可以通过光学成像获取准确直观的目标物体分布图，具有图谱合一的优势。例如，光谱成像滤光片和CCD探测器结合，不仅有图像的信息，并且可以获得图像上每个像素点的光谱数据，为分析、检测、监控、测量等应用提供更为丰富、精准的信息。
多光谱成像技术主要是以物体对不同波长光线的吸收存在差异为原理，通过测量目标物体在一定波长范围内特定频率的光强度变化来实现检测、辨别。随着多光谱成像技术的不断提高，其应用范围也在不断扩大，尤其在医学、农业、矿业、环境、军事以及安检等领域都有着重要的应用。在农业领域，多光谱成像技术可以通过从可见光到热红外不同的狭窄波段区感应能量，分别获得地物在不同谱段上的影像，以此识别地物的具体情况，主要应用于作物病害诊断、农产品品质检测、作物生长状态监测等方面。另外，在重大自然灾害面前，多光谱成像技术还可以在灾害评估方面发挥重要的作用，提供准确的灾情评估报告，为决策部门制定救灾、减灾方案提供了精准的信息资料。
目前，常见的光谱成像技术包括：光栅分光、声光可调谐滤波分光、棱镜分光和芯片镀膜等。对于光栅分光的光谱成像技术，经过狭缝的光由于不同波长的光照射到不同的探测器像元上，光能量很低，因此需要选择高灵敏相机，同时需要加光源。对于声光可调谐滤波分光的光谱成像技术，系统一般由声光介质、换能器和声终端三部分组成。射频驱动信号通过换能器激励出超声波，超声波在光介质内传播，使介质产生与声波信号相应的、随时间和空间周期变化的弹性形变，从而导致介质中的折射率发生周期变化，形成等效的位相光栅，光栅常数即声波波长。若声波频率较高，且声光作用长度足够大，声扰动介质形成体位相光栅。改变射频驱动信号的频率，可以实现电调谐波长的扫描。对于棱镜分光的光谱成像技术，不同频率入射光通过棱镜后被分成不同的方向，然后照射到不同方向的探测器上进行成像。棱镜分光后，在棱镜的出射面镀了不同波段的滤光膜，使得不同方向的探测器可以采集到不同光谱信息，实现同时采集空间及光谱信息。可见，光栅分光、声光可调谐滤波分光和棱镜分光的方案，制造相当复杂，并且结构尺寸较大，不便于光电子器件大规模集成。
芯片镀膜光谱成像技术需要借助半导体技术进行滤光片的制备，具有微小尺寸和集成度高的特点，相比光栅分光、声光可调谐滤波分光和棱镜分光的方案具有优势。欧洲微电子研究中心(IMEC)利用高灵敏CCD芯片及SCMOS芯片，开发了一种高光谱成像技术。具体地讲，他们在CCD探测器的像元上分别镀上不同工作波长的滤波膜，于是不同的像元会接收到不同波长的光谱信息，实现光谱成像。这种光谱成像方式不需要额外的附件，降低了光谱成像设备的体积和成本，可以快速、高效地获得光谱信息和空间信息。缺点是，滤波通道越多，工艺越复杂，与CCD像元对应的窄带滤波单元的边缘容易受到工序的影响，无法与像元实现完全匹配，性能难以保障。采用纳米压印的方法制备微滤光片阵列，可以有效解决这一问题。
发明内容
为克服上述现有芯片镀膜光谱成像技术中的微滤光片制备方法的不足，本发明提供一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法。它不受滤波通道数目限制，并行地一次性完成所有工作波长膜系的法布里-珀罗腔厚度调节，工艺简单，易于批量化生产，有利于多光谱检测技术的推广和普及，具有很大的实用价值。
本发明采用的技术方案是：一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，采用纳米压印的方法精确调节微滤光片阵列滤光膜系中法布里-珀罗腔的厚度，具体分为下述步骤：
步骤一，根据目标光谱特性，设计法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系，选择衬底(例如玻璃、石英或者蓝宝石等)，在衬底上制备微滤光片阵列；
步骤二，设计印章，根据图像传感器像素尺寸，确定印章图形单元的尺寸；根据微滤光片阵列中各个微滤光单元的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的工作波长，确定各个微滤光单元的法布里-珀罗腔厚度，从而确定印章各个图形单元的厚度；
步骤三，根据法布里-珀罗腔材料及厚度调控范围，选择具有抗刻蚀性能的压印材料；
步骤四，在衬底上制备套刻标记；
步骤五，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的下部周期层和法布里-珀罗腔；
步骤六，涂覆压印材料，利用纳米压印形成具有不同厚度的压印图形；
步骤七，以具有不同厚度的压印图形为掩膜，利用刻蚀的方法将压印图形厚度转移为各个微滤光单元法布里-珀罗腔的不同厚度；
步骤八，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的上部周期层，因各个微滤光单元法布里-珀罗腔具有不同的厚度，故微滤光片阵列具有一系列工作波长；
步骤九，划片；
步骤十，与图像传感器对准并粘合封装。
步骤一中，也可以直接在图像传感器靶面上制备微滤光片阵列。
步骤一中，微滤光片阵列可以是2×2、3×3、4×4、5×5或者其他的周期性单元，对应的是4通道、9通道、16通道、25通道及更多通道数的图像传感器。上述技术方案中，是将压印材料用作掩膜，以便刻蚀出具有不同厚度的法布里-珀罗腔，也可以将压印材料直接用作制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的法布里-珀罗腔腔层，则制备马赛克快照式微滤光片阵列的步骤包括：
步骤一，根据目标光谱特性，设计法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系，选择衬底(例如玻璃、石英或者蓝宝石等)，在衬底上制备微滤光片阵列；
步骤二，设计印章，根据图像传感器像素尺寸，确定印章图形单元的尺寸；根据微滤光片阵列中各个微滤光单元的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的工作波长，确定各个微滤光单元的法布里-珀罗腔厚度，从而确定印章各个图形单元的厚度；
步骤三，根据法布里-珀罗腔材料及厚度调控范围，选择具有抗刻蚀性能的压印材料；
步骤四，在衬底上制备套刻标记；
步骤五，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的下部周期层和法布里-珀罗腔；
步骤六，涂覆压印材料，利用纳米压印形成具有不同厚度的压印图形；
步骤七，采用紫外辐照的方法永久固化压印材料，将压印材料直接用作法布里-珀罗腔；
步骤八，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的上部周期层，因各个微滤光单元法布里-珀罗腔具有不同的厚度，故微滤光片阵列具有一系列工作波长；
步骤九，划片；
步骤十，与图像传感器对准并粘合封装。
上述技术方案中，对于曲面结构的特殊情况，可以将微滤光片阵列加工在柔性衬底上，适用于可穿戴消费电子产品的生产。
上述技术方案中，所采用的法布里-珀罗周期性干涉膜系设计、纳米压印(纳米压印材料和印章)、紫外光刻(步骤一、步骤四)、电子束蒸发镀膜(步骤四)、离子辅助电子束蒸发镀膜(步骤一)、刻蚀和紫外固化等均为本领域公知的成熟技术。使用上述方法所需的设备均可市购：纳米压印系统可以采用荷兰Morphotonics公司的Portis纳米压印机；紫外光刻系统可以采用德国SUSS MicroTec公司的SUSS MA/BA6光刻机；电子束蒸发镀膜系统可以采用美国Kurt J.Lesker公司的PVD 75蒸发镀膜系统；离子辅助电子束蒸发镀膜系统可以采用Leybod Optics的ARES 1350镀膜机。
本发明的有益效果是：
1)设计灵活，根据不同的应用，设计制备不同观测物特征波长的微滤光片阵列，实现对不同被测目标的多光谱成像；
2)工艺难度不受滤波光谱通道数目限制，可应用于高光谱成像的微滤光片阵列制备；
3)大大简化工艺步骤和流程，降低成本，提高成品率。
附图说明
图1为纳米压印和刻蚀相结合的方法制备马赛克快照式微滤光片阵列(2×2)的示例图。在图1中，001表示法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层，002表示法布里-珀罗周期性多层介质膜的法布里-珀罗腔，003表示纳米压印材料，004表示压印后完成固化的压印图形，005表示纳米压印的印章，006表示法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层，0041～0044表示压印图形004中具有不同高度的图形单元，0021～0024表示法布里-珀罗腔002中具有不同厚度的微腔单元。A01～A05是制备流程的主要工艺步骤，A01表示制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层和法布里-珀罗腔，A02表示在法布里-珀罗腔上涂覆压印材料，A03表示选择合适的印章005进行纳米压印，并对图形进行固化，A04表示反应离子刻蚀等手段，将掩膜图形转移到法布里-珀罗腔，A05表示制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层。
图2为周期2×2的马赛克快照式微滤光片阵列中法布里-珀罗微腔厚度示意图。在图2中，C01～C04表示法布里-珀罗微腔具有不同的腔厚。
图3是与图2中法布里-珀罗微腔厚度对应的纳米压印印章示意图。在图3中，S01、S02、S03和S04是印章图形单元，分别与图2中C01、C02、C03和C04对应，即，S01压印出C01，S02压印出C02，S03压印出C03，S04压印出C04。
图4为纳米压印制备马赛克快照式微滤光片阵列(2×2)的示例图。在图4中，B01～B03是制备流程的主要工艺步骤，B01表示在法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层上，涂覆压印材料，B02表示选择合适的印章005进行纳米压印，并对图形进行固化，直接用作膜系的法布里-珀罗腔，B03表示制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层。
图5为利用刻蚀的方法将压印图形转移到法布里-珀罗腔的制备流程。在图5中，S01表示衬底或者图像传感器靶面，01a～01g为制备流程的主要工艺步骤，01a表示选择合适的衬底制备对准标记等，开始流片，01b表示在衬底上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层和法布里-珀罗腔，01c表示涂覆压印材料，01d表示选择合适的印章005进行纳米压印，01e表示压印图形固化为掩膜图形，01f表示反应离子刻蚀等手段，将掩膜图形转移到法布里-珀罗腔，01g表示制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层。
图6为中心波长589nm的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系透过率计算曲线。
图7是对中心波长589nm的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系调腔后，形成2×2微滤光阵列的透过率计算曲线。在图7中，T10表示膜系法布里-珀罗腔厚度未改变时的透过率曲线，T11～T14表示膜系法布里-珀罗腔分别改变减薄了不同厚度后的透过率曲线。
图8为紫外辐照固化压印材料形成法布里-珀罗腔的制备流程。在图8中，02a～02f为制备流程的主要工艺步骤，02a表示选择合适的衬底制备对准标记等，开始流片，02b表示在衬底上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层，02c表示涂覆压印材料，02d表示纳米压印，02e表示掩膜图形固化为永久介质层，02f表示制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层。
具体实施方式
本发明的基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，是利用纳米压印技术，通过刻蚀或者永久固化的手段，对法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系结构进行调控，具体地讲，是对膜系中法布里-珀罗腔厚度进行调控，从而便捷地制备出马赛克快照式微滤光片阵列。本发明设计灵活，可根据不同的应用，设计不同的微滤光片阵列。工艺简单，工艺难度不受滤波光谱通道数目影响，可批量生产，在高光谱成像领域有广泛应用前景。
以下通过具体实施例，结合附图对本发明作更进一步的说明。作为一个示例，我们利用纳米压印和刻蚀相结合的方法制备2×2周期的马赛克快照式微滤光片阵列(图1)：
A01，在衬底上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层001和法布里-珀罗腔002；
A02，在法布里-珀罗腔上涂覆压印材料003；
A03，选择合适的印章005进行纳米压印，并对图形进行固化，得到掩膜图形004，它包含四个具有不同高度的图形单元0041～0044；
A04，利用反应离子刻蚀等手段，将掩膜图形004转移到法布里-珀罗腔，法布里-珀罗腔002中形成了四个具有不同厚度的微腔单元0021～0024；
A05，制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层。
法布里-珀罗腔的微腔厚度，在膜系设计阶段，需要根据目标光谱特性等确定，图2显示了2×2的法布里-珀罗微腔的四个不同腔厚C01～C04。根据该微腔厚度的设计(决定了膜系的工作波长)，才能设计印章。图3是与图2中法布里-珀罗微腔厚度对应的纳米压印印章示意图。S01、S02、S03和S04是印章图形单元，它们与不同厚度微腔单元一一对应，S01压印出C01，S02压印出C02，S03压印出C03，S04压印出C04。通过刻蚀的方法，再将印章图形转移到法布里-珀罗膜层，最终形成2×2的具有不同厚度的法布里-珀罗微腔0021～0024。
作为一个示例，我们也可以利用纳米压印将压印图形永久固化作为法布里-珀罗腔层的方法，来制备2×2的马赛克快照式微滤光片阵列(图4)：
B01，在布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层001上，涂覆压印材料003；
B02，选择合适的印章005进行纳米压印，并对图形进行固化；
B03，固化后的压印图形004用作膜系的法布里-珀罗腔，在其上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层006。
本发明的基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，作为一个示例，以下详细地说明如何利用纳米压印和刻蚀相结合的方法制备2×2的马赛克快照式微滤光片阵列(图5)：
01a，选择熔融石英为衬底S01，制备对准标记等，开始流片；
1)清洗
■将石英片放入丙酮浸泡(可加热、可超声)；
■用异丙醇清洗，去除丙酮，再用去离子水清洗，最后用氮气吹干；
2)紫外光刻
■旋涂光刻胶AZ6112，加速6s，转速3500rpm，旋涂时间30s，胶厚约1.6μm；
■前烘温度100℃，时间90s；
■机器型号SUSS MA6，选择硬接触曝光模式，曝光时间2s；
■选择TMAH3038显影液，晃动显影时间30s；
■去离子水浸泡定影，然后氮气吹干，在光学显微镜下检验；
3)电子束蒸镀
■去胶机型号M4L，设定功率200W，氧等离子体去残胶时间3min；
■蒸镀Ti/Au，Ti为粘附层，蒸镀速率
Figure BDA0003588524240000071
厚度20nm，Au的蒸镀速率
Figure BDA0003588524240000072
厚度100nm；
■放入丙酮浸泡，加热到50℃进行剥离；
■异丙醇清洗去除丙酮，然后去离子水清洗，最后氮气吹干；
01b，使用TFCalc设计光学薄膜。参考波长λ0＝589nm，采用SiO2和Ta2O5为膜系材料，膜系设计(Sub/(HL)7H 2L(HL)7 1.377H 1.325L/Air，Sub为石英，H为Ta2O5，L为SiO2)如表1所示，其透过率曲线如图6所示。在衬底上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层001和法布里-珀罗腔002，即膜层Sub/(HL)7H 2L；
表1中心波长589nm的膜系设计
Figure BDA0003588524240000081
Figure BDA0003588524240000091
01c，选择荷兰Morphotonics公司MM2394G型纳米压印抗蚀剂，它在400nm到800nm范围具有良好的透射特性，折射率1.49@589nm，粘度25mPa·s。在一定转速、旋涂时间条件下涂覆纳米压印材料MM2394G；
01d，确定图像传感器型号，长光辰芯GSENSE400，像素尺寸11μm×11μm；确定2×2微滤光片阵列各个微滤光单元的工作波长分别为λ1＝585nm、λ2＝576nm、λ3＝567nm和λ4＝555nm；为实现中心波长的调控，要求对表1所示的膜系结构进行法布里珀罗腔厚度调节，将原始2光学厚度，分别变化为1.95、1.85、1.75和1.6光学厚度，对应图2中C04、C03、C02和C01的微腔厚度。光学厚度变化后，对应需要减薄的物理厚度分别为5nm、15nm、25nm和40nm。据此，可设计印章005，对应的压印单元为S04、S03、S02和S01，单元尺寸为11μm×11μm。印章就绪后，进行纳米压印；
01e，在一定紫外光源功率和辐照时间条件下，将压印图形固化为掩膜图形；
01f，反应离子刻蚀，将掩膜图形转移到法布里-珀罗腔；
1)反应离子刻蚀
■设备型号，牛津仪器Plasmalab 80Plus，CHF3流量72sccm，SF6流量12sccm，Ar流量5sccm，腔压50mTor，前级功率100W；
■需要根据压印材料及法布里珀罗腔层的刻蚀速率，计算所需刻蚀时间，精确控制刻蚀深度，确保精确调控中心波长；
2)去胶
■丙酮浸泡，加热到50℃；
■用异丙醇清洗，去除丙酮，再用去离子水清洗，最后用氮气吹干；
■氧等离子体刻蚀，型号M4L，前级功率200W，刻蚀时间10分钟；
01g，制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层006，即(HL)71.377H1.325L。其中，1.377H 1.325L为增透膜。至此，完成了2×2的马赛克快照式微滤光片阵列制备，其微滤光单元的透过率曲线如图7所示，具有4个光谱通道。
本发明的基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，作为一个示例，以下详细地说明如何利用纳米压印图形原位固化的方法制备2×2的马赛克快照式微滤光片阵列(图8)：
02a，选择石英为衬底，制备对准标记等，开始流片；
1)清洗
■将石英片放入丙酮浸泡(可加热、可超声)；
■用异丙醇清洗，去除丙酮，再用去离子水清洗，最后用氮气吹干；
2)紫外光刻
■旋涂光刻胶AZ6112，加速6s，转速3500rpm，旋涂时间30s，胶厚约1.6μm；
■前烘温度100℃，时间90s；
■机器型号SUSS MA6，选择硬接触曝光模式，曝光时间2s；
■选择TMAH3038显影液，晃动显影时间30s；
■去离子水浸泡定影，然后氮气吹干，在光学显微镜下检验；
3)电子束蒸镀
■去胶机型号M4L，设定功率200W，氧等离子体去残胶时间3min；
■蒸镀Ti/Au，Ti为粘附层，蒸镀速率
Figure BDA0003588524240000101
厚度20nm，Au的蒸镀速率
Figure BDA0003588524240000102
厚度100nm；
■放入丙酮浸泡，加热到50℃进行剥离；
■异丙醇清洗去除丙酮，然后去离子水清洗，最后氮气吹干；
02b，选择荷兰Morphotonics公司MM2480A型纳米压印材料，它在400nm到800nm范围具有良好的透射特性，折射率1.46@589nm，粘度66mPa·s。使用TFCalc设计光学薄膜。参考波长λ0＝589nm，采用SiO2和Ta2O5为膜系材料，膜系设计(Sub/(HL)7H 2M(HL)7 1.377H1.325L/Air，Sub为石英，H为Ta2O5，L为SiO2，M为MM2480A)如表2所示。在衬底上制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的下部周期性膜层001，即膜层Sub/(HL)7H；
表2中心波长589nm的膜系设计
Figure BDA0003588524240000111
Figure BDA0003588524240000121
02c，在一定转速、旋涂时间等条件下，涂覆压印材料MM2480A；
02d，确定微滤光片阵列各个微滤光单元的工作波长，计算膜系结构进行法布里-珀罗腔厚度调节，需要改变的光学厚度大小，得到对应的几何厚度。据此，设计印章005，确定压印单元S04、S03、S02和S01的高度。根据图像传感器像素尺寸，确定压印单元尺寸。印章就绪后，进行纳米压印；
02e，在一定紫外光源功率和辐照时间条件下，将压印图形固化为膜系的法布里-珀罗微腔结构；
02f，制备法布里-珀罗周期性多层介质膜的上部周期性膜层006，即(HL)71.377H1.325L。其中，1.377H 1.325L为增透膜。至此，完成了2×2的马赛克快照式微滤光片阵列制备。
上述实施例仅为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明技术方案和技术构思所做出其它各种相应的改变、改进和润饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于，该方法采用纳米压印的方法精确调节微滤光片阵列滤光膜系中法布里-珀罗腔的厚度，具体分为下述步骤：
步骤一，根据目标光谱特性，设计法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系，选择衬底，在衬底上制备微滤光片阵列；
步骤二，设计印章，根据图像传感器像素尺寸，确定印章图形单元的尺寸；根据微滤光片阵列中各个微滤光单元的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的工作波长，确定各个微滤光单元的法布里-珀罗腔厚度，从而确定印章各个图形单元的厚度；
步骤三，根据法布里-珀罗腔材料及厚度调控范围，选择具有抗刻蚀性能的压印材料；
步骤四，在衬底上制备套刻标记；
步骤五，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的下部周期层和法布里-珀罗腔；
步骤六，涂覆压印材料，利用纳米压印形成具有不同厚度的压印图形；
步骤七，以具有不同厚度的压印图形为掩膜，利用刻蚀的方法将压印图形厚度转移为各个微滤光单元法布里-珀罗腔的不同厚度；
步骤八，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的上部周期层，因各个微滤光单元法布里-珀罗腔具有不同的厚度，故微滤光片阵列具有一系列工作波长；
步骤九，划片；
步骤十，与图像传感器对准并粘合封装。
2.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，也可以直接在图像传感器靶面上制备微滤光片阵列。
3.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，衬底材料为玻璃、石英或者蓝宝石。
4.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，微滤光片阵列可以是2×2、3×3、4×4、5×5或者其他的周期性单元，对应的是4通道、9通道、16通道、25通道及更多通道数的图像传感器。
5.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：也可以将压印材料直接用作制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的法布里-珀罗腔腔层。
6.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：对于曲面结构的特殊情况，可以将微滤光片阵列加工在柔性衬底上，适用于可穿戴消费电子产品的生产。
7.一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列，其特征在于：所述阵列采用基于权利要求1至6任一项所述方法进行制备。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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