CN114326159A - 一种上下电极式隐形眼镜还原仪 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种上下电极式隐形眼镜还原仪，其包括：本体，本体内具有容纳腔，其内容置有储电单元和电路板，电路板与储电单元电连接；和清洗仓，清洗仓设于本体的一侧，其包括有容置仓，容置仓包括左容置仓和右容置仓，左容置仓和右容置仓内均设有一组导电元件，每一组导电元件中至少包括有一个第一导电元件和一个第二导电元件，第一导电元件和第二导电元件分别与电路板电连接，第一导电元件位于第二导电元件的上方，待清洗镜片放置于第一导电元件和第二导电元件之间。本发明的隐形眼镜还原仪，其采用上下式电极设计，使得电极之间电荷的移动方向与待清洗镜片上透氧孔的方向一致，大大增强了隐形眼镜还原仪对隐形眼镜镜片的清理效果。

Description

一种上下电极式隐形眼镜还原仪

技术领域

本发明涉及隐形眼镜清洗技术领域，尤其涉及一种上下电极式隐形眼镜还原仪。

背景技术

随着科技进步，人们生活水平的提高，人们越来越开始注重个人形象，为了美观或行动方便，有相当多近视的人们选择使用隐形眼镜。然而隐形眼镜配戴一段时间后会造成蛋白质沉积，使镜片失去透氧性能，严重的会对眼角膜造成损伤，因此需要在隐形眼镜佩戴一段时间后，对其进行清洗。

目前隐形眼镜最常用的清洗方式是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗液中用手指揉搓以清除镜片上的灰尘、沉积蛋白质、粘液或油渍等秽物，然而清洗方式很容易因手指不洁而对镜片造成二次污染，而且清洗的过程中，费时费力，不够方便。

目前市场上还存在一些隐形眼镜还原仪，采用超声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式，然而：1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上，镜片易受物理破坏，且对电路与频率之间的匹配性要求较高，生产成本也较高；2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌，添加清洁剂使该镜片的粘着物分离，加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性；3)紫外线对细菌有强大的杀伤力，臭氧则是一种良好的氧化及及消毒剂，但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。

为了解决上述问题，市场上又出现了一种还原仪，其基于电泳技术，在用于放置镜片的容置槽内设置正负电极，在电势差的作用下，使得带有电荷的沉积蛋白质或其他秽物向一个电极移动，进而实现沉积蛋白质或其他秽物与隐形眼镜镜片分离。不过现有的还原仪大多采用的是左右式电极针，而一般情况下，隐形眼镜镜片都是平放在清洗仓内的，因此镜片上的透氧孔大多为竖直方向，而左右式电极针则与透氧孔的方向不一致，在对透氧孔内的蛋白质等秽物的清理效果有限。

因此，结合上述存在的技术问题，有必要提出一种新的技术方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种对隐形眼镜镜片清理效果更好的上下电极式隐形眼镜还原仪，其电极之间电荷的移动方向与待清洗镜片上透氧孔的方向一致，大大增强了隐形眼镜还原仪对隐形眼镜镜片的清理效果。

为实现发明目的，根据本发明的一个方面，本发明提供一种上下电极式隐形眼镜还原仪，其包括：本体，所述本体内具有容纳腔，其内容置有储电单元和电路板，所述电路板与所述储电单元电连接；和清洗仓，所述清洗仓设于所述本体的一侧，其包括有容置仓，所述容置仓包括左容置仓和右容置仓，所述左容置仓和右容置仓内均设有一组导电元件，每一组所述导电元件中至少包括有一个第一导电元件和一个第二导电元件，所述第一导电元件和第二导电元件分别与所述电路板电连接，所述第一导电元件位于所述第二导电元件的上方，待清洗镜片放置于所述第一导电元件和第二导电元件之间。

在一个进一步的实施例中，所述清洗仓还包括有清洗中盖和密封盖，所述容置仓位于所述清洗中盖的上端面，且所述容置仓的侧壁自所述清洗仓的上端面向上凸出，所述密封盖卡合于所述容置仓的侧壁上。

在一个进一步的实施例中，所述第一导电元件设于所述密封盖上，所述密封盖上与所述容置仓的侧壁的接触面设有第一导电触点，所述第一导电触点与所述第一导电元件电连接；所述容置仓的侧壁上与所述密封盖的接触面上设有第二导电触点，所述第二导电触点与所述电路板电连接，所述密封盖卡合在所述容置仓的侧壁上时，所述第一导电触点与所述第二导电触点连接。

在一个进一步的实施例中，所述第二导电元件设于所述容置仓的底部，所述第二导电元件与所述电路板电连接。

在一个进一步的实施例中，所述第一导电元件和第二导电元件为网片状。

在一个进一步的实施例中，所述本体由下至上依次包括有本体底座、本体中盖和本体上盖，所述本体上盖的上端面设有安装槽，所述清洗仓能够容纳于所述安装槽内。

在一个进一步的实施例中，所述安装槽内设有转接弹簧针，所述转接弹簧针的电连接部与所述电路板电连接，且所述转接弹簧针的弹簧针部能够与其对应的第二导电触点或第二导电元件连接。

在一个进一步的实施例中，其还包括隔片，所述隔片设于所述安装槽内，且所述隔片上与所述转接弹簧针对应位置开设有通孔，所述转接弹簧针的弹簧针部能够穿过所述通孔与其对应的第二导电触点或第二导电元件连接。

在一个进一步的实施例中，所述清洗仓还包括清洗底座和清洗上盖，所述清洗中盖设于所述清洗底座上，所述清洗上盖活动卡合于所述清洗中盖远离所述清洗底座的一侧，所述清洗上盖内设有平面镜片；所述隔片上还设有限位凸起，所述清洗底座的下端面设有与所述限位凸起对应的限位凹槽。

在一个进一步的实施例中，所述清洗底座和本体内分别设有磁吸装置，所述清洗仓通过所述磁吸装置安装在所述安装槽内；所述本体上盖的外侧面设有导光圈，所述导光圈与所述电路板电连接；所述还原仪还包括有防滑垫，所述防滑垫设于所述本体底座的下端面。

附图说明

图1为本申请的上下电极式隐形眼镜还原仪在一个实施例中的爆炸结构示意图；

图2为本申请的上下电极式隐形眼镜还原仪在一个实施例中的剖视结构示意图。

其中，10-本体，11-本体底座，12-本体中盖，13-本体上盖，131-安装槽，132-转接弹簧针，133-导光圈，14-电路板，20-清洗仓，21-清洗底座，211-限位凹槽，22-清洗中盖，221-左容置仓，222-右容置仓，223-导电元件，2231-第一导电元件，2232-第二导电元件，224-工具凹槽，23-清洗上盖，24-转接导电元件，25-平面镜片，26-密封盖，27-佩戴工具，28-磁吸挡片，30-隔片，31-通孔，32-限位凸起，40-磁吸装置，50-防滑垫。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。

请参阅图1和图2，图1为本申请的上下电极式隐形眼镜还原仪在一个实施例中的爆炸结构示意图，图2为本申请的上下电极式隐形眼镜还原仪在一个实施例中的剖视结构示意图。

实施例

如图1和2所示，本实施例提供了一种上下电极式隐形眼镜还原仪，其包括：本体10，所述本体10内具有容纳腔，其内容置有储电单元和电路板14。所述电路板14与所述储电单元电连接。和清洗仓20，所述清洗仓20设于所述本体10的一侧。其包括有容置仓，所述容置仓包括左容置仓221和右容置仓222，所述左容置仓221和右容置仓222内均设有一组导电元件223。每一组所述导电元件223中至少包括有一个第一导电元件2231和一个第二导电元件2232。所述第一导电元件2231和第二导电元件2232分别与所述电路板14电连接。所述第一导电元件2231位于所述第二导电元件2232的上方。本实施例中以所述左容置仓221和右容置仓222内均设置一个第一导电元件2231和一个第二导电元件2232为例，如图1所示。其中，所述第一导电元件2231和第二导电元件2232均优选采用一种特殊材质制成的网片作为电极，且所述第一导电元件2231位于所述第二导电元件2232的正上方。待清洗镜片放置于所述第一导电元件2231和第二导电元件2232之间。所述第一导电元件2231和第二导电元件2232一个作为正极电极，一个为负极电极，两者的正负极可以根据需要进行调整。当然这仅是一种优选方案，所述左容置仓221和/或右容置仓222均也可以设置多组导电元件223，且每一组可以包括多个所述第一导电元件2231或第二导电元件2232。

在一个进一步地实施例中，所述清洗仓20还包括有清洗中盖22和密封盖26。所述容置仓位于所述清洗中盖22的上端面，且所述容置仓的侧壁自所述清洗仓20的上端面向上凸出，所述密封盖26卡合于所述容置仓的侧壁上。所述第一导电元件2231设于所述密封盖26上，所述密封盖26上与所述容置仓的侧壁的接触面设有第一导电触点，所述第一导电触点与所述第一导电元件2231电连接。所述容置仓的侧壁上与所述密封盖26的接触面上设有第二导电触点，所述第二导电触点与所述电路板14电连接。所述第一导电触点可以是一种预埋或注塑在所述密封盖26侧壁内螺纹内的导电结构，比如一种导电环或导电片等，同时，所述第二导电触点是预埋或注塑在所述容置仓侧壁外螺纹内的导电结构，比如一种导电环或导电片等。所述第一导电触点和第二导电触点均露出其所在结构，在所述密封盖26与所述容置仓侧壁通过螺纹连接时，所述第一导电触点和第二导电触点能刚好接触连接，实现所述第一导电元件2231的电路连通。又或所述密封盖26直接卡合在所述容置仓侧壁上，所述第一导电触点为一种预埋或注塑在所述密封盖26侧壁内的一个或多个具有弹性的导电凸起，所述第二导电触点为一种预埋或注塑在所述容置仓侧壁外的导电环，所述导电环的外壁可以与所述容置仓的外壁对齐，也可以是所述导电环的外壁略凹于所述容置仓的外壁，形成一个限位槽，在所述密封盖26卡合在所述容置仓的侧壁时，所述密封盖26上的导电凸起与所述容置仓侧壁上的导电环接触连接，同时，所述导电凸起刚好卡合在所述限位槽内，起到一定限位作用。当然，所述导电凸起和导电环还可以分别设置在所述容置仓的侧壁和所述密封盖26的内壁上，原理是一样的，在此不再赘述。同样，以上仅是优选方案，所述第一导电触点和第二导电触点的形状、结构或两者之间的接触方式都是可设计的，只要能够实现在所述密封盖26卡合在所述容置仓侧壁时，所述第一导电触点和第二导电触点可以连接的结构均在本申请的保护范围之内。

所述第二导电元件2232设于所述容置仓的底部，所述第二导电元件2232与所述电路板14电连接。

在一个进一步的实施例中，所述本体10由下至上依次包括有本体底座11、本体中盖12和本体上盖13。所述本体上盖13的上端面设有安装槽131，所述清洗仓20能够容纳于所述安装槽131内。所述安装槽131内设有转接弹簧针132，所述转接弹簧针132的电连接部与所述电路板14电连接，且所述转接弹簧针132的弹簧针部能够与其对应的第二导电触点或第二导电元件2232连接。

所述清洗仓20还包括清洗底座21和清洗上盖23，所述清洗中盖22设于所述清洗底座21上，所述清洗上盖23活动卡合于所述清洗中盖22远离所述清洗底座21的一侧。所述清洗底座21内可以设置多个转接导电元件24，该转接导电元件24的底端穿过所述清洗底座21的底表面与外部连通，且每一个导电元件223对应连接一个转接导电元件24，如图1所示，本实施例优选的左容置仓221和右容置仓222内各设置一个第一导电元件2231和第二导电元件2232，共四个导电元件223，故实施例中也配合设置有四个转接导电元件24。每一个转接导电元件24对应一个转接弹簧针132，即在所述清洗仓20放置在所述安装槽131内时，所述转接导电元件24的底部可以与所述转接弹簧针132的弹簧针部连接，故而实现所述导电元件223与所述电路板14之间的电连通。当然，所述导电元件223还可以通过其他方式与所述转接弹簧针132连接。比如在所述清洗底座21内设置两个导电弹片，所述导电弹片具有接入部和输出部，所述接入部可以预埋在所述清洗底座21内并贯穿所述清洗底座21的底面与外部连通，输出部分别与所述左容置仓221和右容置仓222内的全部第一导电元件2231连接，或者全部第二导电元件2232连接，使得两个导电弹片一个为正极弹片，另一个为负极弹片。同时，只需在所述本体底座11内与所述接入部对应位置设置两个转接弹簧针132即可，一个与电路板14的正极连接，另一个与负极连接。这样同样可以保证在所述清洗仓20放置在所述安装槽131内时，实现所述导电元件223与所述电路板14之间的电连通。

在一个进一步的实施例中，所述还原仪还包括隔片30，所述隔片30设于所述安装槽131内，且所述隔片30上与所述转接弹簧针132对应位置开设有通孔31，所述转接弹簧针132的弹簧针部能够穿过所述通孔31与其对应的第二导电触点或第二导电元件2232连接。所述清洗底座21和本体10内分别设有磁吸装置40，所述清洗仓20通过所述磁吸装置40安装在所述安装槽131内。优选的，所述磁吸装置40为磁铁，所述清洗底座21底端和本体上盖13的所述安装槽131的下方均设置一个或多个磁块，也可以是磁环。当然，也可以是所述清洗底座21和本体上盖13内一个设置磁铁另一个设置铁片，又或其他可磁吸的设备等等，均在本申请的保护范围内。所述隔片30上还设有限位凸起32，所述清洗底座21的下端面设有与所述限位凸起32对应的限位凹槽211。当使用者使用还原仪时只需将所述清洗底座21的限位凹槽211与所述本体上盖13上的限位凸起32对齐，当所述清洗仓20的底端靠近所述限位凹槽211时，在磁力的作用下，所述清洗仓20则会被牢牢的吸附在所述安装槽131内，且所述限位凸起32卡合在所述限位凹槽211内，有效的起到了限位清洗仓20的作用。

在一个进一步的实施例中，所述清洗中盖22的一端通过转轴与所述清洗中盖22可转动连接，另一端与清洗中盖22磁吸连接。如图1中所示，可在清洗中盖22上设置磁吸挡片28，在清洗上盖23对应位置设置磁铁或铁片，这样，在所述清洗上盖23闭合接近所述清洗中盖22时，在磁力的作用下，所述清洗上盖23被牢牢的闭合。同时，在所述清洗上盖23内还设有平面镜片25，使用者可以使用所述平面镜片25协助佩戴隐形眼镜。

在一个进一步的实施例中，在所述清洗中盖22上还设有工具凹槽224，用于放置一些佩戴工具27，比如镊子，吸盘杆等等。所述本体上盖13的外侧面设有导光圈133，所述导光圈133与所述电路板14电连接。优选的，所述导光圈133采用灯带，在使用的过程中，所述导光圈133工作发光，一方面可以起到装饰美观的作用，另一方面也可以起到呼吸灯的作用，提醒使用者设备正在运行。

同时，所述还原仪还包括有防滑垫50，所述防滑垫50设于所述本体底座11的下端面。图中展示的是一环状的防滑垫50，当然防滑垫50不限定在这一种形状，在生产的过程中可以根据需要或产品形状进行设计。

与现有技术相比，本发明的上下电极式隐形眼镜还原仪，其电极之间电荷的移动方向与待清洗镜片上透氧孔的方向一致，大大增强了隐形眼镜还原仪对隐形眼镜镜片的清理效果。

在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。

在本文中，所涉及的前、后、上、下等方位词是以附图中零部件位于图中以及零部件相互之间的位置来定义的，只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解，所述方位词的使用不应限制本申请请求保护的范围。

在不冲突的情况下，本文中上述实施例及实施例中的特征可以相互结合。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，其包括：

本体(10)，所述本体(10)内具有容纳腔，其内容置有储电单元和电路板(14)，所述电路板(14)与所述储电单元电连接；和

清洗仓(20)，所述清洗仓(20)设于所述本体(10)的一侧，其包括有容置仓，所述容置仓包括左容置仓(221)和右容置仓(222)，所述左容置仓(221)和右容置仓(222)内均设有一组导电元件(223)，每一组所述导电元件(223)中至少包括有一个第一导电元件(2231)和一个第二导电元件(2232)，所述第一导电元件(2231)和第二导电元件(2232)分别与所述电路板(14)电连接，所述第一导电元件(2231)位于所述第二导电元件(2232)的上方，待清洗镜片放置于所述第一导电元件(2231)和第二导电元件(2232)之间。

2.根据权利要求1所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述清洗仓(20)还包括有清洗中盖(22)和密封盖(26)，所述容置仓位于所述清洗中盖(22)的上端面，且所述容置仓的侧壁自所述清洗仓(20)的上端面向上凸出，所述密封盖(26)卡合于所述容置仓的侧壁上。

3.根据权利要求2所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述第一导电元件(2231)设于所述密封盖(26)上，所述密封盖(26)上与所述容置仓的侧壁的接触面设有第一导电触点，所述第一导电触点与所述第一导电元件(2231)电连接；

所述容置仓的侧壁上与所述密封盖(26)的接触面上设有第二导电触点，所述第二导电触点与所述电路板(14)电连接，所述密封盖(26)卡合在所述容置仓的侧壁上时，所述第一导电触点与所述第二导电触点连接。

4.根据权利要求3所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述第二导电元件(2232)设于所述容置仓的底部，所述第二导电元件(2232)与所述电路板(14)电连接。

5.根据权利要求1所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述第一导电元件(2231)和第二导电元件(2232)为网片状。

6.根据权利要求4所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述本体(10)由下至上依次包括有本体底座(11)、本体中盖(12)和本体上盖(13)，所述本体上盖(13)的上端面设有安装槽(131)，所述清洗仓(20)能够容纳于所述安装槽(131)内。

7.根据权利要求4所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述安装槽(131)内设有转接弹簧针(132)，所述转接弹簧针(132)的电连接部与所述电路板(14)电连接，且所述转接弹簧针(132)的弹簧针部能够与其对应的第二导电触点或第二导电元件(2232)连接。

8.根据权利要求7所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

其还包括隔片(30)，所述隔片(30)设于所述安装槽(131)内，且所述隔片(30)上与所述转接弹簧针(132)对应位置开设有通孔(31)，所述转接弹簧针(132)的弹簧针部能够穿过所述通孔(31)与其对应的第二导电触点或第二导电元件(2232)连接。

9.根据权利要求8所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述清洗仓(20)还包括清洗底座(21)和清洗上盖(23)，所述清洗中盖(22)设于所述清洗底座(21)上，所述清洗上盖(23)活动卡合于所述清洗中盖(22)远离所述清洗底座(21)的一侧，所述清洗上盖(23)内设有平面镜片(25)；

所述隔片(30)上还设有限位凸起(32)，所述清洗底座(21)的下端面设有与所述限位凸起(32)对应的限位凹槽(211)。

10.根据权利要求8所述的上下电极式隐形眼镜还原仪，其特征在于，

所述清洗底座(21)和本体(10)内分别设有磁吸装置(40)，所述清洗仓(20)通过所述磁吸装置(40)安装在所述安装槽(131)内；

所述本体上盖(13)的外侧面设有导光圈(133)，所述导光圈(133)与所述电路板(14)电连接；

所述还原仪还包括有防滑垫(50)，所述防滑垫(50)设于所述本体底座(11)的下端面。

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