CN114563866A - 投影物镜系统 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及集成电路制造技术领域，尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，第一透镜组至第五透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正；五个透镜组满足：f2/L＞‑0.1，f4/L＞‑0.3；其中f2为第二透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距；根据本发明的投影物镜系统，能够实现更好的像差控制，进而实现更加完美的图形曝光。
Description
技术领域
本申请涉及集成电路制造技术领域，尤其是涉及一种投影物镜系统。
背景技术
在芯片的制造过程中，芯片的线条宽度往往依托于投影物镜系统的成像质量，更完美的线条往往需要更加完美的投影物镜。由于提供I线照明的高压汞灯具有较低的生产制造成本，使得I线投影物镜具有广阔的视场前景；但目前视场上的I线投影物镜，透镜数量多，非球面个数多，导致加工难度大；同时由于现有透镜的三阶像差和灵敏度较高，往往需要更加严格的加工和装配公差，才能保证良好的成像质量；因此，急需一种具有较少透镜数量和非球面个数的，较低的非球面加工难度的，以及较低的像差灵敏度且具有良好的成像质量的I线投影物镜。
在该背景技术部分中公开的上述信息仅用于增强本公开的背景的理解，因此上述信息可包含既没有形成现有技术的任何部分且也没有形成可能教示给本领域普通技术人员的现有技术的信息。
发明内容
提供本发明内容以通过简化形式介绍将在下面的具体实施方式中进一步描述的选择的构思。本发明内容既不意在确定所要求保护主题的关键特征或必要特征，也不意在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。
为了解决市场上流通的I线投影物镜的成像质量较差的问题，本方明提供了一种投影物镜系统，其能够在具有较少透镜和较少非球面的情况下实现较好的成像效果。
本发明提供了一种投影物镜系统，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置：
第一透镜组，所述第一透镜组具有正光焦度；
第二透镜组，所述第二透镜组具有负光焦度，所述第二透镜组满足：f2/L＞-0.1；
第三透镜组，所述第三透镜组具有正光焦度；
第四透镜组，所述第四透镜组具有负光焦度，所述第四透镜组满足：f4/L＞-0.3；
第五透镜组，所述第五透镜组具有正光焦度。
其中，f2为第二透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
进一步地，所述第一透镜组满足：f1/L＜0.4；所述第三透镜组满足：f3/L＜0.6；所述第五透镜组满足：f5/L＜2；
其中，f1为第一透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
进一步地，所述第一透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
进一步地，所述第一透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透明和第六透镜；所述第四透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第二透镜和所述第三透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第五透镜和所述第六透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
进一步地，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜均具有正光焦度。
进一步地，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。
进一步地，所述第二透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第七透镜和第八透镜；所述第七透镜和所述第八透镜均为物方表面和像方表面沿着光轴是凹入的双凹透镜。
进一步地，所述第三透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
进一步地，所述第三透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第九透镜、第十透镜、第十一透镜和第十二透镜；所述第十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第九透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第十一透镜和所述第十二透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
进一步地，所述第九透镜至所述第十二透镜的光焦度依次呈现负、正、正、负。
进一步地，所述第四透镜组包括至少一个双凹透镜。
进一步地，所述第四透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十三透镜和第十四透镜；所述第十三透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凹入的双凹透镜；所述第十四透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜。
进一步地，所述第五透镜组包括至少一片双凸透镜和至少一片具有负光焦度的弯月透镜。
进一步地，所述第五透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜......第二十四透镜；所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第二十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第十七透镜、所述第十八透镜、所述第十九透镜、所述第二十一透镜至所述第二十四透镜均为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜；所述第十七透镜和所述第十八透镜紧密设置，所述第十九透镜和所述第二十透镜紧密设置。
进一步地，所述第十八透镜具有负光焦度，所述第二十一透镜、所述第二十二透镜和所述第二十三透镜具有正光焦度。
进一步地，所述投影物镜系统还包括光阑，所述光阑设置于所述第十六透镜和所述第十七透镜之间。
进一步地，所述投影物镜系统还包括第一透镜和第二十五透镜；所述第一透镜设置于所述第一透镜组的物方侧，所述第二十五透镜设置于所述第五透镜组的像方侧；所述第一透镜和所述第二十五透镜为平板透镜。
进一步地，所述第一透镜组至所述第五透镜组中的第二透镜的物方表面、第八透镜的物方表面、第十三透镜的像方表面及第十八透镜的像方表面为非球面，且最高非球面度矢高差小于0.1mm。
进一步地，所述投影物镜系统在波长为365nm、谱线宽度为5nm的I线照明下的像方数值孔径为0.62；所述投影物镜系统的物像距L为1000mm；所述投影物镜系统的曝光视场为22*22mm；所述投影物镜系统在氮气环境中的放大倍率为1/5；所述投影物镜系统在大气环境中的放大倍率为1/5或1/4。
为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请的投影物镜系统的结构示意图；
图2呈现了本申请的投影物镜系统的衍射MTF成像效果图；
图3呈现了本申请的投影物镜系统的像差曲线图；
图4呈现了本申请的投影物镜系统的场曲畸变图；
图5呈现了本申请的投影物镜系统的RMS波前误差图；
图6呈现了本申请的投影物镜系统的远心度图。
具体实施方式
提供以下具体实施方式以帮助读者获得对这里所描述的方法、设备和/或系统的全面理解。然而，在理解本申请的公开内容之后，这里所描述的方法、设备和/或系统的各种变换、修改及等同物将是显而易见的。例如，这里所描述的操作的顺序仅仅是示例，其并不限于这里所阐述的顺序，而是除了必须以特定顺序发生的操作之外，可做出在理解本申请的公开内容之后将是显而易见的改变。此外，为了提高清楚性和简洁性，可省略本领域中已知的特征的描述。
这里所描述的特征可以以不同的形式实施，并且不被解释为局限于这里所描述的示例。更确切的说，已经提供了这里所描述的示例，仅用于说明在理解本申请的公开内容之后将是显而易见的实现在此所述的方法、设备和/或系统的许多可行方式中的一些可行方式。
本公开提供了一种具有较好的像差控制以实现投影曝光成像效果的投影物镜系统。
实施例一
参照图1描述实施例一的投影物镜系统。投影物镜系统是基于I线照明的投影物镜系统，即入射光线的波长为365nm，谱线宽度为5nm，投影物镜系统的整体光路总长即物象距L为1000mm，像方数值孔径为0.62；投影物镜可处在氮气包裹的环境范围中，且放大倍率为1/5；投影物镜系统也可以处在大气包裹的环境范围中，且放大倍率可以为1/5或者1/4，或者其它倍率；曝光视场为22mm*22mm，投影物镜系统为双远心透镜。
投影物镜系统包括多个透镜组。例如，投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组L1、第二透镜组L2、第三透镜组L3、第四透镜组L4和第五透镜组L5，并整体呈现出双腰三肚的光学结构。
第一透镜组L1至第五透镜组L5均包括多个透镜。例如，五个透镜组共包括23个透镜，依次为沿投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第二透镜2、第三透镜3、第四透镜4......第二十四透镜24。其中，第一透镜组L1包括第二透镜2至第六透镜6，第二透镜组L2包括第七透镜7和第八透镜8，第三透镜组L3包括第九透镜9至第十二透镜12，第四透镜组L4包括第十三透镜13和第十四透镜14，第五透镜组L5包括第十五透镜15至第二十四透镜24。
投影物镜系统还包括第一透镜1和第二十五透镜25，第一透镜1位于第一透镜组L1的物方侧，即第一透镜1为投影物镜系统中最接近物(或者掩膜板)的透镜；第二十五透镜25位于第六透镜组L6的像方侧，即第二十五透镜25为投影物镜系统中最接近成像面(或者半导体基底材料层26、硅片)的透镜。第一透镜1和第二十五透镜25均为平板透镜，二者能够起到一个保护窗口的作用，同时能够保证投影物镜系统内部的氮气环境的封闭效果。
五个透镜组具有光焦度。例如，第一透镜组L1、第三透镜组L3和第五透镜组L5具有正光焦度，第二透镜组L2和第四透镜组L4具有负光焦度，使得第一透镜组L1至第五透镜组L5的光焦度呈现出正、负、正、负、正；
五个透镜组满足下列条件：
第一透镜组满足：f1/L<0.4。
第二透镜组满足：f2/L＞-0.1。
第三透镜组满足：f3/L<0.6。
第四透镜组满足：f4/L＞-0.3。
第五透镜组满足：f5/L<2。
其中，f1为第一透镜组的焦距，f2为第二透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距。L为投影物镜系统的物像距，即在投影物镜系统的物方侧设置掩膜板，在投影物镜系统的像方侧设置半导体基底材料层26(比如硅片)，物象距L为掩膜板与硅片于光轴上的距离。
通过对投影物镜系统中的多个透镜的合理划分，使整个投影物镜系统呈现五个透镜组，且每个透镜组的焦距满足上述要求，以实现对每个透镜组的高阶球差的矫正。
关于具有正光焦度的第一透镜组L1，第一透镜组L1中的第二透镜2至第六透镜6中包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
例如，第四透镜4为双凸透镜，即第四透镜4的物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的；第三透镜3和第五透镜5为弯月透镜，且第三透镜3的物方表面沿着光轴是凹入的，第三透镜3的像方表面沿着光轴是凸出的，第五透镜5的物方表面沿着光轴是凸出的，第五透镜5的像方表面沿着光轴是凹入的。第三透镜3、第四透镜4和第五透镜5均具有正光焦度，通过第三透镜3、第四透镜4和第五透镜5能够对第一透镜组L1所需的正光焦度起到良好的均分效果；同时，第三透镜3和第五透镜5呈大体对称地设置于第四透镜4的两侧，在具有正光焦度的同时能够很好地矫正球差。
关于具有负光焦度的第二透镜组L2，第二透镜组L2中的第七透镜7和第二透镜2中的至少一片为具有负光焦度的负透镜，以用消除第一透镜组L1所产生的场曲。例如，第七透镜7和第八透镜8中的至少一片为双凹透镜。例如，第七透镜7和第八透镜8均为双凹透镜，第七透镜7和第八透镜8的物方表面沿着光轴均是凹入的，第七透镜7和第八透镜8的像方表面沿着光轴也均是凹入的。通过使第二透镜组L2具有负光焦度，能够使入射光线在整个投影物镜系统的第二透镜组L2处产生“双腰三肚结构”的第一个腰，以将光线高度平滑地抬升至一个较高的高度。
第八透镜8的物方表面为非球面，其能够对第一透镜组L1和第二透镜组L2所产生的球差起到良好的矫正效果；同时第二透镜组L2满足f2/L＞-0.1，能够更好地平滑前后透镜组所产生的过高的光线偏转，减小投影物镜系统的灵敏度。
关于具有正光焦度的第三透镜组L3，第三透镜组L3中的第九透镜9至第十二透镜12中包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。例如，第十透镜10为双凸透镜，即第十透镜10的物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的。入射光线在第二透镜组L2和第四透镜组L4处分别产生“双腰三肚结构”的两个腰，第九透镜9为弯向第一个腰的弯月透镜，第十二透镜12为弯向第二个腰的弯月透镜；第九透镜9的物方表面沿着光轴是凹入的，第九透镜9的像方表面沿着光轴是凸出的；第十二透镜12的物方表面沿着光轴是凸出的，第十二透镜12的像方表面沿着光轴是凹入的；第十一透镜11也为弯月透镜，且第十一透镜11的物方表面沿着光轴是凸出的，第十一透镜11的像方表面沿着光轴是凹入的。
在第三透镜组L3中，位于中间的两个透镜即第十透镜10和第十一透镜11为具有正光焦度，位于两侧的两个透镜即第九透镜9和第十二透镜12为具有负光焦度；第三透镜组L3中的四个透镜的光焦度依次呈现负、正、正、负，整个第三透镜组L3呈现出一种大体对称的结构；通过两侧的两个弯月透镜能够对中间的两个具有正光焦度的透镜所产生的高阶球差起到良好的矫正效果。
关于第四透镜组L4，第四透镜组L4中的第十三透镜13和第十四透镜14中的至少一个为双凹透镜。例如，第十三透镜13为双凹透镜，即第十三透镜13的物方表面和像方表面沿着光轴均是凹入的；第十四透镜14为弯月透镜，且第十四透镜14的物方表面沿着光轴是凹入的，第十四透镜14的像方表面沿着光轴是凸出的。
第四透镜组L4的光焦度为负，对经过第三透镜组L3的光线起到一个收敛并发散的效果，且第四透镜组L4能够用来平衡第一透镜L1组至第三透镜组L3所产生的场曲。同时，第四透镜组L4满足的f4/L＞-0.3，起到了很好的对高阶球差和彗差的矫正效果。第十三透镜13的物方表面为非球面，其能够对第一透镜组L1至第三透镜组L3所产生的球差起到良好的矫正效果。
关于具有正光焦度的第五透镜组L5，第五透镜组L5中的第十五透镜15至第二十四透镜24中包括至少一片双凸透镜和至少一片具有负光焦度的弯月透镜。例如，第十五透镜15、第十六透镜16和第二十透镜20为双凸透镜，即这三个透镜的物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的；第五透镜组L5中的其余透镜均为弯月透镜，且这部分透镜的物方表面沿着光轴均是凸出的，像方表面沿着光轴均是凹入的；
第五透镜组L5具有正光焦度，其主要对光线起到汇聚作用；第十五透镜15和第十六透镜16为双凸透镜，能够使光线更加平稳地进行偏转；第十六透镜16和第十七透镜17之间还设置有光阑，经过光阑之后，第十七透镜17和第十八透镜18为一组紧密结合的透镜结构，第十九透镜19和第二十透镜20为另一组紧密结合的透镜结构，其紧凑的结构类型大大滴减小了投影物镜系统的灵敏度，以便于投影物镜系统的装调；其中第十八透镜18为具有负光焦度的弯月透镜，第十八透镜18的存在使得对光线起汇聚作用的第五透镜组中的场曲被极大地中和掉。第二十一透镜21至第二十三透镜23为具有正光焦度的弯月透镜，以匹配本申请的投影物镜系统的较大的像方数值孔径；弯月透镜的结构也能够减小整个投影物镜系统的冗余的场曲像散。此外，第五透镜组L5满足的f5/L<2，减小了高阶球差对投影物镜的影响。
本申请的投影物镜系统的所有透镜中包括四个非球面，除了上文提到的第八透镜8的物方表面和第十三透镜13的像方表面为非球面，第二透镜2的物方表面和第十八透镜18的像方表面也为非球面；且四个非球面的最佳拟合其矢高差最大为0.1mm，具有较好的加工工艺适应性。
表1
其中，O代表物方或者掩膜板，1A和1B分别代表第一透镜的物方表面和像方表面，2A和2B分别代表第二透镜的物方表面和像方表面，依次类推，25A和25B分别代表第二十五透镜的物方表面和像方表面；I代表像方或者半导体基底材料层或者硅片。
表2
| 2A | 8A | 13B | 18B | |
| Y半径(曲率半径) | -167.6 | -154.2 | 161.45 | 164.76 |
| 二次曲面常数(K) | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 4阶系数(A) | -9.27E-09 | -5.07E-08 | 5.38E-08 | 2.34E-08 |
| 6阶系数(B) | 3.90E-13 | -3.35E-12 | -1.61E-12 | -9.01E-13 |
| 8阶系数(C) | -9.03E-18 | 8.81E-16 | 3.76E-16 | -1.12E-16 |
| 10阶系数(D) | 8.50E-21 | -1.70E-19 | -5.51E-19 | 1.68E-20 |
| 12阶系数(E) | -1.16E-24 | 7.04E-23 | 2.19E-22 | -4.81E-24 |
| 14阶系数(F) | 1.07E-28 | -1.39E-26 | -4.67E-26 | 5.69E-28 |
其中，2A代表第二透镜的物方表面，8A代表第八透镜的物方表面，13B代表第十三透镜的像方表面，18B代表第十八透镜的像方表面。
表1呈现投影物镜系统的透镜特性；表2呈现投影物镜系统的透镜的非球面特性。
图2呈现了投影物镜系统的衍射MTF成像效果图，图3呈现了投影物镜系统的像差曲线图，图4呈现了投影物镜系统的场曲畸变图，图5呈现了投影物镜系统的RMS波前误差图，图6呈现了投影物镜系统的远心度图。
本申请的投影物镜系统通过对多个透镜的合理配置组合，使得投影物镜系统在其像方数值孔径能够匹配下的线对数分辨率之内均能够达到衍射极限，具有较好的成像效果。场曲最大75nm，像散最大60nm，畸变最大7nm，波像差最大9.125nm，远心度最大0.27°，能够实现较好的投影曝光成像效果，且布局紧凑。
虽然本公开包括特定的示例，但是理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不脱离权利要求及其等同物的精神和范围的情况下，可在这些示例中做出形式上和细节上的各种改变。在此所描述的示例将仅被视为描述性含义，而非出于限制的目的。在每个示例中的特征或方面的描述将被认为可适用于其他示例中的类似特征或方面。如果以不同的顺序执行描述的技术，和/或如果以不同的方式组合描述的系统、构架、装置或者电路中的组件和/或用其他组件或者它们的等同物进行替换或者补充描述的系统、构架、装置或者电路中的组件，则可获得适当的结果。因此，本公开的范围不由具体实施方式限定，而是由权利要求及其等同物限定，权利要求及其等同物的范围内的所有变化将被解释为包含于本公开中。
Claims (19)
1.一种投影物镜系统，其特征在于，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置：
第一透镜组，所述第一透镜组具有正光焦度；
第二透镜组，所述第二透镜组具有负光焦度，所述第二透镜组满足：f2/L＞-0.1；
第三透镜组，所述第三透镜组具有正光焦度；
第四透镜组，所述第四透镜组具有负光焦度，所述第四透镜组满足：f4/L＞-0.3；
第五透镜组，所述第五透镜组具有正光焦度；
其中，f2为第二透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
2.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组满足：f1/L＜0.4；
所述第三透镜组满足：f3/L＜0.6；
所述第五透镜组满足：f5/L＜2；
其中，f1为第一透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
3.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
4.根据权利要求3所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透明和第六透镜；
所述第四透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；
所述第二透镜和所述第三透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；
所述第五透镜和所述第六透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
5.根据权利要求4所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜均具有正光焦度。
6.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。
7.根据权利要求6所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第七透镜和第八透镜；
所述第七透镜和所述第八透镜均为物方表面和像方表面沿着光轴是凹入的双凹透镜。
8.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
9.根据权利要求8所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第九透镜、第十透镜、第十一透镜和第十二透镜；
所述第十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；
所述第九透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；
所述第十一透镜和所述第十二透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
10.根据权利要求9所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第九透镜至所述第十二透镜的光焦度依次呈现负、正、正、负。
11.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第四透镜组包括至少一个双凹透镜。
12.根据权利要求11所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第四透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十三透镜和第十四透镜；
所述第十三透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凹入的双凹透镜；
所述第十四透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜。
13.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第五透镜组包括至少一片双凸透镜和至少一片具有负光焦度的弯月透镜。
14.根据权利要求13所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第五透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜......第二十四透镜；
所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第二十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；
所述第十七透镜、所述第十八透镜、所述第十九透镜、所述第二十一透镜至所述第二十四透镜均为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜；
所述第十七透镜和所述第十八透镜紧密设置，所述第十九透镜和所述第二十透镜紧密设置。
15.根据权利要求14所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第十八透镜具有负光焦度，所述第二十一透镜、所述第二十二透镜和所述第二十三透镜具有正光焦度。
16.根据权利要求14所述的投影物镜系统，其特征在于，所述投影物镜系统还包括光阑，所述光阑设置于所述第十六透镜和所述第十七透镜之间。
17.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述投影物镜系统还包括第一透镜和第二十五透镜；
所述第一透镜设置于所述第一透镜组的物方侧，所述第二十五透镜设置于所述第五透镜组的像方侧；
所述第一透镜和所述第二十五透镜为平板透镜。
18.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组至所述第五透镜组中的第二透镜的物方表面、第八透镜的物方表面、第十三透镜的像方表面及第十八透镜的像方表面为非球面，且最高非球面度矢高差小于0.1mm。
19.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述投影物镜系统在波长为365nm、谱线宽度为5nm的I线照明下的像方数值孔径为0.62；
所述投影物镜系统的物像距L为1000mm；
所述投影物镜系统的曝光视场为22*22mm；
所述投影物镜系统在氮气环境中的放大倍率为1/5；
所述投影物镜系统在大气环境中的放大倍率为1/5或1/4。
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