CN114318428B - 一种挠性电解铜箔的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种挠性电解铜箔的制备方法,包括:将电解毛箔依次经过预热区预热、拉伸区热拉伸、定型区加热定型,最后进行常规表面处理得到挠性电解铜箔。本发明制备的铜箔挠曲性能优异,具有较高的高温延伸率,同时保持较好的耐热性,在柔性电路板用途中有很好的应用前景。
Description
技术领域
本发明属于铜箔领域,特别涉及一种挠性电解铜箔的制备方法。
背景技术
挠性电路板具有柔性,摆脱了常规电路平面设计的局限性,可以向三维空间布置线路,其电路更加灵活,技术含量更高。而压延铜箔也由于其本身的柔韧性及抗折弯性,是目前制造挠性印制电路板的主流选择。但压延铜箔的缺点也很明显:一、制造成本较高,对工艺以及设备水平要求很高;二、压延铜箔较厚,受工艺方法所限,很难做薄,因此很难应用在线宽线距50微米以下的高密度挠性印制电路中。这些都限制了压延铜箔的进一步发展和应用。
为了满足挠性板的制造需求,电解铜箔除了应具有与刚性板铜箔一样的电气物理性能外,还应满足以下三点要求:一、具备较好的挠曲性能,一般压延铜箔耐弯折次数是电解铜箔的好几倍;二、具有更高的延伸率,通常刚性板要求4%的延伸率就可满足,挠性版要具有6%以上的延伸率,以适应其耐折性;三、具备较好的耐高温性能,通常两层法FCCL,尤其是涂布法制造2L-FCCL,要承受加热过程中的高温拉力,如果高温下机械强度不够将导致生产无法进行。
针对以上问题,通常采用引入新的添加剂、低温退火等方法。一般电解铜箔有着在厚度方向呈现柱状结构组织发达的特性,目前的方法对这种柱状结构组织改变有限。电解铜箔在反复折动挠曲测试时,裂纹通过在柱状结构组织的晶界界面逐渐传播,使得在折动挠曲运动的较早期时就造成铜箔的结构破坏。此外,现有方法很难实现同时提高电解铜箔的挠曲性能、高温延伸率和耐高温性能。因此,为了解决以上问题,扩大电解铜箔在挠性电路板领域的应用,需要进一步开发新的改善挠曲性能的工艺方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种挠性电解铜箔的制备方法,该方法制备的铜箔挠曲性能优异,具有较高的高温延伸率,同时保持较好的耐热性,在柔性电路板用途中有很好的应用前景。
本发明提供了一种挠性电解铜箔的制备方法,包括:
将电解毛箔依次经过预热区预热、拉伸区热拉伸、定型区加热定型,最后进行常规表面处理得到挠性电解铜箔;其中,预热区温度为600-900℃,拉伸区温度为600-900℃,定型区温度为100-400℃。
所述电解毛箔厚度在210μm以下。
所述热拉伸倍率为1.5-3倍。
所述热拉伸倍率通过在拉伸区设置不同的辊速比实现。
所述热拉伸的比例为60-80%。
所述热拉伸前使用压辊压住拉伸辊。
所述表面处理步骤为酸洗-粗化-固化-灰化-钝化-硅烷涂覆-烘干。
本发明采用加热拉伸的方式。首先,电解得到的毛箔剥离后通过辊传输进入预热区,通过风管进行加热,使铜箔尽快达到拉伸时所需温度,然后进入拉伸区,通过设置不同辊速,对铜箔进行拉伸,高温条件下铜原子运动速率加快,铜箔软化,在拉伸应力作用下,铜箔发生再结晶,同时晶体结构发生转变;最后铜箔经过定型区,在一定张力条件下进行低温热处理,消除铜箔在拉伸过程中产生的内应力,得到尺寸稳定性良好的铜箔。最后,再经过酸洗-粗化-固化-灰化-钝化-硅烷涂覆-烘干的常规表面处理手段得到成品箔。
有益效果
本发明可以同时提高电解铜箔的挠曲性能、高温延伸率和耐高温性能;工艺简单,适用范围宽,便于控制;制备的铜箔挠曲性能优异,具有较高的高温延伸率,同时保持较好的耐热性,在柔性电路板用途中有很好的应用前景。
附图说明
图1为本发明的工艺流程示意图;
图2(a)和(c)分别为一般电解铜箔(对比例1)的平面和截面EBSD晶体方位图;(b)和(d)分别实施例2的平面和截面EBSD晶体方位图。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
实施例1
电解机台生产35μm规格毛箔后,依次进行以下处理:
(1)步骤一:电解毛箔进入预热区预热,预热区设置温度为650℃,使铜箔在拉伸前尽快达到拉伸温度。
(2)步骤二:拉伸区加热拉伸,拉伸区设置温度为650℃,如图1所示,设置拉伸区辊2与辊1速度比为1.6:1,辊2后面的辊速保持与辊2速度一致。对铜箔进行60%的拉伸处理。
(3)步骤三:定型区加热定型,定型区设置温度为250℃,消除拉伸应力。
(4)步骤四:进行常规的表面处理,对经上述处理后的铜箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。
实施例2
电解机台生产35μm规格毛箔后,依次进行以下处理:
(1)步骤一:电解毛箔进入预热区预热,预热区设置温度为750℃,使铜箔在拉伸前尽快达到拉伸温度。
(2)步骤二:拉伸区加热拉伸,拉伸区设置温度为750℃,如图1所示,设置拉伸区辊2与辊1速度比为1.7:1,辊2后面的辊速保持与辊2速度一致。对铜箔进行70%的拉伸处理。
(3)步骤三:定型区加热定型,定型区设置温度为250℃,消除拉伸应力。
(4)步骤四:进行常规的表面处理,对经上述处理后的铜箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。
实施例3
电解机台生产35μm规格毛箔后,依次进行以下处理:
(1)步骤一:电解毛箔进入预热区预热,预热区设置温度为850℃,使铜箔在拉伸前尽快达到拉伸温度。
(2)步骤二:拉伸区加热拉伸,拉伸区设置温度为850℃,如图1所示,设置拉伸区辊2与辊1速度比为1.8:1,辊2后面的辊速保持与辊2速度一致。对铜箔进行80%的拉伸处理。
(3)步骤三:定型区加热定型,定型区设置温度为250℃,消除拉伸应力。
(4)步骤四:进行常规的表面处理,对经上述处理后的铜箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。
实施例4
电解机台生产35μm规格毛箔后,依次进行以下处理:
(1)步骤一:电解毛箔进入预热区预热,预热区设置温度为750℃,使铜箔在拉伸前尽快达到拉伸温度。
(2)步骤二:拉伸区加热拉伸,拉伸区设置温度为750℃,如图1所示,设置拉伸区辊2与辊1速度比为1.3:1,辊3速度与辊2速度一致,辊4与辊3速度比为1.3:1,后面的辊速保持与4速度一致。对铜箔进行两步拉伸处理,最终拉伸比例为70%。
(3)步骤三:定型区加热定型,定型区设置温度为120℃,处理时间为5min。
(4)步骤四:进行常规的表面处理,对经上述处理后的铜箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。
对比例1
采用普通生产工艺:先电解生产35μm毛箔,然后对毛箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。电解过程参数如下:
Cu2+:100g/L,
H2SO4:120g/L,
温度:58℃
电流密度:450A/m2
对比例2
采用羟乙基纤维素(HEC)添加剂工艺:电解生产35μm毛箔过程中,在电解液中引入HEC添加剂,其中电解液中HEC添加剂浓度控制在2mg/L。对经上述处理后的毛箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。电解过程参数如下:
对比例3
采用低温退火工艺:电解机台生产35μm毛箔后,采用酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理流程,然后放入烤箱中,在250℃下低温退火1h得到35μm规格的成品铜箔。
对比例4
电解机台生产35μm规格毛箔后,依次进行以下处理:
(1)步骤一:电解毛箔进入预热区预热,预热区设置温度为500℃,使铜箔在拉伸前尽快达到拉伸温度。
(2)步骤二:拉伸区加热拉伸,拉伸区设置温度为500℃,如图1所示,设置拉伸区辊2与辊1速度比为1.6:1,辊2后面的辊速保持与辊2速度一致。对铜箔进行60%的拉伸处理。
(3)步骤三:定型区加热定型,定型区设置温度为250℃,消除拉伸应力。
(4)步骤四:进行常规的表面处理,对经上述处理后的铜箔进行酸洗-粗化-固化-粗化-固化-镀锌灰化-镀铬钝化-硅烷涂覆-烘干的铜箔表面处理,得到35μm规格的成品铜箔。
对上述实施例和对比例制备的电解铜箔进行性能测试,结果统计如表1所示。
表1.实施例和对比例制备35μm铜箔性能对比
分析表1可以发现:(1)经过加热拉伸处理后,铜箔的常温和高温下的抗拉强度和延伸率都得到改善,且随着拉伸比例增加,改善效果越明显;(2)经过加热拉伸处理后,铜箔的耐弯折性能较对比例提高了一倍左右,且随着拉伸比例增加,改善效果越明显;(3)对比实施例3和实施例4,两步拉伸比一步拉伸更有效。(4)通过比较实施例1、对比例1和对比例4,当铜箔在较低的温度下进行拉伸时,对抗拉强度、延伸率以及耐弯折性能提升不明显。
图2可看到铜箔经加热拉伸后,晶体尺寸明显增加,晶粒内的等轴晶被拉长,出现大量的位错,晶粒取向从{101}向{112}转变,这有利于提高铜箔的延伸率和抗拉强度。同时电解铜箔的柱状晶体结构被破坏,转变为类似压延铜箔的层状晶体结构。这种晶体结构不利于传播粒子界面内的裂纹,从而表现出优异的耐弯折性能。
Claims (4)
1.一种挠性电解铜箔的制备方法,包括:
将电解毛箔依次经过预热区预热、拉伸区热拉伸、定型区加热定型,最后进行常规表面处理得到挠性电解铜箔;其中,预热区温度为600-900 ℃,拉伸区温度为600-900 ℃,定型区温度为100-400 ℃;所述电解毛箔厚度在210 μm以下;所述热拉伸的拉伸倍率为1.5-3倍,所述热拉伸的拉伸倍率通过在拉伸区设置不同的辊速比实现。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述热拉伸的比例为60-80%。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述热拉伸前使用压辊压住拉伸辊。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述表面处理步骤为酸洗-粗化-固化-灰化-钝化-硅烷涂覆-烘干。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1236689A (zh) * | 1999-05-10 | 1999-12-01 | 姜利棠 | 无焊接动触头联接体及其生产工艺 |
JP2006152420A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解銅箔及びその製造方法 |
JP2014077182A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-01 | Sh Copper Products Corp | 圧延銅箔 |
CN110093637A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-06 | 九江德福科技股份有限公司 | 用于挠性覆铜板、挠性印制电路板的电解铜箔及制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI539033B (zh) * | 2013-01-07 | 2016-06-21 | Chang Chun Petrochemical Co | Electrolytic copper foil and its preparation method |
-
2021
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1236689A (zh) * | 1999-05-10 | 1999-12-01 | 姜利棠 | 无焊接动触头联接体及其生产工艺 |
JP2006152420A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解銅箔及びその製造方法 |
JP2014077182A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-01 | Sh Copper Products Corp | 圧延銅箔 |
CN110093637A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-06 | 九江德福科技股份有限公司 | 用于挠性覆铜板、挠性印制电路板的电解铜箔及制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
FPC用电解铜箔――HL铜箔;蔡积庆;印制电路信息(第06期);第21-24页 * |
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